CN210826363U - 一种用于溶解氯气的溶气缸 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及氯气处理技术领域，特别是一种用于溶解氯气的溶气缸，通过设置缸体，该缸体上部设置有连接至少一个喷头的进液口，该喷头用于喷射能够吸收氯气的酸性氯化铜蚀刻用后液，所述缸体下部还设置有氯气通入口，工作时，上部喷射的含一价铜离子溶液落下与下部的氯气反应，生成含二价铜离子的再生液，用这种结构替代传统的将氯气通入装有氯气吸收剂的容器，提高了氯气吸收的效率。使用时，将能够输出再生液的出液口连接至电解缸的含二价铜离子溶液输入口，将进液口连接至电解缸的废液输出口，形成一个可循环的节能环保的溶气缸，解决了传统不可循环的氯气吸收剂占用一定的成本的问题，达到循环利用节能环保的效果。

Description

一种用于溶解氯气的溶气缸

技术领域

本实用新型涉及氯气处理技术领域，特别是一种用于溶解氯气的溶气缸。

背景技术

线路板的生产中，蚀刻是一个普遍存在的过程，主要是指将线路板上不需要的金属铜除去。一般情况下，线路板的蚀刻是一个化学蚀刻过程，蚀刻完后的蚀刻液含有很高浓度的铜离子和其他化学物质。

线路板的蚀刻分碱性蚀刻和酸性蚀刻，酸性蚀刻的过程包括HCl，CuCl₂和NaCl成分，酸性蚀刻即包括二价铜离子被还原成一价铜离子的过程，在酸性氯化铜蚀刻液蚀刻产生的酸性氯化铜蚀刻用后液回收电解过程中，由于酸性氯化铜蚀刻用后液包括CuCl₂，其经过氯气氧化后可以形成CuCl₂，CuCl₂在电解后电解会产生氯气以及析出铜，此为蚀刻用后液回收过程，该回收过程产生的氯气如果直接排放会对人体造成严重伤害，同时污染大气。因此，酸性蚀刻液回收过程电解过程必须连接有氯气处理装置。

常见的氯气处理装置采用缸体中放置氯气吸收剂，在缸体内通入氯气后，氯气经氯气吸收剂吸收，吸收后的氯气满足要求后即可排放，这种装置吸收氯气的效率低，氯气仅通过设置在缸体下部的氯气吸收剂吸收，接触面积少吸收效率低。

常见的氯气吸收剂包括亚硫酸氢钠，亚硫酸氢钠在使用后不可循环利用，因此，采用亚硫酸氢钠作为氯气吸收剂相对于可循环利用的氯气吸收剂来说增加了成本。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于：针对现有技术存在的氯气处理装置吸收氯气效率低，且不可循环的氯气吸收剂占用一定的成本，提供一种节能环保的用于溶解氯气的溶气缸。

为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

一种用于溶解氯气的溶气缸，包括缸体，所述缸体上部设置有连接至少一个喷头的进液口，所述喷头用于喷射能够吸收氯气的含一价铜离子溶液，所述缸体下部设置有氯气通入口；

所述缸体还设置有用于输出含二价铜离子的再生液的出液口。

通过设置缸体，该缸体上部设置有连接至少一个喷头的进液口，该喷头用于喷射能够吸收氯气的含一价铜离子溶液，如酸性氯化铜蚀刻用后液，所述缸体下部还设置有氯气通入口，通过在缸体上部喷射酸性氯化铜蚀刻用后液，在缸体下部输入氯气，工作时，上部喷射的含一价铜离子溶液与下部的氯气反应，如酸性氯化铜蚀刻用后液与下部的氯气反应，生成含二价铜离子的再生液，用上部喷射的含一价铜离子溶液和下部输入的氯气替代传统的将氯气通入装有氯气吸收剂的容器，提高了氯气吸收的效率。使用时，将能够输出再生液的出液口连接至电解缸的含二价铜离子溶液输入口，将进液口连接至电解缸的废液输出口，由于废液中含有未充分与氯气反应的一价铜离子，且蚀刻产生的酸性氯化铜蚀刻用后液氧化后直接电解的产铜量少于其适当稀释后的电解产铜量，因此废液可返回加入酸性氯化铜蚀刻重新进行氧化，该过程形成一个可循环的节能环保的用于溶解氯气的溶气缸，解决了传统不可循环的氯气吸收剂占用一定的成本的问题，达到循环利用节能环保的效果。

作为本实用新型的优选方案，所述缸体内还设置有用于增加氯气和含一价铜离子溶液接触面积的至少一层镂空结构。

作为本实用新型的优选方案，每层所述镂空结构均包括多个镂空球体。

通过设置至少一层镂空结构，每层镂空结构均包括多个球体，在含一价铜离子溶液落下时，使部分含一价铜离子溶液停留在球体上，减缓含一价铜离子溶液落入底部的时间，增加氯气与球体上的含一价铜离子溶液的反应时间，同时球体为镂空球体，可以增加停留在球体上的含一价铜离子溶液的量，该结构增加了氯气的吸收效率。

作为本实用新型的优选方案，所述镂空球体采用可塑性高分子材料。

作为本实用新型的优选方案，所述喷头采用螺旋喷头或雾化喷头。

通过设置螺旋喷头或雾化喷头，使含一价铜离子溶液能够增加与氯气的接触面积，增加氯气吸收效率。

作为本实用新型的优选方案，所述缸体内还设置有置物网，所述镂空结构设置在所述置物网上。

作为本实用新型的优选方案，所述缸体还设置有能够开合的置物窗。

置物窗的设置便于缸体内喷头的维修和更换，便于增加、减少和更换镂空球体，同时便于观察喷头的工作状态。

作为本实用新型的优选方案，所述置物窗与所述缸体之间设置有密封圈。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、通过设置缸体，该缸体上部设置有连接至少一个喷头的进液口，该喷头用于喷射能够吸收氯气的含一价铜离子溶液，如酸性氯化铜蚀刻用后液，所述缸体下部还设置有氯气通入口，通过在缸体上部喷射酸性氯化铜蚀刻用后液，在缸体下部输入氯气，工作时，上部喷射的含一价铜离子溶液与下部的氯气反应，如酸性氯化铜蚀刻用后液与下部的氯气反应，生成含二价铜离子的再生液，用上部喷射的含一价铜离子溶液和下部输入的氯气替代传统的将氯气通入装有氯气吸收剂的容器，提高了氯气吸收的效率。使用时，将能够输出再生液的出液口连接至电解缸的含二价铜离子溶液输入口，将进液口连接至电解缸的废液输出口，由于废液中含有未充分与氯气反应的一价铜离子，且蚀刻产生的酸性氯化铜蚀刻用后液氧化后直接电解的产铜量少于其适当稀释后的电解产铜量，因此废液可返回加入酸性氯化铜蚀刻重新进行氧化，该过程形成一个可循环的节能环保的用于溶解氯气的溶气缸，解决了传统不可循环的氯气吸收剂占用一定的成本的问题，达到循环利用节能环保的效果。

2、通过设置至少一层镂空结构，每层镂空结构均包括多个球体，在含一价铜离子溶液落下时，使部分含一价铜离子溶液停留在球体上，减缓含一价铜离子溶液落入底部的时间，增加氯气与球体上的含一价铜离子溶液的反应时间，同时球体为镂空球体，可以增加停留在球体上的含一价铜离子溶液的量，该结构增加了氯气的吸收效率。

3、通过设置螺旋喷头或雾化喷头，使含一价铜离子溶液能够增加与氯气的接触面积，增加氯气吸收效率。

4、置物窗的设置便于缸体内喷头的维修和更换，便于增加、减少和更换镂空球体，同时便于观察喷头的工作状态。

附图说明

图1是用于溶解氯气的溶气缸的三维结构图；

图2是用于溶解氯气的溶气缸的二维结构图；

图3是螺旋喷头的结构示意图；

图4是图1中的A区域的局部放大图。

图中标记：1-缸体，2-喷头，3-进液口，4-氯气通入口，5-出液口，6-镂空球体，7-置物网，8-置物窗，9-置物窗框架，10-把手。

具体实施方式

下面结合附图，对本实用新型作详细的说明。

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例

如图1，图1是用于溶解氯气的溶气缸的三维结构图，该溶气缸包括缸体1，所述缸体1上部设置有进液口3，所述缸体1下部设置有氯气通入口4；

所述缸体1还设置有用于输出再生液的出液口5；缸体1还设置有排气口，该排气口用于排出缸体1中的气体。

其中，缸体1上部指缸体1顶面或缸体1侧面；缸体1下部指缸体1底面或缸体1侧面。

缸体1还设置有能够开合的置物窗8，置物窗8与所述缸体1之间设置有密封圈，密封圈用于防止氯气泄漏，置物窗8的具体结构见图4。

如图2所示，图2是用于溶解氯气的溶气缸的二维结构图，喷头2设置在缸体1的上部，其中进液口3连接有至少一个喷头2，所述喷头2用于喷射能够吸收氯气的酸性氯化铜蚀刻用后液或其他含一价铜离子溶液，缸体1内还设置有用于增加氯气和酸性氯化铜蚀刻用后液接触面积的两层镂空结构。

每层所述镂空结构均包括多个镂空球体6，图示中一层镂空结构堆积有两层镂空球体6，镂空球体6可采用可塑性高分子材料，如PP和PE。

镂空结构还可采用非球体结构，如镂空方块和镂空椭圆块。

缸体1还包括了用于设置置物窗8的置物窗框架9；缸体1内还设置有置物网7，所述镂空结构设置在所述置物网7上，酸性氯化铜蚀刻用后液可通过该置物网7，镂空球体6可置于该置物网7上。

喷头2采用螺旋喷头或雾化喷头2，使喷出的酸性氯化铜蚀刻用后液或其他含一价铜离子溶液增加与氯气的接触面积，螺旋喷头的结构具体见图3。

氯气吸收效率的增加：经过喷头2喷射的酸性蚀刻液用后液或其他含一价铜离子溶液在经过第一层镂空结构后，又经过第二层镂空结构，极大减慢了酸性氯化铜蚀刻用后液或其他含一价铜离子溶液落入缸体1底部的时间，增加了氯气和酸性氯化铜蚀刻用后液的反应时间，增加了氯气吸收效率；

同时喷头2采用螺旋喷头或雾化喷头2，喷出的酸性氯化铜蚀刻用后液或其他含一价铜离子溶液增加与氯气的接触面积增加了氯气吸收效率。

该用于溶解氯气的溶气缸的工作过程如下：

（1）缸体1内

设置在缸体1上部的喷头2喷射够吸收氯气的酸性氯化铜蚀刻用后液或其他含一价铜离子溶液，设置在缸体1下部的氯气通入口4通入氯气，由于酸性氯化铜蚀刻用后液含一价铜离子的溶液，一价铜离子与氯气反应生成含二价铜离子的再生液，该再生液可进入电解缸中进行电解，如氯化亚铜氧化成氯化铜，氯化铜电解产生铜和氯气。

（2）缸体1外

氯气通入口4连接至电解缸或其他氯气源，出液口5连接至电解缸的含二价铜离子溶液输入口，进液口3连接至电解缸的废液液输出口以及酸性氯化铜蚀刻用后液输入口，电解缸电解后产生的氯气或其他氯气源产生的氯气通入所述缸体1下部，电解缸电解后产生的废液输出至缸体1的进液口3，所述缸体1中的酸性氯化铜蚀刻用后液和废液与氯气反应后产生的再生液输出至电解缸中；

其中，酸性氯化铜蚀刻用后液输入口也可以设置在电解缸中或用于溶解氯气的溶气缸与电解缸之间，输入的酸性氯化铜蚀刻用后液用于和废液混合成固定浓度的含二价铜离子溶液，该固定浓度的含二价铜离子溶液可以析出比完全通入酸性氯化铜蚀刻用后液氧化后的溶液电解析铜量高。

如图3所示，图3是螺旋喷头的结构示意图，喷头2的输出端采用螺旋状，输入端可采用外攻螺纹，实现与进液口3连接的管路进行螺纹连接。

如图4所示，图4是图1中的A区域的局部放大图，缸体1包括可开合的置物窗8，该可开合功能通过用于设置置物窗8的置物窗框架9、以及置物窗8上设置的把手10实现，其中，把手10底部设置有连接块，该连接块呈半椭圆形，连接块包括突出部和端平部；置物窗框架9设置在缸体1上，置物窗8设置在置物窗框架9上，置物窗8通过把手10进行固定在置物窗框架9上。

合起固定时，通过将突出部旋转至置物窗框架9中使置物窗8固定在置物窗框架9上，开启时，通过将突出部旋转出置物窗框架9外即可拆卸置物窗8。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，包括缸体（1），所述缸体（1）上部设置有连接至少一个喷头（2）的进液口（3），所述喷头（2）用于喷射能够吸收氯气的含一价铜离子溶液，所述缸体（1）下部设置有氯气通入口（4）；

所述缸体（1）还设置有用于输出含二价铜离子的再生液的出液口（5）。

2.根据权利要求1所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述缸体（1）内还设置有用于增加氯气和含一价铜离子溶液接触面积的至少一层镂空结构。

3.根据权利要求2所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，每层所述镂空结构均包括多个镂空球体（6）。

4.根据权利要求3所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述镂空球体（6）采用可塑性高分子材料。

5.根据权利要求2-4任一所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述喷头（2）采用螺旋喷头（2）或雾化喷头（2）。

6.根据权利要求5所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述缸体（1）内还设置有置物网（7），所述镂空结构设置在所述置物网（7）上。

7.根据权利要求5所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述缸体（1）还设置有能够开合的置物窗（8）。

8.根据权利要求7所述的一种用于溶解氯气的溶气缸，其特征在于，所述置物窗（8）与所述缸体（1）之间设置有密封圈。

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