CN209533086U - 一种溅射靶材打磨夹具 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种溅射靶材打磨夹具，涉及夹具领域，包括磨床，磨床上固定连接有3个以上的垫块，垫块上放置有溅射靶材，垫块抵接溅射靶材靠近地面的一面，磨床上固定连接有1个以上的固定底座；固定底座上固定连接有抵接块，固定底座上活动连接有定位块，固定底座上还设置有调节件，调节件用于调节抵接块与定位块之间的相对位置，当抵接块和定位块抵紧溅射靶材的两侧时，溅射靶材与固定底座的相对位置固定。抵接块与定位块减少溅射靶材在打磨过程中产生的振动，垫块能够托住溅射靶材，避免溅射靶材受压弯曲，导致溅射靶材的表面不能够完全打磨到，对溅射靶材表面的光洁度和平面度都有所提升，降低了溅射靶材磨削的废品率。

Description

一种溅射靶材打磨夹具

技术领域

本实用新型涉及夹具领域，尤其是涉及一种溅射靶材打磨夹具。

背景技术

物理气相沉积是半导体芯片和TFT-LCD生产过程中最关键的工艺之一，溅射金属溅射靶材是半导体芯片生产、薄膜晶体管液晶显示器设备和薄膜太阳能电池等制造加工过程中最重要的原材料之一。为了满足溅射的要求，溅射靶材表面的光洁度必须很高，例如无划伤、无凹坑等，因此在溅射靶材的生产工作中需要利用特定的砂轮对溅射靶材进行打磨。

在现有的打磨程序中，工作人员通常会将溅射靶材直接放置在磨床上，利用溅射靶材自身的重量来保持稳定。但是大尺寸平板显示靶材如钼等高纯材料，其溅射表面有较高的光洁度、平面度要求，且溅射靶材长度长至两米到三米，板厚薄约十几厘米。同时，钼非铁磁性材料，无法直接利用平面磨床工作台磁性将其紧固，磨削过程中，如工况不好很容易造成振动，使得溅射靶材表面光洁度达不到要求、平面度达不到要求，导致溅射靶材的废品率高。

实用新型内容

针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种溅射靶材打磨夹具，其具有令溅射靶材的磨削废品率低的效果。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种溅射靶材打磨夹具，包括磨床，所述磨床上固定连接有3个以上的垫块，所述垫块上放置有溅射靶材，所述垫块抵接所述溅射靶材靠近地面的一面，所述磨床上固定连接有1个以上的固定底座；

所述固定底座上固定连接有抵接块，所述固定底座上活动连接有定位块，所述固定底座上还设置有调节件，所述调节件用于调节所述抵接块与所述定位块之间的相对位置，当所述抵接块和所述定位块抵紧所述溅射靶材的两侧时，所述溅射靶材与所述固定底座的相对位置固定。

通过采用上述技术方案，使得工作人员可以通过抵接块与定位块使得溅射靶材的位置被限定，减少溅射靶材在打磨过程中产生的振动，从而提升了磨削后溅射靶材表面的光洁度，且固定底座之间的垫块能够托住溅射靶材，避免在对溅射靶材进行打磨时，溅射靶材受压弯曲，导致溅射靶材的表面不能够完全打磨到，对溅射靶材表面的光洁度和平面度都有所提升，继而降低了溅射靶材磨削的废品率。

进一步的：所述磨床上还固定连接有定位端块，所述定位端块上固定连接有定位台阶，所述定位台阶抵接所述溅射靶材的两端。

通过采用上述技术方案，定位台阶抵接溅射靶材的两端，有助于攻工作人员通过定位台阶的限位作用快速确定溅射靶材的合适的放置位置，使得固定底座和垫块能够将力均匀的作用在溅射靶材上，同时定位端块能够进一步的稳定溅射靶材，降低溅射靶材磨削的废品率。

进一步的：所述磨床表面设置为电磁板，所述固定底座、所述垫块和所述定位端块均与所述磨床磁性配合。

通过采用上述技术方案，使得工作人员可以通过控制磨床的磁性从而使得固定底座、垫块和定位端块均与磨床可拆卸连接，由于是通过磁性配合来固定，因此固定底座、垫块和定位端块在磨床上可调整的范围较大，调节的灵活性高。

进一步的：所述调节件为转动连接在所述固定底座上的螺纹柱，所述定位块与所述调节件螺纹连接，当所述调节件转动时，所述定位块沿所述调节件的长度方向运动。

通过采用上述技术方案，实现限位组件对于定位块的限定作用。

进一步的：所述调节件延伸穿出所述定位块的一端固定连接有旋转部。

通过采用上述技术方案，工作人员可以通过扳手或套筒来控制旋转部转动，便于工作人员转动螺纹柱。

进一步的：所述调节件为强力拉簧，所述调节件一端与所述定位块固定连接，另一端与所述抵接块固定连接，所述调节件的自由长度大小小于所述溅射靶材的宽度大小。

通过采用上述技术方案，工作人员向远离抵接块的方向拉动定位块后放入溅射靶材，此时松开定位块，定位块在强力拉簧的作用下将溅射靶材抵紧在抵接块上，实现对溅射靶材的限位。

进一步的：所述固定底座上开设有限位滑槽，所述定位块固定连接有限位滑块，所述限位滑块滑动连接在所述限位滑槽内。

通过采用上述技术方案，通过限位滑槽和限位滑块之间的限位作用，使得定位块只能沿着限位滑槽运动，避免定位块的滑动发生偏移。

进一步的：所述垫块上可拆卸的固定连接有撕拉膜。

通过采用上述技术方案，通过将撕拉膜撕下可以将附着在垫块上的凝结块清理干净，同时减少垫块的磨损，避免部分垫块因为被磨损而不能稳定的抵接溅射靶材。

进一步的：所述定位块上开设有定位槽，所述定位槽内可拆卸连接有定位杆。

通过采用上述技术方案，工作人员可以通过安装定位杆，并以定位杆为参照将固定底座排布在一条直线上。

综上所述，本实用新型的有益技术效果包括：

(1)工作人员可以通过抵接块与定位块使得溅射靶材的位置被限定，减少溅射靶材在打磨过程中产生的振动，从而提升了磨削后溅射靶材表面的光洁度，且固定底座之间的垫块能够托住溅射靶材，避免在对溅射靶材进行打磨时，溅射靶材受压弯曲，导致溅射靶材的表面不能够完全打磨到，对溅射靶材表面的光洁度和平面度都有所提升，继而降低了溅射靶材磨削的废品率；

(2)通过设置定位端块和定位台阶，使得溅射靶材的两端被抵接，有助于攻工作人员通过定位台阶的限位作用快速确定溅射靶材的放置位置，同时定位端块能够进一步的稳定溅射靶材，降低溅射靶材磨削的废品率；

(3)通过控制磨床的磁性从而使得固定底座、垫块和定位端块均与磨床可拆卸连接，由于是通过磁性配合来固定，因此固定底座、垫块和定位端块在磨床上可调整的范围较大，能够满足尺寸变化较大的溅射靶材。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的整体示意图；

图2为本实用新型实施例一展示限位滑块的示意图；

图3为本文实用新型实施例一展示定位杆的示意图；

图4为本实用新型实施例一展示撕拉膜的示意图；

图5为本实用新型实施例二展示强力拉簧的示意图。

附图标记：1、磨床；2、固定底座；3、垫块；4、定位端块；5、抵接块；6、调节件；7、定位块；8、限位滑块；9、限位滑槽；10、旋转部；11、溅射靶材；12、定位槽；13、定位杆；14、撕拉膜；15、定位台阶。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型进行详细描述。

实施例一

一种溅射靶材打磨夹具，如图1和图2所示，包括磨床1，磨床1设置为电磁板，磨床1上吸附有与磨床1磁性匹配的固定底座2、垫块3和定位端块4，工作人员可以通过控制磨床1的磁性使得固定底座2、垫块3和定位端块4均与磨床1可拆卸连接，且固定底座2、垫块3和定位端块4均与磨床1磁性配合，因此可以固定在磨床1上的任一位置，调节的灵活性较高。

固定底座2上固定连接有抵接块5，抵接块5上转动连接有调节件6，调节件6为螺纹柱，调节件6上螺纹连接有定位块7，定位块7上固定连接有限位滑块8，固定底座2上开设有限位滑槽9，限位滑块8滑动连接在限位滑槽9内，调节件6穿过定位块7的一端固定连接有旋转部10，旋转部10截面呈六边形，工作人员可以通过套筒扳手来转动旋转部10。

如图1和图3所示，当工作人员转动旋转部10时，定位块7沿着调节件6的长度方向运动，当工作人员将溅射靶材11放在抵接块5与定位块7之间后，可以调整定位块7的位置，使的定位块7将溅射靶材11抵紧在定位块7上。

抵接块5和定位块7对溅射靶材11的限位作用能够减少溅射靶材11在打磨过程中产生的震动，从而提升磨削后溅射靶材11表面的光洁度。

定位块7上开设有定位槽12，定位槽12内卡接有定位杆13，在调整固定底座2、垫块3和定位端块4的位置时，工作人员可以将定位杆13卡接在定位槽12内，以定位杆13为参照将固定底座2排布在一条直线上，从而更好的固定溅射靶材11。

磨床1上固定连接有1个以上的固定底座2，可以为3个，矩形块状的垫块3均匀排布在固定底座2之间，垫块3均抵紧溅射靶材11靠近地面的一面，当工作人员对固定底座2进行磨削时，垫块3能够托住溅射靶材11，避免溅射靶材11受压弯曲，导致溅射靶材11表面不能够完全打磨到。设置有垫块3能够同时提升溅射靶材11表面的光洁度和平面度，降低溅射靶材11磨削的废品率。

如图3和图4所示，垫块3上胶粘有撕拉膜14，磨削时的粉末碎屑可以通过将撕拉膜14撕下的方式清理掉，同时撕拉膜14能够减少垫块3的磨损，避免垫块3因为被磨损而不能稳定的抵接溅射靶材11。

如图1和图3所示，定位端块4位于溅射靶材11的两端，定位端块4上一体设置有定位台阶15，定位台阶15抵接溅射靶材11的两端,定位端块4有助于工作人员快速的定下溅射靶材11的合适的放置位置，使得固定底座2和垫块3将力均匀的作用在溅射靶材11上，且定位端块4也能起到进一步稳定溅射靶材11的作用，减低溅射靶材11磨削的废品率。

综上所述，当工作人员需要对溅射靶材11进行磨削时，可以根据溅射靶材11的尺寸将合适数量的固定底座2和垫块3安装在磨床1上，并通过定位杆13矫正，根据定位端块4将溅射靶材11调整到合适位置后，转动旋转部10，令定位块7将溅射靶材11抵紧在抵接块5上，限定溅射靶材11的位置，同时垫块3抵接溅射靶材11靠近地面的一面。此时再对溅射靶材11进行磨削，可以减少溅射靶材11在打磨过程中产生的振动，从而提升了磨削后溅射靶材11表面的光洁度，且固定底座2之间的垫块3能够托住溅射靶材11，避免在对溅射靶材11进行打磨时，溅射靶材11受压弯曲，导致溅射靶材11的表面不能够完全打磨到，对溅射靶材11表面的光洁度和平面度都有所提升，继而降低了溅射靶材11磨削的废品率。

实施例二

如图5所示，一种溅射靶材打磨夹具，与实施例一的区别在于，调节件6为强力拉簧，调节件6的一端与定位块7固定连接，另一端与抵接块5固定连接，调节件6的自由长度大小小于溅射靶材11的宽度大小，工作人员向远离抵接块5的方向拉动定位块7，并将溅射靶材11放入定位块7与抵接块5之间，松开定位块7之后，定位块7在调节件6的作用下将溅射靶材11抵紧在抵接块5上，实现对溅射靶材11的限位作用。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种溅射靶材打磨夹具，包括磨床（1），其特征在于：所述磨床（1）上固定连接有3个以上的垫块（3），所述垫块（3）上放置有溅射靶材（11），所述垫块（3）抵接所述溅射靶材（11）靠近地面的一面，所述磨床（1）上固定连接有1个以上的固定底座（2）；

所述固定底座（2）上固定连接有抵接块（5），所述固定底座（2）上活动连接有定位块（7），所述固定底座（2）上还设置有调节件（6），所述调节件（6）用于调节所述抵接块（5）与所述定位块（7）之间的相对位置，当所述抵接块（5）和所述定位块（7）抵紧所述溅射靶材（11）的两侧时，所述溅射靶材（11）与所述固定底座（2）的相对位置固定。

2.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述磨床（1）上还固定连接有定位端块（4），所述定位端块（4）上固定连接有定位台阶（15），所述定位台阶（15）抵接所述溅射靶材（11）的两端。

3.根据权利要求2所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述磨床（1）表面设置为电磁板，所述固定底座（2）、所述垫块（3）和所述定位端块（4）均与所述磨床（1）磁性配合。

4.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述调节件（6）为转动连接在所述固定底座（2）上的螺纹柱，所述定位块（7）与所述调节件（6）螺纹连接，当所述调节件（6）转动时，所述定位块（7）沿所述调节件（6）的长度方向运动。

5.根据权利要求4所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述调节件（6）延伸穿出所述定位块（7）的一端固定连接有旋转部（10）。

6.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述调节件（6）为强力拉簧，所述调节件（6）一端与所述定位块（7）固定连接，另一端与所述抵接块（5）固定连接，所述调节件（6）的自由长度大小小于所述溅射靶材（11）的宽度大小。

7.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述固定底座（2）上开设有限位滑槽（9），所述定位块（7）固定连接有限位滑块（8），所述限位滑块（8）滑动连接在所述限位滑槽（9）内。

8.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述垫块（3）上可拆卸的固定连接有撕拉膜（14）。

9.根据权利要求1所述的溅射靶材打磨夹具，其特征在于：所述定位块（7）上开设有定位槽（12），所述定位槽（12）内可拆卸连接有定位杆（13）。