CN212051642U - 一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，包括依次连接的进料门、材料蒸发池、材料裂解池、镀膜腔体，镀膜腔体依次通过管道连接冷阱、机械真空泵，镀膜腔体与冷阱之间的管道上连接慢开截止阀；在镀膜腔体和冷阱之间增加了可控慢开截止阀，将镀膜腔体抽真空的初始抽速降低，从而有效地避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋，进而能够避免被镀湿度敏感器件被湿气涡流损坏的问题；通过真空计的反馈信号闭环控制镀膜腔体抽真空和破真空的整个过程，从而有利于实现各个阶段真空度和抽速的自动化控制，管道上缠绕的加热带控制管道温度，有效地避免出现抽真空通道被蒸镀材料堵塞的现象。
Description
技术领域
本实用新型属于镀膜设备技术领域，具体涉及一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备。
背景技术
Parylene(派瑞林C)是对二甲苯化合物的环形二聚体，也是直链型聚对二甲苯的单体，在四十年代后期由英国曼彻斯特大学研究高分子的一位化学家首次分离出，后来Union Carbide公司的科学家威廉戈罕开发了一种气相沉积方法来实现该材料成膜，Parylene及其成膜技术最早用于美国的军事和航天技术，到1990年代才开始民用化。派瑞林C是一种纳米结构的致密薄膜，因此，具有很多其他薄膜不具有的独特优点，如可以根据复杂表面的形态进行等厚度成膜从而形成完全敷型性，具有极低的水分子渗透率和良好的机械性能，因其特有的优越性能被广泛应用于各个领域，如医用材料、医疗器械、文物保护、稀土类磁石和其他有高度特性要求的电子部件。
派瑞林C材料的化学气相沉积设备一般是由真空系统、材料热蒸发池、材料裂解池、沉积镀膜腔体组成；真空系统是由机械真空泵和冷阱组成。目前的派瑞林C材料化学气相沉积设备在初期抽真空阶段，由于机械真空泵的强大初始抽力，会造成镀膜腔体内形成强烈的湿气涡流，如果用这样的设备对湿度敏感器件进行防水封装，会因为湿气涡流直接损坏被蒸镀的湿度敏感器件。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋。
本实用新型采用的技术方案是，一种防止形成湿气涡流化学气相沉积蒸镀设备，包括依次连接材料蒸发池、材料裂解池、镀膜腔体，材料蒸发池连接进料门，镀膜腔体依次通过管道连接冷阱、机械真空泵，镀膜腔体与冷阱之间的管道上连接慢开截止阀。
本实用新型的特点还在于：
慢开截止阀为电磁控制截止阀。
冷阱与机械真空泵之间的管道上连接球阀。
镀膜腔体与冷阱之间的管道上还连接第二真空计。
镀膜腔体上端连接腔体上盖。
镀膜腔体上部侧壁开设偶联剂进料口。
镀膜腔体下部侧壁连接漏气阀。
镀膜腔体下部侧壁上还连接延伸至腔体内的第一真空计。
腔体上盖上和镀膜腔体侧壁上均连接观察窗。
镀膜腔体与管道连接处连接加热带。
本实用新型有益效果是：
本实用新型一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备中，在镀膜腔体和冷阱之间增加了可控慢开截止阀，将镀膜腔体抽真空的初始抽速降低，从而有效地避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋，进而能够避免被镀湿度敏感器件被湿气涡流损坏的问题；通过真空计的反馈信号闭环控制镀膜腔体抽真空和破真空的整个过程，从而有利于实现各个阶段真空度和抽速的自动化控制，管道上缠绕的加热带控制管道温度，有效地避免出现抽真空通道被蒸镀材料堵塞的现象。
附图说明
图1为本实用新型中一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备结构示意图。
图中，1.材料蒸发池，2.材料裂解池，3.镀膜腔体，4.冷阱，5.机械真空泵，6.进料门，7.腔体上盖，8.观察窗，9.第一真空计，10.第二真空计，11.漏气阀，12.球阀，13.慢开截止阀，14.加热带，15.偶联剂进料口。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。
本实用新型一种防止形成湿气涡流化学气相沉积蒸镀设备，如图1所示，包括依次连接材料蒸发池1、材料裂解池2、镀膜腔体3，材料蒸发池1连接进料门6，镀膜腔体3依次通过管道连接冷阱4、机械真空泵5，镀膜腔体3与冷阱4之间的管道上连接慢开截止阀13。
慢开截止阀13为电磁控制截止阀，或可为控制气体流量的手动或者电动的截止阀门。
冷阱4与机械真空泵5之间的管道上连接球阀12。
镀膜腔体3与冷阱4之间的管道上还连接第二真空计10。
镀膜腔体3上端连接腔体上盖7。
镀膜腔体3上部侧壁开设偶联剂进料口15。
镀膜腔体3下部侧壁连接漏气阀11。
镀膜腔体3下部侧壁上还连接延伸至腔体内的第一真空计9。
腔体上盖7上和镀膜腔体3侧壁上均连接观察窗8。
镀膜腔体3与管道连接处连接加热带14。
本实用新型一种防止形成湿气涡流化学气相沉积蒸镀设备中各部分的作用如下：
材料蒸发池1内置加热系统，能够用来盛放待蒸镀材料，通过加热系统控制材料的蒸发气化，其加热系统连接控制系统，能够实现加热的自动控制。
材料裂解池2能够通过温度调节，使材料蒸发池1中气化的材料高温裂解，形成单体结构气体，并在高气压下使单体结构气体进入镀膜腔体3。
镀膜腔体3用来盛放被镀产品、并进行镀膜作业，单体结构气体能够在被镀产品表面沉积成膜。
冷阱4内设置降温系统，能够局部降温，还能够吸附收集镀膜沉积的剩余气体，避免剩余气体进入机械真空泵5防止污染机械真空泵5，机械真空泵5与材料蒸发池1蒸发出的气体在整个腔体内达到相对动态平衡，在镀膜过程中实现相对镀膜腔体3内稳定的真空度。
机械真空泵5能够对冷阱4进行抽真空。
通过进料门6将蒸镀材料放入材料蒸发池1。
第一真空计9能够测量镀膜腔体3内的真空度。
第二真空计10能够测量冷阱4内的真空度。
漏气阀11能够对镀膜腔体3进行泄压。
球阀12能够关闭冷阱4与机械真空泵5的连通管道。
慢开截止阀13是一种电磁控制截止阀，连接控制系统，能够根据控制系统调节慢开截止阀13的打开程度。
加热带14可以控制管道温度，减少镀膜腔体3与管道之间温度陡变造成的材料在此处的沉积，有效地避免抽真空通道被待镀膜材料堵塞。
偶联剂进料口15用于放入偶联剂。
本实用新型一种防止形成湿气涡流化学气相沉积蒸镀设备的使用方法如下：
使用前，将机械真空泵5、第一真空计9、第二真空计10、加热带14、慢开截止阀13、球阀12均连接控制系统。
以派瑞林C为待蒸镀材料，进行说明。
将被镀产品放置在镀膜腔体3。然后依次开启冷阱4，将冷阱温度降到-80℃以下，由控制系统控制依次打开机械真空泵5、球阀12，开始对冷阱4进行排气，当第二真空计10测量的真空气压值达到1.0E-1Torr后控制系统控制打开慢开截止阀13对镀膜腔体3进行抽真空，慢开截止阀13的开度由第一真空计9的反馈信号控制，将镀膜腔体3内的真空压力下降速率控制在1.0Torr/分钟以下。
同时，将纯度为99％的派瑞林C粉末通过进料门6加入材料蒸发池1，启动加热系统，使派瑞林C加热气化，气化材料进入材料裂解池2，通过650度以上的高温裂解派瑞林C，将派瑞林C(对二甲苯二聚体)裂解成单体结构气体，该单体结构气体流入镀膜腔体3，在镀膜腔体3内实现对被镀产品进行镀膜；需要偶联剂时由偶联剂进料口15放入。镀膜作业期间由第一真空计9的反馈信号控制材料蒸发池1的加热系统，使得材料蒸发池1的蒸发速率与机械真空泵的抽气速率达到平衡，最终控制镀膜腔体3的真空度在预设范围值内。待镀膜作业完成后，再由控制系统控制依次关闭慢开截止阀13、球阀12，停止真空泵5，打开漏气阀11，完成破真空，打开腔体取出镀膜产品。
通过上述方式，本实用新型提高了一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，在镀膜腔体和冷阱之间增加了可控慢开截止阀，将镀膜腔体抽真空的初始抽速降低，从而有效地避免了镀膜腔体压力陡然下降而造成的湿气涡旋，进而能够避免被镀湿度敏感器件被湿气涡流损坏的问题；通过真空计的反馈信号闭环控制镀膜腔体抽真空和破真空的整个过程，从而有利于实现各个阶段真空度和抽速的自动化控制，管道上缠绕的加热带控制管道温度，有效地避免出现抽真空通道被蒸镀材料堵塞的现象。
Claims (10)
1.一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，包括依次连接材料蒸发池（1）、材料裂解池（2）、镀膜腔体（3），所述材料蒸发池（1）连接进料门（6），所述镀膜腔体（3）依次通过管道连接冷阱（4）、机械真空泵（5），所述镀膜腔体（3）与冷阱（4）之间的管道上连接慢开截止阀（13）。
2.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述慢开截止阀（13）为电磁控制截止阀。
3.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述冷阱（4）与机械真空泵（5）之间的管道上连接球阀（12）。
4.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）与冷阱（4）之间的管道上还连接第二真空计（10）。
5.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）上端连接腔体上盖（7）。
6.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）上部侧壁开设偶联剂进料口（15）。
7.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）下部侧壁连接漏气阀（11）。
8.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）下部侧壁上还连接延伸至腔体内的第一真空计（9）。
9.根据权利要求5所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述腔体上盖（7）上和镀膜腔体（3）侧壁上均连接观察窗（8）。
10.根据权利要求1所述一种防止形成湿气涡流的化学气相沉积蒸镀设备，其特征在于，所述镀膜腔体（3）与管道连接处连接加热带（14）。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115572962A (zh) * | 2022-10-10 | 2023-01-06 | 松山湖材料实验室 | 曲面腔镀膜的cvd设备 |
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2020
- 2020-04-27 CN CN202020664903.0U patent/CN212051642U/zh active Active
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