CN209679985U - 单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，包括锅体和设置在锅体上方的锅盖，锅盖顶部连接横梁的一端，横梁的中部连接液压缸的驱动端，液压缸固定设置在立柱上，液压缸和液压站电连接，液压站具有液压系统；锅体底部设置出料阀和进料阀；锅盖上设置有搅拌机构，搅拌机构位于锅盖的中心位置，搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构；锅体底部中间位置设置有均质机构，均质机构包括第三电机，第三电机的驱动端和均质器传动连接，均质器设置在锅体内；锅盖上连接有抽真空系统，抽真空系统包括真空泵。本实用新型功能丰富，使得膏体的乳化反应更均匀，气泡少，颗粒更细腻，膏体更透明、更光滑。

Description

单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机

技术领域

本发明涉及制膏设备技术领域，具体涉及一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机。

背景技术

在牙膏、膏状化妆品、药品乳膏等制作行业中，均需要用到制膏机，制膏机将液体和物料进行混合、溶解、均质、细化、研磨、剪切、乳化，从而得到最终的成品膏体。

现有的制膏机功能单一，不能适应各种碱性、酸性、各种密度的膏体生产需求；不能实现水相、油相、粉料的最佳发胶和最佳混合，乳化均质效果不透，膏体颗粒不够细腻、光滑，特别是先型透明膏体的气泡不够干净，对膏体的灌装有影响，容易引起膏体本身品种的不稳定。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种功能丰富的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，使得膏体的乳化反应更均匀，气泡少，颗粒更细腻，膏体更透明、更光滑。

为此，本发明提供的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，包括锅体和设置在所述锅体上方的锅盖，所述锅盖顶部连接横梁的一端，所述横梁的中部连接液压缸的驱动端，所述液压缸固定设置在立柱上，所述液压缸和液压站电连接，所述液压站具有液压系统；所述锅体底部设置出料阀和进料阀；所述锅盖上设置有搅拌机构，所述搅拌机构位于所述锅盖的中心位置，所述搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构；所述搅拌机构包括设置在所述横梁上的第一电机，所述第一电机的驱动端通过传动结构连接搅拌轴，所述搅拌轴穿过所述锅盖伸入所述锅体内，所述搅拌轴上设置有搅拌桨，所述搅拌桨上竖直延伸有搅拌叶片；所述搅拌轴的下端设置锚式刮板，所述锚式刮板内侧垂直延伸有多个刮片；所述分散机构包括设置在所述锅盖上的第二电机，所述第二电机的驱动端连接分散轴，所述分散轴上设置有分散盘；所述锅体底部中间位置设置有均质机构，所述均质机构包括第三电机，所述第三电机的驱动端和均质器传动连接，所述均质器设置在所述锅体内；所述锅盖上连接有抽真空系统，所述抽真空系统包括真空泵。

在本发明的一个可选实施例中，所述锅体外壁还设置有夹套，所述夹套的右下侧设置夹套冷却进水口，所述夹套的左上侧设置夹套冷却出水口，所述夹套的内腔内设置有螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述夹套冷却进水口进入所述内腔的冷却液均匀流动，从所述夹套冷却出水口流出所述内腔；或者用于带动从所述夹套冷却出水口进入所述内腔的高温水蒸气均匀流动，从所述夹套冷却进水口流出所述内腔。

在本发明的一个可选实施例中，所述传动结构包括设置在所述第一电机驱动端的链轮和设置在所述搅拌轴上端的链轮，两个所述链轮之间连接有链条。

在本发明的一个可选实施例中，所述分散盘外周设置有若干分散叶片，所述分散叶片为向上向下交错设置，且呈轴向45°斜切设置。

在本发明的一个可选实施例中，所述分散轴上的轴承座上套设有分散冷却夹套，所述分散冷却夹套包括分散冷却夹套进水口和分散冷却夹套出水口，所述分散冷却夹套出水口高于所述分散冷却夹套进水口，所述分散冷却夹套的内腔设置螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述分散冷却夹套进水口进入所述内腔的冷却液向上流动，从所述分散冷却夹套出水口流出所述内腔。

在本发明的一个可选实施例中，所述均质器包括均质轴、设置在所述均质轴上的转子以及固定设置在所述锅体底部的定子，所述转子包括转子轴部以及沿着所述转子轴部外壁均匀设置的转子叶片，所述转子叶片呈月牙状，数量有四至八个；所述定子呈碗状，所述定子设置有贯通其内壁和外壁的均质孔，所述定子的外壁设置有条形的切割槽。

在本发明的一个可选实施例中，所述均质轴上的轴承座上套设有均质冷却夹套，所述均质冷却夹套包括均质冷却夹套进水口和均质冷却夹套出水口，所述均质冷却夹套出水口高于所述均质冷却夹套进水口，所述均质冷却夹套的内腔设置螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述均质冷却夹套进水口进入所述内腔的冷却液向上流动，从所述均质冷却夹套出水口流出所述内腔。

在本发明的一个可选实施例中，所述锅盖上还设置有观察视镜，所述观察视镜包括视镜玻璃、刮刀轴、刮刀和手柄，所述刮刀一端通过所述刮刀轴设置在所述视镜玻璃上，所述刮刀轴另一端设置手柄；所述视镜玻璃有两层，在两层所述视镜玻璃内设置LED照明灯。

在本发明的一个可选实施例中，所述锅体内还设置有温控系统、在线自动清洗系统和真空度检测装置，分别用于对所述锅体内的温度进行控制，所述锅体和锅盖内壁进行清洗，所述锅体内部真空度进行测量。

在本发明的一个可选实施例中，所述在线自动清洗系统包括喷淋头和管道，所述管道的一端和供水装置连接，所述管道的另一端穿过所述锅盖上的喷淋接口和所述喷淋头连接，所述喷淋头可旋转地设置在锅体内，所述管道中部设置有自动控制阀门。

本发明提供的技术方案，具有如下优点：

本发明提供的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其功能丰富，使得膏体的乳化反应更均匀，气泡少，颗粒更细腻，膏体更透明、更光滑。采用单油缸(液压缸)设置在一个立柱上，其结构紧凑，占地面积小，无需考虑双油缸升降不同步的缺点。锅体底部为球型，球型的弧度解决了锅体内膏体流动性差的问题，从而使得锅体底部结料少，在锅体底部均质器的交变应力载荷下受力更均匀，均质转动更平稳。锅体底部设置物料的进出口，布局合理、使用方便。出料时通过锚式刮板刮壁，从而使得锅体内的膏体出料快而干净，避免结料，满足GMP卫生需求。采用夹套有利于热传导快速传递，提高锅体的快速加热和快速冷却效率，保证了膏体的反应速度，提高了膏体的品质。搅拌机构采用低变频调速，分散机构采用高变频调速，通过双高速分散和低速搅拌，能够实现物料的快速溶解混合。采用在搅拌桨上设置左旋、右旋的搅拌叶片，增加了物料紊流剪切的效果，使搅拌、翻料更均匀，物料粉碎更细。采用分散冷却夹套对分散轴轴承进行冷却，保证分散轴的传动精度；采用均质冷却夹套对均质轴轴承进行冷却，保证均质轴的传动精度。采用在锅盖上设置两套在线自动清洗系统，使锅盖不打开就能清洗锅体内各部分，清洗水液不易溅到锅体外面来，满足GMP卫生需求。采用刮刀可以对视镜玻璃进行清洁，采用视镜玻璃可观察膏体的内部反应成形状态。采用双端面机械密封可以保证锅体内的真空密封度，减少了机器密封度的维修频率，提高了机器的有效工作时间。所有电机采用变频调速电机，适应了各种配方膏体的搅拌速度、搅拌扭矩、乳化成形速度，使机器使用性更广，适应性更强，提高了机器的经济价值。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机的主视示意图。

图2为本发明所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机的左视示意图。

图3为本发明所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机的俯视示意图。

图4为本发明所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机的均质器的截面示意图。

附图标记说明：

10、锅体；11、夹套；111、夹套冷却进水口；112、夹套冷却出水口；12、进料阀；13、出料阀；20、锅盖；201、喷淋接口；202、温度传感器接口；203、破真空阀门接口；204、观察视镜；205、接点真空表接口；21、立柱；22、液压缸；23、液压站；24、密封圈；25、横梁；30、第一电机；31、搅拌轴；32、搅拌桨；321、搅拌叶片；33、锚式刮板；331、刮片；34、链轮；35、配重块；40、第二电机；41、分散轴；42、分散冷却夹套；43、分散盘；431、分散叶片；50、第三电机；51、均质器；511、转子；512、定子；52、均质冷却夹套；521、均质冷却夹套进水口；522、均质冷却夹套出水口；60、真空泵；61、水浴真空过滤器。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本发明实施例提供一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，集均质、高速分散、搅拌、乳化、脱气、去泡、夹套加热和夹套冷却等多功能为一体的新型真空乳化制膏机，广泛用于日用、化妆、食品、医药等行业，可以对具有一定粘度的液体或胶体物料在真空状态下，进行分散、均质、搅拌、乳化、抽真空、脱气、去泡，使之生产成符合相关国家标准、GMP标准要求的高品质膏体。

如图1-图4所示，单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，包括锅体10和设置在锅体10上方的锅盖20，锅体10设置在立柱21上，锅盖20顶部连接横梁25的一端，横梁25的中部连接液压缸22的驱动端，横梁25的另一端设置配重块35。液压缸22通过液压缸座固定设置在立柱21上，液压缸22和液压站23电连接，液压站23具有液压系统，由液压系统控制液压缸22运动，带动横梁24上升从而实现锅盖20的升降。采用单油缸(液压缸)设置在一个立柱上，其结构紧凑，占地面积小，无需考虑双油缸升降不同步的缺点。

锅体10底部为球型，球型的弧度解决了锅体10内膏体流动性差的问题，从而使得锅体10底部结料少，在锅体10底部均质器的交变应力载荷下受力更均匀，均质转动更平稳。锅体10底部左侧设置出料阀13、底部右侧设置进料阀12，布局合理、使用方便。当然，进料阀12和出料阀13也可以设置在锅体10底部前后两侧或者均质器的四周。出料时通过锚式刮板刮壁，从而使得锅体10内的膏体出料快而干净，避免结料，满足GMP卫生需求。

在锅体10和锅盖20的接合面处设置有密封圈24，密封圈24可以实现锅体10和锅盖20的良好密封。

锅体10外壁还设置有夹套11，夹套11的右下侧设置夹套冷却进水口111，夹套11的左上侧设置夹套冷却出水口112，夹套11的内腔内设置有螺旋导流板，螺旋导流板用于带动从夹套冷却进水口111进入该内腔的冷却液(夹套冷却)均匀流动，从夹套冷却出水口112流出该内腔；或者用于带动从夹套冷却出水口112进入该内腔的高温水蒸气(夹套加热)均匀流动，从夹套冷却进水口111流出该内腔。采用夹套11有利于热传导快速传递，提高锅体10的快速加热和快速冷却效率，保证了膏体的反应速度，提高了膏体的品质。

锅盖20上设置有搅拌机构，搅拌机构位于锅盖20的中心位置，搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构，搅拌机构采用低变频调速，分散机构采用高变频调速，通过双高速分散和低速搅拌，能够实现物料的快速溶解混合。

搅拌机构包括设置在横梁25上的第一电机30，第一电机30的驱动端通过摆线针轮减速机连接有链轮34，搅拌轴31上端设置有链轮34，两个链轮34之间连接有链条；搅拌轴31穿过锅盖20伸入锅体10内，搅拌轴31上设置有搅拌桨32，搅拌桨32上竖直延伸有搅拌叶片321，相邻的两个搅拌叶片321的旋向相反，例如一个左旋，另一个则为右旋，采用在搅拌桨32上设置左旋、右旋的搅拌叶片321，增加了物料紊流剪切的效果，使搅拌、翻料更均匀，物料粉碎更细。

搅拌轴31的下端设置锚式刮板33，锚式刮板33内侧垂直延伸有多个刮片331。采用锚式刮板33，增加了搅拌效果，使搅拌更均匀。

分散机构包括设置在锅盖20上的第二电机40，第二电机40的驱动端连接分散轴41，分散轴41上设置有两个分散盘43，两个分散盘43位于搅拌桨32的下方。分散盘43外周设置有若干分散叶片431，分散叶片431为向上向下交错设置，且呈轴向45°斜切设置。这样分散效果更好。

进一步的，分散轴41上的轴承座上套设有分散冷却夹套42，分散冷却夹套42包括分散冷却夹套进水口和分散冷却夹套出水口，分散冷却夹套出水口高于分散冷却夹套进水口，分散冷却夹套42的内腔设置螺旋导流板，螺旋导流板用于带动从分散冷却夹套进水口进入该内腔的冷却液向上流动，从分散冷却夹套出水口流出该内腔。采用分散冷却夹套42对分散轴41上的轴承座内的轴承进行冷却，保证分散轴的传动精度。

进一步的，在分散轴41上设置有双端面机械密封。采用双端面机械密封可以保证锅体10内的真空密封度，减少了机器密封度的维修频率，提高了机器的有效工作时间。

锅体10底部中间位置设置有均质机构，均质机构包括第三电机50，第三电机50的驱动端和均质器51传动连接，均质器51设置在锅体10内。均质器51包括均质轴、设置在均质轴上的转子511以及固定设置在锅体10底部的定子512，转子511包括转子轴部以及沿着转子轴部外壁均匀设置的转子叶片，转子叶片呈月牙状，数量有4-8个；定子512呈碗状，定子512设置有贯通其内壁和外壁的均质孔，定子512的外壁设置有条形的切割槽。

原料均质处理时，进入定子512内的原料，在高速旋转的离心力作用下，与定子512的内壁碰撞，在转子叶片的高速剪切下被粉碎，粒径变小，形成乳液，再经过定子512的均质孔喷出。喷出后的原料在定子512的外壁上的切割槽的高速剪切下，再次进行粉碎乳化处理，从而提高原料粉碎乳化的质量。采用4-8个均匀设置的转子叶片构成的均质器具有良好的结构稳定性和高效的粉碎、均质、乳化效果。

进一步的，均质轴上的轴承座上套设有均质冷却夹套52，均质冷却夹套52位于锅体10外，包括均质冷却夹套进水口521和均质冷却夹套出水口522，均质冷却夹套出水口522高于均质冷却夹套进水口521，均质冷却夹套52的内腔设置螺旋导流板，螺旋导流板用于带动从均质冷却夹套进水口521进入该内腔的冷却液向上流动，从均质冷却夹套出水口522流出该内腔。采用均质冷却夹套52对均质轴上的轴承座内的轴承进行冷却，保证均质轴的传动精度。

进一步的，在均质轴上设置有双端面机械密封。采用双端面机械密封可以保证锅体10内的真空密封度，减少了机器密封度的维修频率，提高了机器的有效工作时间。

锅盖20上连接有抽真空系统，抽真空系统包括真空泵60，真空泵60通过管道和水浴真空过滤器61相连，水浴真空过滤器61通过管道和锅盖20相连。真空泵60可以实现制膏机的恒真空度，根据工艺参数需求任意设定真空度值，从而适用于各种需要脱气介质物料和易发泡介质物料的需要。

锅体10内还设置有温控系统、在线自动清洗系统和真空度检测装置，分别用于对锅体10内的温度进行控制，锅体10和锅盖20内壁进行清洗，锅体10内部真空度进行测量。

在线自动清洗系统包括喷淋头和管道，管道的一端和供水装置连接，管道的另一端穿过锅盖20上的喷淋接口201和喷淋头连接，喷淋头可旋转地设置在锅体10内，管道中部设置有自动控制阀门。在锅盖20上设置两套在线自动清洗系统，使锅盖20不打开就能清洗锅体10内各部分，清洗水液不易溅到锅体10外面来，满足GMP卫生需求。

锅盖20上设置温度传感器接口202，温度传感器设置在锅体10内，温度传感器的电线通过温度传感器接口202和电源连接，温度传感器用于检测锅体10内的温度。

锅盖20上设置接点真空表接口205，接点真空表设置在锅体10内，接点真空表的电线通过接点真空表接口205和电源连接，接点真空表用于检测锅体10内的真空度。

锅盖20上设置破真空阀门接口203，破真空阀门接口203和破真空阀门连接，用于对锅体10内进行破真空。

锅盖20上还设置有观察视镜204，用于观察锅体10的内部，包括视镜玻璃、刮刀轴、刮刀和手柄，刮刀一端通过刮刀轴设置在视镜玻璃上，刮刀轴另一端设置手柄；视镜玻璃有两层，在两层视镜玻璃内设置LED照明灯。通过旋转手柄，可以对视镜玻璃进行清洁；通过视镜玻璃可观察膏体的内部反应成形状态；通过LED照明灯可以看清楚锅体10内膏体的各时段状态。

进一步的，第一电机30、第二电机40、第三电机50均采用变频调速电机，能够节能增效，可根据需要提供不同的转速和不同的搅拌扭矩，从而适应了各种配方膏体的搅拌速度、搅拌扭矩、乳化成形速度，使机器使用性更广，适应性更强，提高了机器的经济价值。

单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机还包括控制系统(PLC控制器)，控制系统与液压系统和抽真空系统相连(贯通、互联、互锁)，用于自动化控制制膏机的各项运作，提高制膏机的操作效率和智能化水平。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，包括锅体和设置在所述锅体上方的锅盖，所述锅盖顶部连接横梁的一端，所述横梁的中部连接液压缸的驱动端，所述液压缸固定设置在立柱上，所述液压缸和液压站电连接，所述液压站具有液压系统；所述锅体底部设置出料阀和进料阀；所述锅盖上设置有搅拌机构，所述搅拌机构位于所述锅盖的中心位置，所述搅拌机构的左右两侧分别设置有分散机构；所述搅拌机构包括设置在所述横梁上的第一电机，所述第一电机的驱动端通过传动结构连接搅拌轴，所述搅拌轴穿过所述锅盖伸入所述锅体内，所述搅拌轴上设置有搅拌桨，所述搅拌桨上竖直延伸有搅拌叶片；所述搅拌轴的下端设置锚式刮板，所述锚式刮板内侧垂直延伸有多个刮片；所述分散机构包括设置在所述锅盖上的第二电机，所述第二电机的驱动端连接分散轴，所述分散轴上设置有分散盘；所述锅体底部中间位置设置有均质机构，所述均质机构包括第三电机，所述第三电机的驱动端和均质器传动连接，所述均质器设置在所述锅体内；所述锅盖上连接有抽真空系统，所述抽真空系统包括真空泵。

2.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述锅体外壁还设置有夹套，所述夹套的右下侧设置夹套冷却进水口，所述夹套的左上侧设置夹套冷却出水口，所述夹套的内腔内设置有螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述夹套冷却进水口进入所述内腔的冷却液均匀流动，从所述夹套冷却出水口流出所述内腔；或者用于带动从所述夹套冷却出水口进入所述内腔的高温水蒸气均匀流动，从所述夹套冷却进水口流出所述内腔。

3.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述传动结构包括设置在所述第一电机驱动端的链轮和设置在所述搅拌轴上端的链轮，两个所述链轮之间连接有链条。

4.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述分散盘外周设置有若干分散叶片，所述分散叶片为向上向下交错设置，且呈轴向45°斜切设置。

5.根据权利要求4所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述分散轴上的轴承座上套设有分散冷却夹套，所述分散冷却夹套包括分散冷却夹套进水口和分散冷却夹套出水口，所述分散冷却夹套出水口高于所述分散冷却夹套进水口，所述分散冷却夹套的内腔设置螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述分散冷却夹套进水口进入所述内腔的冷却液向上流动，从所述分散冷却夹套出水口流出所述内腔。

6.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述均质器包括均质轴、设置在所述均质轴上的转子以及固定设置在所述锅体底部的定子，所述转子包括转子轴部以及沿着所述转子轴部外壁均匀设置的转子叶片，所述转子叶片呈月牙状，数量有四至八个；所述定子呈碗状，所述定子设置有贯通其内壁和外壁的均质孔，所述定子的外壁设置有条形的切割槽。

7.根据权利要求6所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述均质轴上的轴承座上套设有均质冷却夹套，所述均质冷却夹套包括均质冷却夹套进水口和均质冷却夹套出水口，所述均质冷却夹套出水口高于所述均质冷却夹套进水口，所述均质冷却夹套的内腔设置螺旋导流板，所述螺旋导流板用于带动从所述均质冷却夹套进水口进入所述内腔的冷却液向上流动，从所述均质冷却夹套出水口流出所述内腔。

8.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述锅盖上还设置有观察视镜，所述观察视镜包括视镜玻璃、刮刀轴、刮刀和手柄，所述刮刀一端通过所述刮刀轴设置在所述视镜玻璃上，所述刮刀轴另一端设置手柄；所述视镜玻璃有两层，在两层所述视镜玻璃内设置LED照明灯。

9.根据权利要求1所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述锅体内还设置有温控系统、在线自动清洗系统和真空度检测装置，分别用于对所述锅体内的温度进行控制，所述锅体和锅盖内壁进行清洗，所述锅体内部真空度进行测量。

10.根据权利要求9所述的单油缸双高速分散底部均质器真空乳化制膏机，其特征在于，所述在线自动清洗系统包括喷淋头和管道，所述管道的一端和供水装置连接，所述管道的另一端穿过所述锅盖上的喷淋接口和所述喷淋头连接，所述喷淋头可旋转地设置在锅体内，所述管道中部设置有自动控制阀门。