CN115505931A - 用于对pcb铜蚀刻废液回收装置 - Google Patents

Abstract

本方案属于PCB处理废液回收技术领域，具体涉及用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。包括机架、反应缸和废液回收缸，所述反应缸固定设在机架上，所述反应缸内设有第一PH传感器，还包括第一入料缸和第二入料缸，所述第一入料缸用于盛放酸性蚀刻废液；所述第二入料缸用于盛放碱性蚀刻废液；所述反应缸底部设有出料管道，所述出料管道处设有用于打开和关闭出料管道的电阀门，所述反应缸下方设有过滤网。本方案回收了废液中的铜，并且利用水合肼与废液反应还原铜，进而将从铜从废液中分离，废液用于配置新的蚀刻液。本方案回收利用率高，且操作方便成本低廉，是企业处理PCB铜蚀刻废液、回收铜的有效方法，具有市场应用价值。

Description

用于对PCB铜蚀刻废液回收装置

技术领域

本方案属于PCB处理废液回收技术领域，具体涉及用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。

背景技术

随着人类工业水平的进步，电子工业的高速发展，印制线路板的需求量越来越大，PCB的生产已成为电子行业的重要基础产业，然而国家对环境保护愈发重视，工业废水的排放标准也愈发严格。对于产生大量有毒有害工业废水及废弃物的PCB制造业，对其实施高效合理的治理十分必要。尤其将PCB酸性蚀刻液进行零排放处理，不仅可以将铜资源回收资利用，而且还实现了对水资源的在线回用。真正意义上实现PCB酸性蚀刻液零排放处理。

PCB蚀刻生产在业内一般分为两种工艺，即碱性蚀刻和酸性蚀刻，蚀刻后产生的废液一般通过中和后将铜以沉淀物或者络合物的形式分离出来，而对剩余组分废水没有进行实质性处理，容易造成二次污染，且造成水资源的浪费。

申请号为CN201521007340.3的专利公开了一种印制电路板重金属废水铜回收装置，包括交流电源、整流器、阳极、阴极、反应缸、钢丝过滤网、永磁体、废液回收缸、循环泵，交流电源连接整流器，整流器连接布置在反应缸内的阳极和阴极，阴极为架设在反应缸内的钢板，反应缸下部安装钢丝过滤网，钢丝过滤网上放置永磁体，反应缸底部安装通向废液回收缸的出水管，废液回收缸的废液通过循环泵和管道与反应缸循环。

该方案综合混凝沉淀法和电解法的优点，快速彻底地回收重金属废水中的Cu²⁺再排到污水站处理。该方案中的滤液中依然含有少量的Cu²⁺，直接排放至污水处理站，会造成浪费。

发明内容

本方案提供一种废液回收利用的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置。

为了达到上述目的，本方案提供一种用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，包括机架、反应缸和废液回收缸，所述反应缸固定设在机架上，所述反应缸上端设有出气管道，所述反应缸内设有第一PH传感器，还包括第一入料缸和第二入料缸，所述第一入料缸用于盛放酸性蚀刻废液；所述第二入料缸用于盛放碱性蚀刻废液；所述第一入料缸和第二入料缸分别通过出料管与反应缸连通；第一入料缸和第二入料缸的出料管上均设有电阀门，所述第一入料缸和第二入料缸上均设有液位传感器，

所述反应缸底部设有出料管道，所述出料管道上设有用于打开和关闭出料管道的电阀门，所述反应缸下方设有滤筒，所述滤筒上端与反应缸的出料管道连通，所述滤筒侧壁不透气，所述滤筒底部设有滤网，所述滤筒与出料管底部以可拆卸的方式连接，所述废液回收缸设在过滤网下方，

还包括结晶缸、PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸，所述PVP分散剂入料缸内盛放有PVP分散剂，所述水合肼入料缸内盛放水合肼；所述 PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸上设有出料管和用于打开关闭出料管的电阀门；所述 PVP分散剂入料缸和水合肼入料缸通过出料管与废液回收缸连通；所述废液回收缸内还设有第二PH传感器，

还包括控制器、ccd相机和处理模块，当液位传感器检测到第一入料缸内的液体减少2L时，将信号反馈给控制器，使得控制器将第一入料缸的出料管的电阀门关闭，当液位传感器第二入料缸内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸的出料管的电阀门关闭；当第一PH传感器检测到此时缸体内的PH值为6.2时，控制器控制反应缸的电阀门打开，

ccd相机设在废液回收缸内，用于拍摄废液回收缸内的液体反应情况，并将信号反馈给处理模块，

处理模块，用于接收ccd相机拍摄的照片，当拍摄的照片中出现黑色晶体时，处理模块将信号反馈给控制器，控制器接收到该信息后控制PVP分散剂入料缸的电阀门打开，当黑色晶体析出量稳定时，控制器关闭PVP分散剂入料缸的电阀门，

所述控制器与第一PH传感器、第二PH传感器、液位传感器和电阀门均电性连接。

本方案的原理：首先在第一入料缸内盛放酸性蚀刻废液，在第二入料缸内盛放碱性蚀刻废液，然后液位传感器测量第一入料缸和第二入料缸的初始液位，然后反馈给控制器，当液位传感器检测到第一入料缸内的液体减少2L时，控制器控制第一入料缸的出料管的电阀门关闭，当第二入料缸内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸的出料管的电阀门关闭，此时酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液在缸体内反应生成Cu(OH)Cl，当第一PH传感器检测到此时缸体内的PH值为6.2时，此时滤液中的Cu²⁺含量最低，然后控制器控制缸体的电阀门打开，缸体内的液体和Cu(OH)Cl固体经过过滤网过滤，过滤后的液体流入废液回收缸内，过滤完成后，将水合肼（N₂H₄·H₂O）加入废液回收缸内进行还原除铜，并且在铜还原过程中，启动ccd相机进行拍摄，当拍摄到有针絮状氧化亚铜出现时，控制器将水合肼入料缸的出料管的电阀门关闭，同时控制器将PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门打开，将PVP分散剂加入到废液回收缸中，加快铜还原反应的过程，使得所有的针絮状氧化亚铜与氧化铜向规则光滑的立方型铜结构转化，且反应过程中的气体从液体中逐渐上升到表面的过程中起搅拌液体的作用，使得PVP分散剂与废液回收缸内的液体反应更加均匀和迅速，进而可使得针絮状氧化亚铜全部转化成立方型铜结构，而使得Cu²⁺被还原的程度更高。当第二PH传感器检测到废液回收缸内的PH值为11时，即可看到废液回收缸内有纯度很高的紫黑色铜粉析出，且紫黑色铜粉含量稳定不再有新的紫黑色铜粉出现时，表示还原过程完成，控制器控制PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门关闭，然后进而进行纯铜回收，废液用于配置新的蚀刻液。过滤的滤渣倒入结晶缸中，并加入少量水化浆，然后在结晶缸中加入浓硫酸，浓硫酸与滤渣生成硫酸铜溶液，冷却后结晶，然后过滤洗涤，回收硫酸铜晶体。

本方案的有益效果：

（1）将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液均倒入反应缸中，进行中和处理，得到Cu(OH)Cl。然后采用浓硫酸与Cu(OH)Cl反应得到硫酸铜晶体，进而回收了废液中的铜，并且利用水合肼与废液反应还原铜，进而将从铜从废液中分离，废液用于配置新的蚀刻液。本方案回收利用率高，且操作方便成本低廉，是企业处理PCB铜蚀刻废液、回收铜的有效方法，具有市场应用价值。

（2）通过设置液位传感器、电阀门和控制器，自动控制酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的下料量，使得酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液的混合体积比为2：1.2时，此时滤液中残留的Cu²⁺最低，滤液中的Cu2+去除率最高。

（3）通过在设置废液回收缸内设置第二PH传感器，当检测到废液回收缸内的PH值为11时，此时废液中的Cu²⁺去除率最高，进而铜离子回收更彻底，回收率更高。

（4）通过往废液回收缸内添加PVP分散剂，加快了Cu²⁺的氧化还原反应，使得针絮状氧化亚铜与氧化铜向规则光滑的立方型铜结构转化更彻底，避免了针絮状氧化亚铜的出现，还原效果更好。

进一步，所述机架上还设有气缸，所述废液回收缸放在气缸上，所述气缸包括顶板和缸体，所述缸体上端开口，且四周均设有橡胶圈，所述橡胶圈内设有弹簧，所述橡胶圈两端分别与顶板和缸体固定连接，所述气缸内设有横板，所述横板与橡胶圈、顶板组成第一密封空间，所述缸体底部、缸体侧壁和横板组成第二密封空间，所述横板上设有用于连通第一密封空间和第二密封空间的通孔，位于所述第二密封的缸体的两端侧壁上设有圆孔，所述圆孔上设有堵住圆孔的圆球，两个所述圆球之间通过弹簧连接，两个圆球与机架相适配。

从反应缸内的液体经过过滤网过滤后，流入废液回收缸内，然后废液回收缸内的重力逐渐增加，然后橡胶圈内的弹簧被压缩，第一密封空间内的气体通过通孔进入第二密封空间内，第二密封空间内的压强增大，第二密封空间内的气体将两个的圆球冲出，使得圆球撞击机架，使机架产生抖动，机架抖动，使得滤网也产生抖动，进而将滤网内的滤渣上的废液抖落至废液回收缸内，使得废液回收更加彻底，然后因为弹簧自我应变力的缘故，圆球在缸体会机架之间回来撞击，进而使得滤网被抖动多次，进而滤渣上的废液被清除得更加完全。当把废液回收缸移走后，橡胶圈内的弹簧恢复自我形变力，进而第一密封空间通过通孔从第二密封空间内吸气。然后人工将两个圆球塞进圆孔内。

进一步，所述反应缸底部呈V型。使得反应缸内得液体能够通过出料管全部流至过滤网上。

进一步，所述第一入料缸和第二入料缸的出料管的直径比为2:1.2。第一入料缸和第二入料缸的出料管同时打开后，第一入料缸和第二入料缸的内得液体也按照2:1.2的体积落入反应缸内，反应更加完全和迅速，节约了反应时间，提高了工作效率。

进一步，所述反应缸上设有搅拌电机，所述电机的输出轴穿过反应缸的侧壁，所述电机的输出轴位于反应缸内，所述输出轴上设有搅拌叶片。当电机转动时，电机的输出轴带动搅拌页片转送，使得酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液混合更加充分，便于物料的分散，利于碱铜晶体的碰撞长大，收集更加方便。

进一步，所述第一入料缸和第二入料缸均设有预热装置，用于分别对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行预热至50～60℃。利用预热装置对酸性蚀刻废液进行预处理，便于使酸性蚀刻废液中的亚铜离子Cu⁺氧化生成正铜离子Cu²⁺，从而通过固液分离后得到较好的氯化铜溶液，对碱性蚀刻废液进行预处理，便于固液分离去除碱性蚀刻废液中的杂质后得到铜氨溶液。

进一步，还包括离心机。将析出硫酸铜晶体的液体放入离心机内，对固液混合物进行离心分离，得到结晶硫酸铜。

进一步，所述出气管道连接有废气处理机构。废气处理机构将反应缸内产生的废弃进行处理，避免废气污染空气。

附图说明

图1为本发明实施例的反应缸的结构示意图。

图2为本发明实施例的回收装置结构示意图。

图3为本发明实施例的逻辑框架图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式进一步详细说明：

说明书附图中的标记包括：1、机架；2、反应缸；3、废液回收缸；4、第一入料缸；5、第二入料缸；6、出料管道；7、滤筒；8、滤网；9、结晶缸；10、水合肼入料缸；11、离心机；12、电机；13、输出轴；14、扇叶；15、电阀门；16、缸体；17、顶板；18、橡胶圈；19、横板；20、第一密封空间；21、第二密封空间；22、圆球；23、弹簧；24、PVP分散剂入料缸；25、ccd相机。

实施例基本如附图1-2所示：

一种用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，包括机架1、反应缸2和废液回收缸3，反应缸2固定设在机架1上，反应缸2底部呈V型。使得反应缸2内的液体能够通过出料管全部流至过滤网8上。

反应缸2内设有第一PH传感器，第一PH传感器用于检测反应缸2内的PH值。

反应缸2上设有搅拌电机12。电机12的输出轴13穿过反应缸2的侧壁，电机12的输出轴13位于反应缸2内，输出轴13上设有搅拌叶片。当电机12转动时，电机12的输出轴13带动搅拌叶片转动，使得酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液混合更加充分，便于物料的分散，利于碱铜晶体的碰撞长大，收集更加方便。

第一入料缸4和第二入料缸5上均设有预热装置，用于分别对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行预热至50～60℃。利用预热装置对酸性蚀刻废液进行预处理，便于使酸性蚀刻废液中的亚铜离子Cu⁺氧化生成正铜离子Cu²⁺，从而通过固液分离后得到较好的氯化铜溶液，对碱性蚀刻废液进行预处理，便于固液分离去除碱性蚀刻废液中的杂质后得到铜氨溶液。

还包括第一入料缸4和第二入料缸5，第一入料缸4用于盛放酸性蚀刻废液；第二入料缸5用于盛放碱性蚀刻废液；第一入料缸4和第二入料缸5分别与反应缸2连通；第一入料缸4和第二入料缸5的出料管上均设有电阀门15，第一入料缸4和第二入料缸5的出料管的直径比为2:1.2。第一入料缸4和第二入料缸5的出料管同时打开后，第一入料缸4和第二入料缸5的内得液体也按照2:1.2的体积落入反应缸2内，反应更加完全和迅速，节约了反应时间，提高了工作效率。

第一入料缸4和第二入料缸5上均设有液位传感器，液位传感器用于向控制器反馈第一入料缸4和第二入料缸5内的液位变化，进而获得流入反应缸2内的体积。

反应缸2底部设有出料管道6，出料管道6处设有用于打开和关闭出料管道6的电阀门15，反应缸2下方设有滤筒7，滤筒7上端与反应缸2的出料管道6连通，滤筒7侧壁不透气，滤筒7底部设有滤网8，滤筒7与出料管底部以可拆卸的方式连接，废液回收缸3设在过滤网8下方，废液回收缸3内还设有第二PH传感器，

还包括结晶缸9、PVP分散剂入料缸24和水合肼入料缸10，PVP分散剂入料缸24内盛放有PVP分散剂，水合肼入料缸10内盛放水合肼； PVP分散剂入料缸24和水合肼入料缸10上设有出料管和用于打开关闭出料管的电阀门15； PVP分散剂入料缸21和水合肼入料缸10通过出料管与废液回收缸3连通；废液回收缸3内还设有第二PH传感器，

如附图3所示：

还包括控制器、ccd相机和处理模块，当液位传感器检测到第一入料缸4内的液体减少2L时，将信号反馈给控制器，使得控制器将第一入料缸4的出料管的电阀门15关闭，当液位传感器第二入料缸5内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸5的出料管的电阀门15关闭；当第一PH传感器检测到此时缸体16内的PH值为6.2时，控制器控制反应缸2的电阀门15打开，

ccd相机设在废液回收缸3内，用于拍摄废液回收缸3内的液体反应情况，并将信号反馈给处理模块，

处理模块，用于接收ccd相机拍摄的照片，当拍摄的照片中出现黑色晶体时，处理模块将信号反馈给控制器，控制器接收到该信息后控制PVP分散剂入料缸25的电阀门15打开，当黑色晶体析出量稳定时，控制器关闭PVP分散剂入料缸25的电阀门15，

控制器与第一PH传感器、第二PH传感器、液位传感器和电阀门15均电性连接。

还包括离心机11，将析出硫酸铜晶体的液体放入离心机11内，对固液混合物进行离心分离，得到结晶硫酸铜。

机架1上还设有气缸，废液回收缸3放在气缸上，气缸包括顶板17和缸体16，缸体16上端开口，且四周均设有橡胶圈18，橡胶圈18内设有弹簧23，橡胶圈18两端分别与顶板17和缸体16固定连接，气缸内设有横板19，横板19与橡胶圈18、顶板17组成第一密封空间20，缸体16底部、缸体16侧壁和横板19组成第二密封空间21，横板19上设有用于连通第一密封空间20和第二密封空间21的通孔，位于第二密封的缸体16的两端侧壁上设有圆孔，圆孔上设有堵住圆孔的圆球22，两个圆球22之间通过弹簧23连接，两个圆球22与机架1相适配。

从反应缸2内的液体经过过滤网8过滤后，流入废液回收缸3内，然后废液回收缸3内的重力逐渐增加，然后橡胶圈18内的弹簧23被压缩，第一密封空间20内的气体通过通孔进入第二密封空间21内，第二密封空间21内的压强增大，第二密封空间21内的气体将两个的圆球22冲出，使得圆球22撞击机架1，使机架1产生抖动，机架1抖动，使得滤网8也产生抖动，进而将滤网8内的滤渣上的废液抖落至废液回收缸3内，使得废液回收更加彻底，然后因为弹簧23自我应变力的缘故，圆球22在缸体16会机架1之间回来撞击，进而使得滤网8被抖动多次，进而滤渣上的废液被清除得更加完全。当把废液回收缸3移走后，橡胶圈18内的弹簧23恢复自我形变力，进而第一密封空间20通过通孔从第二密封空间21内吸气。然后人工将两个圆球22塞进圆孔内。

具体操作：

首先在第一入料缸4内盛放酸性蚀刻废液，在第二入料缸5内盛放碱性蚀刻废液，然后通过预热装置分别对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行预热至50～60℃，然后液位传感器测量第一入料缸4和第二入料缸5的初始液位，然后反馈给控制器，然后通过控制器打开第一入料缸4和第二入料缸5上的出料管的电阀门15，

当液位传感器检测到第一入料缸4内的液体减少2L时，控制器控制第一入料缸4的出料管的电阀门15关闭，当第二入料缸5内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸5的出料管的电阀门15关闭。同时开启电机12，使得电机12的输出轴13开始转动，输出轴13上的转动扇叶14搅拌反应缸2内的液体。然后，酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液在缸体16内反应生成Cu(OH)Cl，当第一PH传感器检测到此时缸体16内的PH值为6.2时，此时滤液中的Cu2+含量最低，然后控制器控制缸体16的电阀门15打开，缸体16内的液体和Cu(OH)Cl固体经过过滤网8过滤，过滤后的液体流入废液回收缸3内，

然后废液回收缸3内的重力逐渐增加，然后橡胶圈18内的弹簧23被压缩，第一密封空间20内的气体通过通孔进入第二密封空间21内，第二密封空间21内的压强增大，第二密封空间21内的气体将两个的圆球22冲出，使得圆球22撞击机架1，使机架1产生抖动，机架1抖动，使得滤网8也产生抖动，进而将滤网8内的滤渣上的废液抖落至废液回收缸3内，使得废液回收更加彻底，然后因为弹簧23自我应变力的缘故，圆球22在缸体16会机架1之间回来撞击，进而使得滤网8被抖动多次，进而滤渣上的废液被清除得更加完全。当把废液回收缸3移走后，橡胶圈18内的弹簧23恢复自我形变力，进而第一密封空间20通过通孔从第二密封空间21内吸气。然后人工将两个圆球22塞进圆孔内。

过滤完成后，将水合肼（N₂H₄·H₂O）加入废液回收缸内进行还原除铜，并且在铜还原过程中，启动ccd相机进行拍摄，当拍摄到有针絮状氧化亚铜出现时，控制器将水合肼入料缸的出料管的电阀门关闭，同时控制器将PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门打开，将PVP分散剂加入到废液回收缸中，加快铜还原反应的过程，使得所有的针絮状氧化亚铜与氧化铜向规则光滑的立方型铜结构转化，且反应过程中的气体从液体中逐渐上升到表面的过程中起搅拌液体的作用，使得PVP分散剂与废液回收缸内的液体反应更加均匀和迅速，进而可使得针絮状氧化亚铜全部转化成立方型铜结构，而使得Cu²⁺被还原的程度更高。

当第二PH传感器检测到废液回收缸内的PH值为11时，即可看到废液回收缸内有纯度很高的紫黑色铜粉析出，且紫黑色铜粉含量稳定不再有新的紫黑色铜粉出现时，表示还原过程完成，控制器控制PVP分散剂入料缸的出料管的电阀门关闭，然后进而进行纯铜回收，废液用于配置新的蚀刻液。当ccd相机拍摄到废液中紫黑色铜粉的分量稳定不变时，依然有针絮状氧化亚铜出现，则向废液回收缸内添加明胶，促进反应加快，使得高分子物质分散得更快一些，针絮状氧化亚铜全部转化成紫黑色铜粉，进一步避免针絮状物质的出现，使得铜离子的还原度更高，回收效率更好。

过滤的滤渣倒入结晶缸9中，并加入少量水化浆，然后在结晶缸9中加入浓硫酸，浓硫酸与滤渣生成硫酸铜溶液，冷却后结晶，然后过滤洗涤，回收硫酸铜晶体，将析出硫酸铜晶体的液体放入离心机11内，对固液混合物进行离心分离，得到结晶硫酸铜。

以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (7)

1.用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，料缸分别通过出料管与反应缸（2）连通；第一入料缸（4）和第二入料缸（5）的出料管上均设有电阀门（15），所述第一入料缸（4）和第二入料缸（5）上均设有液位传感器，

所述反应缸（2）底部设有出料管道（6），所述出料管道（6）上设有用于打开和关闭出料管道（6）的电阀门（15），所述反应缸（2）下方设有滤筒（7），所述滤筒（7）上端与反应缸（2）的出料管道（6）连通，所述滤筒（7）侧壁不透气，所述滤筒（7）底部设有滤网（8），所述滤筒（7）与出料管底部以可拆卸的方式连接，所述废液回收缸（3）设在过滤网（8）下方，

还包括结晶缸（9）、PVP分散剂入料缸（24）和水合肼入料缸（10），所述PVP分散剂入料缸（24）内盛放有PVP分散剂，所述水合肼入料缸（10）内盛放水合肼；所述 PVP分散剂入料缸（24）和水合肼入料缸（10）上设有出料管和用于打开关闭出料管的电阀门（15）；所述 PVP分散剂入料缸（21）和水合肼入料缸（10）通过出料管与废液回收缸（3）连通；所述废液回收缸（3）内还设有第二PH传感器，

还包括控制器、ccd相机（25）和处理模块，当液位传感器检测到第一入料缸（4）内的液体减少2L时，将信号反馈给控制器，使得控制器将第一入料缸（4）的出料管的电阀门（15）关闭，当液位传感器第二入料缸（5）内的液体减少1.2L时，控制器控制第二入料缸（5）的出料管的电阀门（15）关闭；当第一PH传感器检测到此时缸体（16）内的PH值为6.2时，控制器控制反应缸（2）的电阀门（15）打开，

ccd相机（25）设在废液回收缸（3）内，用于拍摄废液回收缸（3）内的液体反应情况，并将信号反馈给处理模块，

处理模块，用于接收ccd相机（25）拍摄的照片，当拍摄的照片中出现黑色晶体时，处理模块将信号反馈给控制器，控制器接收到该信息后控制PVP分散剂入料缸（25）的电阀门（15）打开，当黑色晶体析出量稳定时，控制器关闭PVP分散剂入料缸（25）的电阀门（15），

所述控制器与第一PH传感器、第二PH传感器、液位传感器和电阀门（15）均电性连接。

2.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：所述机架（1）上还设有气缸，所述废液回收缸（3）放在气缸上，所述气缸包括顶板（17）和缸体（16），所述缸体（16）上端开口，且四周均设有橡胶圈（18），所述橡胶圈（18）内设有弹簧（23），所述橡胶圈（18）两端分别与顶板（17）和缸体（16）固定连接，所述气缸内设有横板（19），所述横板（19）与橡胶圈（18）、顶板（17）组成第一密封空间（20），所述缸体（16）底部、缸体（16）侧壁和横板（19）组成第二密封空间（21），所述横板（19）上设有用于连通第一密封空间（20）和第二密封空间（21）的通孔，位于所述第二密封的缸体（16）的两端侧壁上设有圆孔，所述圆孔上设有堵住圆孔的圆球（22），两个所述圆球（22）之间通过弹簧（23）连接，两个圆球（22）与机架（1）相适配。

3.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：所述反应缸（2）底部呈V型。

4.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：所述第一入料缸（4）和第二入料缸（5）的出料管的直径比为2:1.2。

5.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：所述反应缸（2）上设有搅拌电机（12），所述电机（12）的输出轴（13）穿过反应缸（2）的侧壁，所述电机（12）的输出轴（13）位于反应缸（2）内，所述输出轴（13）上设有搅拌叶片。

6.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：所述第一入料缸（4）和第二入料缸（5）均设有预热装置，用于分别对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行预热至50～60℃。

7.根据权利要求1所述的用于PCB铜蚀刻废液的回收装置，其特征在于：还包括离心机（11）。

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