CN209615031U - 一种立式双面抛光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种立式双面抛光机,其特征在于:包括抛光模块、调节模块和偏心轮机构;本实用新型中,采用活动式抛光模块调节与固定式抛光模块之间的间距可针对不同大小的杆件两面进行打磨;采用的主动轮、打磨轮的调节轮三个轮的结构打磨带更加稳定且与杆件接触面更大打磨效果更好;调节模块中采用由偏心轮机构驱动的浮动板结构使得待打磨的杆件在水平方向往复移动,避免采用了固定式杆件打磨结构进行打磨导致杆件的表面发黑发焦的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光机领域,尤其涉及一种立式双面抛光机。
背景技术
抛光机是一种可对产品的表面进行打磨,使产品表面光滑的设备。一般的针对杆件的表面抛光采用的是打磨轮带动打磨带进行抛光的;像传统的抛光机中对杆件进行固定之后通过驱动板固定在两打磨带之间,在打磨的过程中待打磨的杆件处于相对静止状态,打磨带在打磨时下杆件的表面一处一直处于打磨状态导致刀模不均匀,导致杆件的表面打磨容易发黑发焦,影响产品的质量。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种立式双面抛光机,能够解决传统的打磨抛光机在打磨固定的杆件表面时,容易在杆件一处持续打磨造成杆件表面发黑发焦的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:一种立式双面抛光机,其创新点在于:包括
一对抛光模块,所述该对抛光模块为活动式抛光模块和固定式抛光模块,该对抛光模块结构相同并水平设置在同一高度,活动式抛光模块可沿着水平方向向固定式抛光模块远离或靠近;所述抛光模块包括水平基板、主动轮、打磨轮、调节轮和打磨带;所述主动轮、打磨轮和调节轮呈三角状水在水平基板上;所述打磨带缠绕在主动轮、打磨轮和调节轮上;打磨带通过张紧调节机构驱动调节轮进行张力调节;所述主动轮通过驱动电机驱动带动打磨轮和调节轮旋转从而带动打磨带运动;
一调节模块,所述调节模块设置在活动式抛光模块和固定式抛光模块之间且与抛光模块的打磨轮配合实现工件的打磨;所述调节模块包括升降基座、驱动板和浮动板;所述升降基座、驱动板和浮动板自下而上依次设置;所述升降基座可沿着竖直方向进行升降移动,所述升降基座上设置有电机驱动的丝杆螺母副,升降基座上还设置有一对与丝杆平行且位于丝杆两侧第一导向杆组,所述第一导向杆组上设置有与螺母连接配合的若干第一滑块组;所述驱动板水平固定连接在第一滑块组上;所述驱动板上设置有一对与丝杆平行的第二导向杆组,所述第二导向杆组上设置若干第二滑块组,所述浮动板水平固定连接在第二滑块组上;
一偏心轮机构,所述偏心轮机构设置在驱动板上,偏心轮机构包括伺服电机、偏心轮和连接杆;所述伺服电机的输出端与偏心轮相连,所述偏心轮上垂直设置有一铰接杆;所述连接杆的一端铰接在铰接杆上,连接杆的另一端连接在浮动板上;所述伺服电机驱动偏心轮旋转从而带动连接杆驱动浮动板往复移动。
进一步的,所述打磨轮上设置有一轴承座且该轴承座通过一连接座安装在水平基板上,打磨轮通过回转轴承绕着轴承座旋转。
进一步的,所述张紧调节机构为通过手轮驱动的丝杆螺母副结构,手轮驱动丝杆旋转从而带动调节轮在水平方向移动实现打磨带的松紧调节。
进一步的,所述浮动板上设置有待抛光工件配合的限位卡槽。
本实用新型的优点在于:
1)本实用新型中,采用活动式抛光模块调节与固定式抛光模块之间的间距可针对不同大小的杆件两面进行打磨;采用的主动轮、打磨轮的调节轮三个轮的结构打磨带更加稳定且与杆件接触面更大打磨效果更好;调节模块中采用由偏心轮机构驱动的浮动板结构使得待打磨的杆件在水平方向往复移动,避免采用了固定式杆件打磨结构进行打磨导致杆件的表面发黑发焦的问题。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型的一种立式双面抛光机的立体结构图。
图2为本实用新型的一种立式双面抛光机的调节模块结构图。
图3为本实用新型的一种立式双面抛光机的驱动板结构图。
具体实施方式
下面的实施例可以使本专业的技术人员更全面地理解本实用新型,但并不因此将本实用新型限制在所述的实施例范围之中。
如图1至图3所示的一种立式双面抛光机,包括
一对抛光模块1,所述该对抛光模块为活动式抛光模块11和固定式抛光模块12,该对抛光模块1结构相同并水平设置在同一高度,活动式抛光模块11可沿着水平方向向固定式抛光模块12远离或靠近;所述抛光模块1包括水平基板13、主动轮14、打磨轮15、调节轮16和打磨带17;所述主动轮14、打磨轮15和调节轮16呈三角状水在水平基板13上;所述打磨带17缠绕在主动轮14、打磨轮15和调节轮16上;打磨带17通过张紧调节机构驱动调节轮进行张力调节;所述主动轮14通过驱动电机驱动带动打磨轮15和调节轮16旋转从而带动打磨带17运动。
一调节模块2,所述调节模块2设置在活动式抛光模块11和固定式抛光模块12之间且与抛光模块1的打磨轮15配合实现工件的打磨;所述调节模块2包括升降基座21、驱动板22和浮动板23;所述升降基座21、驱动板22和浮动板23自下而上依次设置;所述升降基座21可沿着竖直方向进行升降移动,所述升降基座21上设置有电机驱动的丝杆螺母副24,升降基座21上还设置有一对与丝杆平行且位于丝杆两侧第一导向杆组25,所述第一导向杆25组上设置有与螺母连接配合的若干第一滑块组26;所述驱动板22水平固定连接在第一滑块组26上;所述驱动板23上设置有一对与丝杆平行的第二导向杆组27,所述第二导向杆组27上设置若干第二滑块组28,所述浮动板23水平固定连接在第二滑块组27上。
一偏心轮机构3,所述偏心轮机构3设置在驱动板22上,偏心轮机构3包括伺服电机31、偏心轮32和连接杆33;所述伺服电机31的输出端与偏心轮32相连,所述偏心轮32上垂直设置有一铰接杆;所述连接杆33的一端铰接在铰接杆上,连接杆33的另一端连接在浮动板23上;所述伺服电机31驱动偏心轮32旋转从而带动连接杆33驱动浮动板23往复移动。
打磨轮15上设置有一轴承座151且该轴承座151通过一连接座安装在水平基板13上,打磨轮15通过回转轴承绕着轴承座151旋转。
张紧调节机构为通过手轮驱动的丝杆螺母副结构,手轮驱动丝杆旋转从而带动调节轮在水平方向移动实现打磨带的松紧调节。
浮动板23上设置有待抛光工件配合的限位卡槽。
本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (4)
1.一种立式双面抛光机,其特征在于:包括
一对抛光模块,所述该对抛光模块为活动式抛光模块和固定式抛光模块,该对抛光模块结构相同并水平设置在同一高度,活动式抛光模块可沿着水平方向向固定式抛光模块远离或靠近;所述抛光模块包括水平基板、主动轮、打磨轮、调节轮和打磨带;所述主动轮、打磨轮和调节轮呈三角状水在水平基板上;所述打磨带缠绕在主动轮、打磨轮和调节轮上;打磨带通过张紧调节机构驱动调节轮进行张力调节;所述主动轮通过驱动电机驱动带动打磨轮和调节轮旋转从而带动打磨带运动;
一调节模块,所述调节模块设置在活动式抛光模块和固定式抛光模块之间且与抛光模块的打磨轮配合实现工件的打磨;所述调节模块包括升降基座、驱动板和浮动板;所述升降基座、驱动板和浮动板自下而上依次设置;所述升降基座可沿着竖直方向进行升降移动,所述升降基座上设置有电机驱动的丝杆螺母副,升降基座上还设置有一对与丝杆平行且位于丝杆两侧第一导向杆组,所述第一导向杆组上设置有与螺母连接配合的若干第一滑块组;所述驱动板水平固定连接在第一滑块组上;所述驱动板上设置有一对与丝杆平行的第二导向杆组,所述第二导向杆组上设置若干第二滑块组,所述浮动板水平固定连接在第二滑块组上;
一偏心轮机构,所述偏心轮机构设置在驱动板上,偏心轮机构包括伺服电机、偏心轮和连接杆;所述伺服电机的输出端与偏心轮相连,所述偏心轮上垂直设置有一铰接杆;所述连接杆的一端铰接在铰接杆上,连接杆的另一端连接在浮动板上;所述伺服电机驱动偏心轮旋转从而带动连接杆驱动浮动板往复移动。
2.根据权利要求1所述的一种立式双面抛光机,其特征在于:所述打磨轮上设置有一轴承座且该轴承座通过一连接座安装在水平基板上,打磨轮通过回转轴承绕着轴承座旋转。
3.根据权利要求1所述的一种立式双面抛光机,其特征在于:所述张紧调节机构为通过手轮驱动的丝杆螺母副结构,手轮驱动丝杆旋转从而带动调节轮在水平方向移动实现打磨带的松紧调节。
4.根据权利要求1所述的一种立式双面抛光机,其特征在于:所述浮动板上设置有待抛光工件配合的限位卡槽。
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CN201822062722.6U CN209615031U (zh) | 2018-12-10 | 2018-12-10 | 一种立式双面抛光机 |
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CN201822062722.6U Active CN209615031U (zh) | 2018-12-10 | 2018-12-10 | 一种立式双面抛光机 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112192390A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-08 | 张仙霞 | 一种铸造件用的打磨装置及其打磨方法 |
CN112872993A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-06-01 | 梁康 | 一种用于五金加工的立体打磨设备 |
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2018
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