CN211801273U - 一种碳酸钙研磨装置 - Google Patents
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Abstract
一种碳酸钙研磨装置,包括筒体(10)、机架(20)、研磨机构、驱动机构和吸尘装置。所述筒体安装在机架上,研磨机构安装在筒体中心位置,驱动机构驱动研磨机构工作。所述筒体设有进料口(11)和尘气出口(12);所述研磨机构包括磨环(31)和若干层转盘(32),所述磨环固定在筒体的底部,若干层转盘同轴固定且设置在磨环内,每一转盘的边缘转动设有磨辊(33),所述磨辊与磨环内壁形成研磨空间。本实用新型每层转盘的边缘都设有磨辊,块状碳酸钙经过若干层磨辊研磨后能够形成粉末状碳酸钙,研磨后的碳酸钙能够到达要求;上散料盘和下散料盘使得进入筒体内的碳酸钙尽可能分散在转盘的边缘,提高了研磨效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种碳酸钙研磨装置,属精细化工设置技术领型。
背景技术
在建筑行业,需要将块状的碳酸钙粉碎成粉末状,如碳酸钙,为了将碳酸钙研磨设备粉碎成粉状,需要使用粉碎装置,现有的粉碎装置只能一层一层的粉碎,操作起来困难,耗费劳动力,粉碎的颗粒不是很细小。
发明内容
本实用新型的目的是,针对现有碳酸钙研磨设备存在的问题,为了将碳酸钙研磨设备粉碎成粉状,提出一种碳酸钙研磨装置。
本实用新型的技术方案如下,一种碳酸钙研磨装置,包括筒体、机架、研磨机构、驱动机构和吸尘装置;所述筒体安装在机架上,研磨机构安装在筒体中心位置,驱动机构驱动研磨机构工作;所述筒体为一立式圆筒形结构,设有进料口和尘气出口;所述研磨机构包括磨环和若干层转盘,所述磨环固定在筒体的底部,若干层转盘同轴固定且设置在磨环内,每一转盘的边缘转动设有磨辊,所述磨辊与磨环内壁形成研磨空间。
所述研磨机构还包括上散料盘和下散料盘,所述上散料盘固定在最顶部转盘的上表面;所述下散料盘固定在最底部转盘的下表面。
所述驱动机构包括减速电机和联轴器,所述减速电机通过联轴器带动转盘转动。
所述吸尘装置设置在尘气出口内与筒体的界面上,所述吸尘装置包括叶轮以及带动叶轮转动的吸尘电机,当吸尘电机驱动叶轮转动时,筒体内被磨碎的粉尘沿着尘气出口流出。
所述进料管的底部指向最顶部转盘的中心。
所述磨环外壁与筒体内壁之间设有缓冲件,所述缓冲件靠近磨环的顶部边缘。
所述机架的底部设有支撑底座。
本实用新型的有益效果是,本实用新型在每层转盘的边缘都设有磨辊,块状碳酸钙经过若干层磨辊研磨后能够形成粉末状碳酸钙,研磨后的碳酸钙能够到达要求;上散料盘和下散料盘使得进入筒体内的碳酸钙尽可能分散在转盘的边缘,提高研磨效果;结构简单,研磨成本低;经过多层研磨后,研磨的颗粒细小。
附图说明
图1为本实用新型一种碳酸钙研磨装置的结构示意图;
图中,10为筒体;11为进料口;12为尘气出口;20为机架;21为轴承;22为支撑底座;31为磨环;32为转盘;33为磨辊;34为下散料盘;35为辊销;41为减速电机;42为联轴器;51为叶轮;52为吸尘电机。
具体实施方式
实施例1
如图1所示,本实施例一种碳酸钙研磨设备,包括筒体10,支撑筒体10的机架20,研磨机构以及驱动研磨机构运作的驱动机构。所述筒体10设有进料口11和尘气出口12,所述研磨机构包括磨环31和若干层转盘32,所述磨环31固定在筒体10的底部,若干层所述转盘32同轴固定且转动设置在磨环31内,每一转盘32的边缘转动设有磨辊33,所述磨辊33与磨环31内壁形成研磨空间。
如图1所示,块状的碳酸钙从进料口11放入筒体10内,碳酸钙填充在磨辊33与磨环31内壁之间的研磨空间内,驱动机构驱动转盘32转动,转盘32带动磨辊33转动,磨辊33与磨环31产生相对运动并对研磨空间内的碳酸钙进行研磨,碳酸钙经过若干层磨辊33研磨后形成细小颗粒甚至粉状物,最终形成的粉状物从尘气出口12被吸出。
如图1所示,所述研磨机构还包括上散料盘33和下散料盘34,所述上散料盘33固定在最顶部转盘32的上表面;所述下散料盘34固定在最底部转盘32的下表面。上散料盘33和下散料盘34随同转盘32转动,上散料盘33和下散料盘34使得进入筒体10内的碳酸钙尽可能分散在转盘32的边缘,提高研磨效果。
具体的,如图1所示,磨辊33通过设有的辊销35转动设置在转盘32的边缘。转盘32的层数可以根据需要设置,可以设置2至8层,本实用新型中,转盘32设置3层,若干层转盘32可以是一体式结构也可以是分体式结构,若干层转盘32的中心通过转轴固定连接。机架20的底部设有支撑转轴的轴承21,轴承21与转轴转动连接。
如图1所示,所述驱动机构包括减速电机41和联轴器42,所述减速电机41通过联轴器42带动转盘32转动。减速电机41固定在机架的底部,减速电机41通过联轴器42与转轴连接并带动转轴转动。
如图1所示,所述进料口11插设有进料管,所述进料管的底部指向最顶部转盘32的中心。进料管使得碳酸钙尽可能均匀分散至研磨空间内,提高研磨效果。
如图1所示,机架的底部设有支撑底座22。支撑底座22与地面接触,支撑底座22可以增加本实用新型的受力面积。
实施例2
如图1所示,本实施例与实施例1的区别是:所述碳酸钙研磨设备还包括吸尘装置,所述吸尘装置设置在尘气出口12内,所述吸尘装置包括叶轮51以及带动叶轮51转动的吸尘电机52,当吸尘电机52驱动叶轮51转动时,筒体10内被磨碎的碳酸钙粉体沿着尘气出口12流出。
实施例3
如图1所示,本实施例与实施例1或实施例2的区别是:所述磨环31外壁与筒体10内壁之间设有缓冲件,所述缓冲件靠近磨环31的顶部边缘。缓冲件降低了磨环31与筒体10之间的振动。
实施例4
如图1所示,本实施例与实施例1区别是:碳酸钙研磨设备还包括向筒体10内鼓风的鼓风装置(图中未标记),鼓风装置使得筒体10内细小颗粒容易形成碳酸钙粉体。
以上是本实用新型的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述装置包括筒体、机架、研磨机构、驱动机构和吸尘装置;所述筒体安装在机架上,研磨机构安装在筒体中心位置,驱动机构驱动研磨机构工作;所述筒体为一立式圆筒形结构,设有进料口和尘气出口;所述研磨机构包括磨环和若干层转盘,所述磨环固定在筒体的底部,若干层转盘同轴固定且设置在磨环内,每一转盘的边缘转动设有磨辊,所述磨辊与磨环内壁形成研磨空间。
2.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述研磨机构还包括上散料盘和下散料盘,所述上散料盘固定在最顶部转盘的上表面;所述下散料盘固定在最底部转盘的下表面。
3.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述驱动机构包括减速电机和联轴器,所述减速电机通过联轴器带动转盘转动。
4.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述吸尘装置设置在尘气出口内与筒体的界面上,所述吸尘装置包括叶轮以及带动叶轮转动的吸尘电机,当吸尘电机驱动叶轮转动时,筒体内被磨碎的粉尘沿着尘气出口流出。
5.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述进料口连接进料管,所述进料管的底部指向最顶部转盘的中心。
6.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述磨环外壁与筒体内壁之间设有缓冲件,所述缓冲件靠近磨环的顶部边缘。
7.根据权利要求1所述的一种碳酸钙研磨装置,其特征在于,所述机架的底部设有支撑底座。
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