CN211332457U - 电解质等离子抛光设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了电解质等离子抛光设备，通过支杆、限位套和滑杆的配合，使得滑杆能在限位套的内部上下滑动，通过浮球与滑杆的配合，当浮球受到电解液推动向上运动时，将带动滑杆向上运动，通过密封板和滑杆的配合，当滑杆向上运动到密封板与进料管底端贴合时，进料管将被堵住，电解液则不会在进入储液箱中，通过导向板，对进料管内流入的电解液进行缓冲，电解液经过缓冲后流至过滤网上，经过过滤网的过滤后流入等离子抛光机中，此设备通过在电解池与抛光等离子抛光机之间增加储液罐，起到了缓冲作用，使得抛光机的生产速度能够得到最大的发挥，同时不损伤抛光机，极大程度的提升了生产速度，带来极大的经济利益。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子抛光设备技术领域，具体领域为电解质等离子抛光设备。
背景技术
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺，仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-4.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。再次过程中等离子来源大多来自与电解液，所以此抛光过程需要不断向设备中注入电解液，目前，电解液的来源一般为从电解池直接抽取，如果供应流量过大对抛光机将会造成损坏，如果顾忌抛光机的使用寿命，电解液的供应速度将跟不上前端抛光机的生产速率，导致抛光速度下降工作速率降低，一定程度的降低了成品件的生产速度，带来了一定的经济损失。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供电解质等离子抛光设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：电解质等离子抛光设备，包括等离子抛光机和送液装置，所述送液装置包括储液箱和管道，所述储液箱通过法兰盘与管道固定装配，所述管道通过法兰盘与等离子抛光机固定装配，所述储液箱的底部设有支撑腿，所述储液箱的顶部设有通孔，所述储液箱的顶部还设有进料管，所述进料管位于储液箱内部的内壁设有支杆，所述支杆的一端设有限位套，所述限位套的内部滑动插接有滑杆，所述滑杆的顶端设有限位块，所述滑杆的中部固定套接有密封板，所述滑杆的底端设有浮球，所述密封板的外周边缘处还设有板面向下方倾斜的导向板，所述储液箱的内腔设有过滤网,所述过滤网设置于所述浮球的下侧，所述储液箱的内腔设有凸块，所述凸块的数量至少为两个且沿储液箱的圆周方向均匀分布，所述凸块位于过滤网的下侧，所述凸块的上表面与过滤网的下表面紧密贴合。
优选的，所述储液箱的外壁设有控制装置，所述控制装置通过电导体外接电源，所述储液箱的内腔侧壁固定装配有加热装置和温度传感装置，所述加热装置和温度传感装置均位于过滤网的下部，所述加热装置和温度传感装置均与控制装置电连接。
优选的，所述储液箱的底部装配有搅拌装置，且所述搅拌装置的搅拌端伸入储液箱内部。
优选的，所述储液箱的侧壁设有观察窗，所述观察窗的外部设有刻度线。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：电解质等离子抛光设备，通过管道将储液箱与等离子抛光机相连，使得储液箱对等离子抛光机提供电解液，通过进料管将储液箱与电解池相连，使电解池内的电解液能流入储液箱中，通过支杆、限位套和滑杆的配合，使得滑杆能在限位套的内部上下滑动，且也是在进料管的内部上下滑动，通过浮球与滑杆的配合，当浮球受到电解液推动向上运动时，将带动滑杆向上运动，通过密封板和滑杆的配合，当滑杆向上运动到密封板与进料管底端贴合时，进料管将被堵住，电解液则不会在进入储液箱中，通过导向板，对进料管内流入的电解液进行缓冲，电解液经过缓冲后流至过滤网上，经过过滤网的过滤后流入等离子抛光机中，等离子抛光机受到源源不断的电解液供应进行快速的抛光工作此设备通过在电解池与抛光等离子抛光机之间增加储液罐，起到了缓冲作用，使得电解液的注入速度与抛光机的生产速度相匹配，使得抛光机的生产速度能够得到最大的发挥，同时不损伤抛光机，极大程度的提升了生产速度，带来极大的经济利益。
附图说明
图1为本实用新型的主视结构示意图；
图2为本实用新型的主剖视结构示意图。
图中：1-储液箱、2-管道、3-法兰盘、4-搅拌装置、5-支撑腿、6-通孔、7-进料管、8-支杆、9-限位套、10-滑杆、11-限位块、12-密封板、13-浮球、14-过滤网、15-凸块、16-观察窗、17-刻度线、18-控制装置、19-加热装置、20-温度传感装置、21-导向板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：电解质等离子抛光设备，包括等离子抛光机和送液装置，所述送液装置包括储液箱1和管道2，所述储液箱1通过法兰盘3与管道2固定装配，所述管道2通过法兰盘3与等离子抛光机固定装配，所述储液箱1的底部设有支撑腿5，通过支撑腿5对储液箱1进行支撑，使得储液箱1的底面比等离子抛光机的顶面高，使得电解液可靠受重力自动流入等离子抛光机内，所述储液箱1的顶部设有通孔6，通过通孔6进行换气，所述储液箱1的顶部还设有进料管7，进料管7与电解池相连，所述进料管7位于储液箱1内部的内壁设有支杆8，所述支杆8的一端设有限位套9，所述限位套9的内部滑动插接有滑杆10，所述滑杆10的顶端设有限位块11，所述滑杆10的中部固定套接有密封板12，所述滑杆10的底端设有浮球13，所述密封板12的外周边缘处还设有板面向下方倾斜的导向板21，所述储液箱1的内腔设有过滤网14,所述过滤网14设置于所述浮球13的下侧，所述储液箱1的内腔设有凸块15，所述凸块15的数量至少为两个且沿储液箱1的圆周方向均匀分布，所述凸块15位于过滤网14的下侧，所述凸块15的上表面与过滤网14的下表面紧密贴合，通过凸块15对过滤网14进行承托的作用。
通过管道2将储液箱1与等离子抛光机相连，使得储液箱1对等离子抛光机提供电解液，通过进料管7将储液箱1与电解池相连，使电解池内的电解液能流入储液箱中，通过支杆8、限位套9和滑杆10的配合，使得滑杆10能在限位套9的内部上下滑动，且也是在进料管7的内部上下滑动，通过浮球13与滑杆10的配合，当浮球13受到电解液推动向上运动时，将带动滑杆10向上运动，通过密封板12和滑杆10的配合，当滑杆10向上运动到密封板12与进料管7底端贴合时，进料管7将被堵住，电解液则不会在进入储液箱1中，通过导向板21，对进料管7内流入的电解液进行缓冲，电解液经过缓冲后流至过滤网14上，经过过滤网14的过滤后流入等离子抛光机中。
具体而言，所述储液箱1的外壁设有控制装置18，所述控制装置18通过电导体外接电源，所述储液箱1的内腔侧壁固定装配有加热装置19和温度传感装置20，所述加热装置19和温度传感装置20均位于过滤网14的下部，所述加热装置19和温度传感装置20均与控制装置18电连接。
通过温度传感装置20可检测储液箱1内部电解液的温度，通过控制装置18与温度传感装置20的配合，使得控制装置18可观察储液箱1内部的电解液温度，并控制加热装置19对储液箱1内部电解液进行加热，通过增加电解液的温度提高电解液的电离速度，增加生产速率。
具体而言，所述储液箱1的底部装配有搅拌装置4，且所述搅拌装置4的搅拌端伸入储液箱1内部。
搅拌装置4外接电源，是否启动根据是否接通电源决定，通过搅拌装置4可对储液箱1内部的电解液进行搅拌，使得加热效果更加良好。
具体而言，所述储液箱1的侧壁设有观察窗16，所述观察窗16的外部设有刻度线17。
通过观察窗16和刻度线17可观察储液箱1内部的电解液容量。
工作原理：通过管道2将储液箱1与等离子抛光机相连，使得储液箱1对等离子抛光机提供电解液，通过进料管7将储液箱1与电解池相连，使电解池内的电解液能流入储液箱中，通过支杆8、限位套9和滑杆10的配合，使得滑杆10能在限位套9的内部上下滑动，且也是在进料管7的内部上下滑动，通过浮球13与滑杆10的配合，当浮球13受到电解液推动向上运动时，将带动滑杆10向上运动，通过密封板12和滑杆10的配合，当滑杆10向上运动到密封板12与进料管7底端贴合时，进料管7将被堵住，电解液则不会在进入储液箱1中，通过导向板21，对进料管7内流入的电解液进行缓冲，电解液经过缓冲后流至过滤网14上，经过过滤网14的过滤后流入等离子抛光机中，等离子抛光机受到源源不断的电解液供应进行快速的抛光工作。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (4)
1.电解质等离子抛光设备，包括等离子抛光机和送液装置，其特征在于：所述送液装置包括储液箱(1)和管道(2)，所述储液箱(1)通过法兰盘(3)与管道(2)固定装配，所述管道(2)通过法兰盘(3)与等离子抛光机固定装配，所述储液箱(1)的底部设有支撑腿(5)，所述储液箱(1)的顶部设有通孔(6)，所述储液箱(1)的顶部还设有进料管(7)，所述进料管(7)位于储液箱(1)内部的内壁设有支杆(8)，所述支杆(8)的一端设有限位套(9)，所述限位套(9)的内部滑动插接有滑杆(10)，所述滑杆(10)的顶端设有限位块(11)，所述滑杆(10)的中部固定套接有密封板(12)，所述滑杆(10)的底端设有浮球(13)，所述密封板(12)的外周边缘处还设有板面向下方倾斜的导向板(21)，所述储液箱(1)的内腔设有过滤网(14),所述过滤网(14)设置于所述浮球(13)的下侧，所述储液箱(1)的内腔设有凸块(15)，所述凸块(15)的数量至少为两个且沿储液箱(1)的圆周方向均匀分布，所述凸块(15)位于过滤网(14)的下侧，所述凸块(15)的上表面与过滤网(14)的下表面紧密贴合。
2.根据权利要求1所述的电解质等离子抛光设备，其特征在于：所述储液箱(1)的外壁设有控制装置(18)，所述控制装置(18)通过电导体外接电源，所述储液箱(1)的内腔侧壁固定装配有加热装置(19)和温度传感装置(20)，所述加热装置(19)和温度传感装置(20)均位于过滤网(14)的下部，所述加热装置(19)和温度传感装置(20)均与控制装置(18)电连接。
3.根据权利要求1所述的电解质等离子抛光设备，其特征在于：所述储液箱(1)的底部装配有搅拌装置(4)，且所述搅拌装置(4)的搅拌端伸入储液箱(1)内部。
4.根据权利要求1所述的电解质等离子抛光设备，其特征在于：所述储液箱(1)的侧壁设有观察窗(16)，所述观察窗(16)的外部设有刻度线(17)。
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|---|---|---|---|
| CN201922235926.XU CN211332457U (zh) | 2019-12-13 | 2019-12-13 | 电解质等离子抛光设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201922235926.XU CN211332457U (zh) | 2019-12-13 | 2019-12-13 | 电解质等离子抛光设备 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| CN211332457U true CN211332457U (zh) | 2020-08-25 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201922235926.XU Active CN211332457U (zh) | 2019-12-13 | 2019-12-13 | 电解质等离子抛光设备 |
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|---|---|
| CN (1) | CN211332457U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112589543A (zh) * | 2020-12-01 | 2021-04-02 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法 |
| CN113385266A (zh) * | 2021-06-16 | 2021-09-14 | 株洲长江硬质合金设备有限公司 | 一种湿磨机 |
| CN114481287A (zh) * | 2022-04-15 | 2022-05-13 | 深圳技术大学 | 基于电解抛光的首饰加工用表面去杂设备 |
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2019
- 2019-12-13 CN CN201922235926.XU patent/CN211332457U/zh active Active
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