CN210281687U - 一种石材抛光装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种石材抛光装置，涉及石材护理设备技术领域，本实用新型包括机架，机架上设置有磨盘、电动机以及支架，所述支架上设置有固定设置有扶手；所述机架上还设置有供液系统以及抛光液回收系统，所述供液系统包括储液箱以及供水接入管，所述供水接入管与储液箱出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵，所述水泵的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘，所述水泵的出口连接有能够过滤水泵出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱内的过滤器；本实用新型能够解决现有石材抛光装置不能够回收和利用抛光液的技术问题。

Description

一种石材抛光装置

技术领域

本实用新型涉及石材护理设备技术领域，更具体的是涉及一种石材抛光装置。

背景技术

石材抛光装置是能快速完成石材地面、地坪、地板的清渣、整平、打磨，抛光等不同工艺的多功能机器设备。

石材抛光装置的工作原理是将抛光磨石放在被加工的石材产品上，用机械设备快速运转及“干抛光、湿抛光”来达到抛光效果，产品表面会出现很强的反射光，这是通常所说的光泽度。

现有的石材抛光设备大多涉及湿抛光设备,即在抛光的同时喷洒抛光液,以增加抛光后的石材表面的质量,现有利用“湿抛光”技术的石材抛光设备无法回收和利用已经喷洒的抛光液，其抛光液的处理均使用除水装置再抛光之后进行除水。这样不仅增加劳动力，而且还浪费除水的带来的劳动成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决现有石材抛光装置不能够回收和利用抛光液的技术问题，本实用新型提供一种石材抛光装置。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：

一种石材抛光装置，包括机架，机架上设置有能够通过旋转对大理石进行抛光的磨盘、驱动磨盘旋转的电动机以及与机架固定连接的支架，所述支架上设置有固定设置有扶手；所述机架上还设置有为磨盘提供抛光润滑液体的供液系统以及能够收集大理石表面残留抛光润滑液体的抛光液回收系统，所述供液系统包括能够存储抛光润滑液体的储液箱以及为磨盘提供抛光液的供水接入管，所述供水接入管与储液箱出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵，所述水泵的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘，所述水泵的出口连接有能够过滤水泵出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱内的过滤器。

工作原理：当抛光液洒在磨盘上抛光大理石之后，抛光液回收系统能将残在大理石上的抛光润滑液体回收并过滤之后再利用这样不对循环，不仅增加了抛光润滑液体的利用率，还免去了再次清理大理石上残留的抛光液的工作，减少了劳动力，并且降低了抛光润滑液体的消耗，减少资源浪费，提高大理石抛光的经济效益。

进一步地，所述供液系统还包括防止异物碰撞到磨盘的防护罩，防护罩一端与机架固定连接，防护罩的另一端设置有能够容纳磨盘的开口，供水接入管贯穿防护罩与防护罩的开口连通，供水接入管与防护罩固定连接。

通过设置防护罩避免高速旋转的磨盘误伤他人，同时又避免高速旋转的磨盘撞击在非大理石表面的其它硬质物体上而损坏磨盘。

进一步地，所述抛光液回收系统还包括固定设置在机架下方垫块，垫块上固定设置有能够刮去残留在大理石上的抛光液的刮板，吸水盘固定设置在垫块上。

进一步地，所述刮板呈圆弧状。圆弧状的刮板更加容易将大理石上残留的抛光液聚集在一起便于吸取回收，提抛光液回收利用率。

进一步地，所述机架下方还设置有一对滚轮，机架从左至右依次为磨盘、吸水盘、滚轮以及支架。

进一步地，所述过滤器包括与机架固定连接的底座，底座上固定设置有过滤缸，过滤缸的一端与底座连接，过滤缸的另一端设置有开口空腔，过滤缸的开口空腔内设置有过滤网，过滤缸的开口空腔处设置有密封过滤缸的开口空腔的密封盖，过滤缸上固定设置有与过滤缸的开口空腔接通的出水口接入管，密封盖上固定设置有能够与过滤缸的开口空腔接通的入水口接入管，密封盖与过滤网之间设置有密封圈。

本实用新型的有益效果如下：

1、当抛光液洒在磨盘上抛光大理石之后，抛光液回收系统能将残在大理石上的抛光润滑液体回收并过滤之后再利用这样不对循环，不仅增加了抛光润滑液体的利用率，还免去了再次清理大理石上残留的抛光液的工作，减少了劳动力，并且降低了抛光润滑液体的消耗，减少资源浪费，提高大理石抛光的经济效益。

2、通过设置防护罩避免高速旋转的磨盘误伤他人，同时又避免高速旋转的磨盘撞击在非大理石表面的其它硬质物体上而损坏磨盘。

3、圆弧状的刮板更加容易将大理石上残留的抛光液聚集在一起便于吸取回收，提抛光液回收利用率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1中过滤器的结构示意图；

图3是图2中过滤网的结构示意图；

图4是图1中刮板的立体结构示意图；

图5是图1中刮板的俯视图。

附图标记：1.机架，2.防护罩，3.磨盘，4.电动机，5.水泵，6.过滤器，6-1.底座，6-2.过滤缸，6-3.过滤网，6-4.密封圈,6-5.密封盖,6-6.入水口接入管，6-7.出水口接入管，7.储液箱，8.支架，9.扶手，10.滚轮，11.垫块，12.刮板，13.吸水盘，14.供水接入管。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型实施方式的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”、“上”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例1

如图1到5所示，本实施例提供一种石材抛光装置，包括机架1，机架1上设置有能够通过旋转对大理石进行抛光的磨盘3、驱动磨盘3旋转的电动机4以及与机架1固定连接的支架8，所述支架8上设置有固定设置有扶手9；所述机架1上还设置有为磨盘3提供抛光润滑液体的供液系统以及能够收集大理石表面残留抛光润滑液体的抛光液回收系统，所述供液系统包括能够存储抛光润滑液体的储液箱7以及为磨盘3提供抛光液的供水接入管14，所述供水接入管14与储液箱7出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵5，所述水泵5的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘13，所述水泵5的出口连接有能够过滤水泵5出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱7内的过滤器6。当抛光液洒在磨盘3上抛光大理石之后，抛光液回收系统能将残在大理石上的抛光润滑液体回收并过滤之后再利用这样不对循环，不仅增加了抛光润滑液体的利用率，还免去了再次清理大理石上残留的抛光液的工作，减少了劳动力，并且降低了抛光润滑液体的消耗，减少资源浪费，提高大理石抛光的经济效益。

所述供液系统还包括防止异物碰撞到磨盘3的防护罩2，防护罩2一端与机架1固定连接，防护罩2的另一端设置有能够容纳磨盘3的开口，供水接入管14贯穿防护罩2与防护罩2的开口连通，供水接入管14与防护罩2固定连接。

通过设置防护罩2避免高速旋转的磨盘3误伤他人，同时又避免高速旋转的磨盘3撞击在非大理石表面的其它硬质物体上而损坏磨盘3。

实施例2

如图1到5所示，本实施例提供一种石材抛光装置，包括机架1，机架1上设置有能够通过旋转对大理石进行抛光的磨盘3、驱动磨盘3旋转的电动机4以及与机架1固定连接的支架8，所述支架8上设置有固定设置有扶手9；所述机架1上还设置有为磨盘3提供抛光润滑液体的供液系统以及能够收集大理石表面残留抛光润滑液体的抛光液回收系统，所述供液系统包括能够存储抛光润滑液体的储液箱7以及为磨盘3提供抛光液的供水接入管14，所述供水接入管14与储液箱7出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵5，所述水泵5的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘13，所述水泵5的出口连接有能够过滤水泵5出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱7内的过滤器6。

所述抛光液回收系统还包括固定设置在机架1下方垫块11，垫块11上固定设置有能够刮去残留在大理石上的抛光液的刮板12，吸水盘13固定设置在垫块11上。

所述刮板12呈圆弧状。圆弧状的刮板12更加容易将大理石上残留的抛光液聚集在一起便于吸取回收，提抛光液回收利用率。

实施例3

如图1到5所示，本实施例提供一种石材抛光装置，包括机架1，机架1上设置有能够通过旋转对大理石进行抛光的磨盘3、驱动磨盘3旋转的电动机4以及与机架1固定连接的支架8，所述支架8上设置有固定设置有扶手9；所述机架1上还设置有为磨盘3提供抛光润滑液体的供液系统以及能够收集大理石表面残留抛光润滑液体的抛光液回收系统，所述供液系统包括能够存储抛光润滑液体的储液箱7以及为磨盘3提供抛光液的供水接入管14，所述供水接入管14与储液箱7出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵5，所述水泵5的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘13，所述水泵5的出口连接有能够过滤水泵5出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱7内的过滤器6。

所述机架1下方还设置有一对滚轮10，机架1从左至右依次为磨盘3、吸水盘13、滚轮10以及支架8。

所述过滤器6包括与机架1固定连接的底座6-1，底座6-1上固定设置有过滤缸6-2，过滤缸6-2的一端与底座6-1连接，过滤缸6-2的另一端设置有开口空腔，过滤缸6-2的开口空腔内设置有过滤网6-3，过滤缸6-2的开口空腔处设置有密封过滤缸6-2的开口空腔的密封盖6-5，过滤缸6-2上固定设置有与过滤缸6-2的开口空腔接通的出水口接入管6-7，密封盖6-5上固定设置有能够与过滤缸6-2的开口空腔接通的入水口接入管6-6，密封盖6-5与过滤网6-3之间设置有密封圈6-4。

Claims (6)

1.一种石材抛光装置，包括机架(1)，机架(1)上设置有能够通过旋转对大理石进行抛光的磨盘(3)、驱动磨盘(3)旋转的电动机(4)以及与机架(1)固定连接的支架(8)，所述支架(8)上设置有固定设置有扶手(9)；其特征在于，所述机架(1)上还设置有为磨盘(3)提供抛光润滑液体的供液系统以及能够收集大理石表面残留抛光润滑液体的抛光液回收系统，所述供液系统包括能够存储抛光润滑液体的储液箱(7)以及为磨盘(3)提供抛光液的供水接入管(14)，所述供水接入管(14)与储液箱(7)出液口通过管道接通，抛光液回收系统包括水泵(5)，所述水泵(5)的入口连接有能够吸取残留在大理石上的抛光液的吸水盘(13)，所述水泵(5)的出口连接有能够过滤水泵(5)出口流出的抛光液并将过滤后的抛光液运送至储液箱(7)内的过滤器(6)。

2.根据权利要求1所述的石材抛光装置，其特征在于，所述供液系统还包括防止异物碰撞到磨盘(3)的防护罩(2)，防护罩(2)一端与机架(1)固定连接，防护罩(2)的另一端设置有能够容纳磨盘(3)的开口，供水接入管(14)贯穿防护罩(2)与防护罩(2)的开口连通，供水接入管(14)与防护罩(2)固定连接。

3.根据权利要求1所述的石材抛光装置，其特征在于，所述抛光液回收系统还包括固定设置在机架(1)下方垫块(11)，垫块(11)上固定设置有能够刮去残留在大理石上的抛光液的刮板(12)，吸水盘(13)固定设置在垫块(11)上。

4.根据权利要求3所述的石材抛光装置，其特征在于，所述刮板(12)呈圆弧状。

5.根据权利要求1所述的石材抛光装置，其特征在于，所述机架(1)下方还设置有一对滚轮(10)，机架(1)从左至右依次为磨盘(3)、吸水盘(13)、滚轮(10)以及支架(8)。

6.根据权利要求1所述的石材抛光装置，其特征在于，所述过滤器(6)包括与机架(1)固定连接的底座(6-1)，底座(6-1)上固定设置有过滤缸(6-2)，过滤缸(6-2)的一端与底座(6-1)连接，过滤缸(6-2)的另一端设置有开口空腔，过滤缸(6-2)的开口空腔内设置有过滤网(6-3)，过滤缸(6-2)的开口空腔处设置有密封过滤缸(6-2)的开口空腔的密封盖(6-5)，过滤缸(6-2)上固定设置有与过滤缸(6-2)的开口空腔接通的出水口接入管(6-7)，密封盖(6-5)上固定设置有能够与过滤缸(6-2)的开口空腔接通的入水口接入管(6-6)，密封盖(6-5)与过滤网(6-3)之间设置有密封圈(6-4)。

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