CN209260259U - 一种清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种清洗装置，包括两端开口的容器及设置在容器内的至少两层隔板，其中，容器侧壁上设置有若干开口，至少两层隔板分别与清洗操作面平行，至少两层隔板之间具有一定距离，每一隔板上均设置有数量相等的孔，且籽晶部分通过每一隔板上的孔后，籽晶的轴向线段分别垂直于每一隔板的平面，使得籽晶在清洗时的位置固定。采用了本实用新型所述清洗装置，使得籽晶在清洗时相对容器的位置固定，同时开放式容器可以降低籽晶与腐蚀液反应变小并从隔板间脱离后籽晶与容器侧壁或容器底部的碰撞风险，便于籽晶清洗完成后顺利地从容器中流出，降低了使用带有磕碰或隐裂的籽晶去拉至单晶的断晶风险。

Description

一种清洗装置

技术领域

本实用新型涉及单晶硅制造领域，特别是涉及一种清洗装置。

背景技术

单晶硅的制作工艺其中一步是直拉单晶，所谓直拉单晶就是用单晶炉把多晶硅加热融化，再用籽晶向上拉引，慢慢形成一个长筒状的单晶棒，其中籽晶是具有和所需晶体相同晶向的小晶体，是生长单晶的种子，也叫晶种，在直拉单晶中，需要一定晶向的晶种为直拉单晶引晶，才能生长出所需晶向的单晶；而籽晶在使用前，须将其表面形成的氧化层以及粘附的不挥发物通过腐蚀液清洗干净；清洗过程中需将籽晶在腐蚀液中晃动，以加快反应速率，同时保证腐蚀的均匀性，但晃动的过程中，籽晶之间以及籽晶与工装之间的碰撞容易造成籽晶磕碰或隐裂，使用带有磕碰或隐裂的籽晶去拉至单晶，增加了断晶的风险，增大了生产事故发生的概率。

实用新型内容

为了解决现有技术中，清洗籽晶时易发生籽晶之间或籽晶与清洗工装之间的磕碰或隐裂问题，进而本实用新型提供了一种清洗装置。

本实用新型提供的清洗装置包括两端开口的容器及设置在容器内的至少两层隔板；其中，容器侧壁上设置有若干开口，至少两层隔板分别与清洗操作面平行，至少两层隔板之间具有一定距离，每一隔板上均设置有数量相等的孔，且籽晶部分通过每一隔板上的孔后，籽晶的轴向线段分别垂直于每一隔板的平面，使得籽晶在清洗时的位置固定。

采用了上述技术方案，清洗装置为开放式结构，与封闭式容器相比，降低了容器在移动时籽晶与容器侧壁或容器底部的碰撞风险，便于籽晶清洗完成后顺利地从容器中流出，容器内设置有与清洗操作面平行的至少两层隔板，并且两层隔板之间具有一定距离，每一隔板上均设置有数量相等的孔，且籽晶部分通过每一隔板上的孔后，籽晶轴向线段分别垂直于每一隔板平面，该结构的设计使得籽晶在清洗时的位置固定，避免了籽晶间或籽晶与容器间的碰撞，降低了使用带有磕碰或隐裂的籽晶去拉至单晶的断晶风险。

优选地，容器内设置有第一隔板和第二隔板，第一隔板上设置有若干第一孔，第二隔板上设置有与第一孔数量相等的若干第二孔，第一隔板上的若干第一孔的孔径均相同，第二隔板上的若干第二孔的孔径均相同。

采用了上述技术方案，设置为每一层隔板上若干孔的孔径相同，使得籽晶放置于隔板上后，籽晶在隔板上固定位置较均一，这样一方面可以使籽晶固定有序，另一方面可以提高容器容积的利用率。

优选地，第一孔的孔径大于第二孔的孔径。

采用了上述技术方案，清洗开始时第一隔板上的第一孔主要对籽晶起到固定作用，清洗过程中籽晶体积会减小，而由于第二孔的孔径较小，籽晶由于体积减小向下移动后，第二孔可以继续对籽晶起到很好的固定作用，从而可以进一步避免籽晶清洗过程中由于体积减小与容器底部进行碰撞的风险。

优选地，第一孔的孔径为第二孔的孔径的1.5倍。

采用了上述技术方案，清洗开始时第一孔主要对籽晶起到固定作用，清洗过程中籽晶体积会减小，籽晶由于体积减小向下移动后，由于第二孔的孔径较小，第二孔可以继续对籽晶起到很好的固定作用，而第一孔的孔径为第二孔的孔径的1.5倍，是最佳的数据范围。

优选地，相邻的第一孔之间圆心到圆心的直线距离相等。

采用了上述技术方案，使得第一隔板上孔的分布更加均匀，这样在固定籽晶时，可以使籽晶的排布更加有序。

优选地，相邻的第二孔之间圆心到圆心的直线距离相等。

采用了上述技术方案，使得第二隔板上孔的分布更加均匀，这样在固定籽晶时，可以使籽晶的排布更加有序。

优选地，第一隔板距离容器一边缘的最短距离为5cm至10cm。

采用了上述技术方案，当第一隔板远离清洗操作面时，有利于籽晶和腐蚀液接触，为清洗预留了空间；而当第一隔板靠近清洗操作面时，由于第一隔板与清洗操作面之间预留了空间，可以防止籽晶下部与清洗操作面接触发生彼此间的摩擦、碰撞，且5cm至10cm的距离为最佳范围。

优选地，第二隔板距离容器另一边缘的最短距离为5cm至10cm。

采用了上述技术方案，第二隔板距离容器另一边缘的最短距离为5cm至10cm，当第二隔板远离清洗操作面时，有利于露在第二隔板外的籽晶和腐蚀液接触，为清洗预留了空间；而当第二隔板靠近清洗操作面时，由于第二隔板与清洗操作面之间预留了空间，还可以防止籽晶下部与清洗操作面接触发生彼此间的摩擦、碰撞，且5cm至10cm的距离为最佳范围。

优选地，容器侧壁上还设置有握持结构。

采用了上述技术方案，方便工作人员通过握住握持结构进行操作，例如将清洗装置从腐蚀液中放入或取出、还可以通过左右适度移动清洗装置加快籽晶与腐蚀液的反应，提高了工作效率。

优选地，握持结构为对称设置的两个U型把手。

采用了上述技术方案，对称设置的两个U型把手使得工装的移动更加稳定不易掉落或偏移，并且便于左右适度移动工装可以加快籽晶与腐蚀液的反应、便于籽晶流出工装，提高了工作效率和安全性。

综上所述，采用了上述技术方案，本实用新型通过在容器内设置有至少两层与清洗操作面平行的隔板并且每一隔板上均设置有数量相等的若干孔，使得籽晶可固定在容器的隔板上，防止清洗过程中籽晶间的碰撞，通过设置两端开口、且侧壁也设置若干开口的容器，降低了容器在移动时籽晶与容器壁的碰撞风险，便于籽晶清洗完成后顺利地从容器中流出，采用本申请所述清洗装置，使得籽晶清洗过程中，磕碰不良率大大降低，从而减少了断晶事故的发生。

在容器内每一层隔板上的若干孔的孔径均相同，提高了容器容积的利用率，第一孔与第二孔的孔径不同解决了清洗后，变小的籽晶会与隔板之间发生碰撞以及脱离隔板时与底部发生碰撞的问题，且第一孔的孔径大于第二孔的孔径，便于工作初始时将需清洗的籽晶由小头向下插入第一隔板上的第一孔中，从而继续向下插入与第一孔对应的第二孔中，可以更好地起到固定籽晶的作用。

容器第一隔板、第二隔板分别距离容器边缘的距离为5cm至10cm，有利于露在隔板外的籽晶可以和腐蚀液接触，为清洗预留了空间，并防止了籽晶下部与容器下部接触发生彼此间的摩擦、碰撞。

附图说明

图1是本实用新型的一个具体实施例的清洗装置示意图；

图2是图1中清洗装置的主视图；

图3是图1中清洗装置的俯视图。

其中：1.握持结构；2.第一隔板；3.第二隔板；4.第一孔；5.第二孔；6.容器开口；7.隔板；8.孔。

具体实施方式

下面结合附图说明根据本实用新型的具体实施方式。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型并不限于下面公开的具体实施例的限制。

图1是本实用新型的一个具体实施例的清洗装置示意图；图2是本实用新型图1中所示清洗装置的主视图；图3是本实用新型图1中所示清洗装置的俯视图。

其中：1.握持结构；2.第一隔板；3.第二隔板；4.第一孔；5.第二孔；6.容器开口；7.隔板；8.孔。

如图所示，为了解决前述技术问题，本实用新型提供了一种清洗装置。

本实用新型提供的一个清洗装置的实施例中，如图1、图2和图3所示，清洗装置包括两端开口的容器及设置在容器内的至少两层隔板7；其中，容器侧壁上设置有若干容器开口6，至少两层隔板7分别与清洗操作面平行，至少两层隔板7之间具有一定距离，每一隔板7上均设置有数量相等的孔8，且籽晶部分通过每一隔板7上的孔8后，籽晶的轴向线段分别垂直于每一隔板7的平面，使得籽晶在清洗时的位置固定；其中，两层隔板7之间的一定距离可以根据籽晶的实际情况设置，在此不加以限定。

采用了上述技术方案，清洗装置包括两端开口的容器并且容器侧壁上设置有若干开口，与封闭式容器相比，开放式的容器降低了容器在移动时籽晶与容器底部及侧壁的碰撞风险，便于籽晶清洗完成后顺利地从容器中流出，容器不含有端部且侧壁由多个支撑柱等间距设置形成，便于腐蚀液进入容器，容器内设置有与清洗操作面平行的至少两层隔板，至少两层隔板之间具有一定间隔，并且每一隔板上均设置有数量相等的若干孔，籽晶固定在孔内，可以保证籽晶在清洗时的位置固定，避免了籽晶间或籽晶与容器间的碰撞，降低了使用带有磕碰或隐裂的籽晶去拉至单晶的断晶风险。

另一个实施例中，容器的一个具体结构可以是：容器不含有两端部，且多个支撑柱等间距设置形成具有开口的容器侧壁，容器内与清洗操作面平行设置有若干隔板7，若干隔板7的间距根据工作中籽晶的实际情况设置合适值，每一隔板7上均设置有数量相等的若干孔8，每一隔板7上孔8的数量根据实际工作情况设置合适值，且籽晶部分通过每一隔板7上的孔8后，籽晶轴向线段分别垂直于每一隔板7平面。

另一个实施例中，容器整体可以为圆柱形、棱柱形等结构中的一种，容器开口6的形状为矩形、正方形等形状中的一种，当容器整体为圆柱等有弧度的结构时，容器开口6也可以相应的为不同形状的弧面。容器内不止可以设置两层具有一定间隔的隔板7，可以根据工作需求适当的增加隔板7数量，例如：隔板7数量可以设置为四层，且隔板7间设置合适距离，即可。隔板7可以通过焊接或螺纹连接等方式中的任意一种固定连接至容器，以保证工装整体的稳定性，隔板7上设置孔8的形状可以结合籽晶的形状选择最合适的形状。

进一步地，作为优选实施例，容器内设置有第一隔板2和第二隔板3，第一隔板2上设置有若干第一孔4，第二隔板3上设置有与第一孔4数量相等的若干第二孔5，第一隔板2上的若干第一孔4的孔径均相同，第二隔板3上的若干第二孔5的孔径均相同。

采用了上述技术方案，每一层隔板上若干孔的孔径相同，籽晶放置于隔板上后，籽晶在隔板上固定位置较均一，一方面可以使籽晶固定有序，另一方面可以提高容器容积的利用率。

进一步地，作为优选实施例，第一孔4的孔径大于第二孔5的孔径。

采用了上述技术方案，第一孔的孔径大于第二孔的孔径，便于工作初始时将需清洗的籽晶由小头向下插入第一隔板上的第一孔中，从而继续向下插入与第一孔对应的第二孔中，清洗开始时第一孔主要对籽晶起到固定作用，清洗过程中籽晶体积会减小，籽晶由于体积减小向下移动后，由于第二孔的孔径较小，第二孔可以继续对籽晶起到很好的固定作用，直至清洗完毕，籽晶不会由于清洗过程中体积减小而滑落、磕碰，具有固定效果好的优点。

进一步地，作为优选实施例，第一孔4的孔径为第二孔5的孔径的1.5倍。

采用了上述技术方案，工作初始时将需清洗的籽晶由小头向下插入第一孔中，继续向下插入与第一孔对应的第二孔中，对籽晶进行固定，清洗开始时第一孔主要对籽晶起到固定作用，清洗过程中籽晶体积会减小，籽晶由于体积减小向下移动后，由于第二孔的孔径较小，可以继续对籽晶起到很好的固定作用，直至清洗完毕，籽晶都可以很好的固定在清洗装置的隔板上，而第一孔的孔径为第二孔的孔径的1.5倍，是最佳的数据范围，在该最佳范围内对籽晶的固定效果也更佳优异。

进一步地，作为优选实施例，相邻的第一孔4之间圆心到圆心的直线距离相等。

采用了上述技术方案，相邻的第一孔之间圆心到圆心的直线距离相等，这种结构设计使得第一隔板上第一孔的分布更加均匀，这样在固定籽晶时，一方面可以使籽晶的排布更加有序，另一方面由于布局合理，还可以提高第一隔板上第一孔的容积率，使得一次清洗籽晶的数量达到最多，进而提高了工作效率。

进一步地，作为优选实施例，相邻的第二孔5之间圆心到圆心的直线距离相等。

采用了上述技术方案，使得第二隔板上第二孔的分布更加均匀，这样在固定籽晶时，一方面可以使籽晶的排布更加有序，另一方面由于布局合理，还可以提高第二隔板上第二孔的容积率，使得一次清洗籽晶的数量达到最多，进而提高了工作效率。

进一步地，作为优选实施例，第一隔板2距离容器一边缘的最短距离为5cm至10cm。

采用了上述技术方案，第一隔板距离容器一边缘的最短距离为5cm至10cm，当第一隔板远离清洗操作面时，位于第一隔板上部的籽晶可以和腐蚀液充分接触，使得该部分的籽晶清洗更加干净，从而保证了整体的清洗效果；而当第一隔板靠近清洗操作面时，由于第一隔板与清洗操作面之间预留了5cm至10cm空间，可以防止位于第一隔板下方的籽晶端部与清洗操作面接触，从而避免籽晶与清洗操作面发生彼此间的摩擦、碰撞，且5cm至10cm的距离为最佳范围。

进一步地，作为优选实施例，第二隔板3距离容器另一边缘的最短距离为5cm至10cm。

采用了上述技术方案，第二隔板距离容器另一边缘的距离为5cm至10cm，当第二隔板远离清洗操作面时，露在第二隔板外的籽晶可以和腐蚀液充分接触，使得该部分的籽晶清洗更加干净，从而保证了整体的清洗效果；而当第二隔板靠近清洗操作面时，由于第二隔板与清洗操作面之间预留了空间，还可以防止位于第二隔板下方的籽晶端部与清洗操作面接触，从而避免了籽晶与清洗操作面之间发生彼此间的摩擦、碰撞，也就进一步降低了籽晶破裂的风险，且5至10cm的距离为最佳范围。

另一个实施例中，容器的第一隔板2与第二隔板3分别距离容器边缘的距离可以根据籽晶的长短和实际工作情况规定。

进一步地，作为优选实施例，清洗装置的容器侧壁上还设置有握持结构1。

采用了上述技术方案，容器侧壁上设置有握持结构方便工作人员将工装放入腐蚀液中或将工装从腐蚀液中提取出来，并且通过握住握持结构左右适度移动工装可以加快籽晶与腐蚀液的反应、便于籽晶流出工装，提高了工作效率。

另一个实施例中，握持结构1设置在容器上便于人工操作的位置，除了在工装上设置握持结构1，还可以设置自动升降设备，避免工作人员在将工装放入或提取时接触到腐蚀液，还可以为工装整体设置适度移动的设备加快反应的进行，提高工作效率。

进一步地，作为优选实施例，握持结构1为对称设置的两个U型把手。

采用了上述技术方案，对称设置的两个U型把手使得工装的移动更加稳定不易掉落或偏移，并且便于左右适度移动工装可以加快籽晶与腐蚀液的反应、便于籽晶流出工装，提高了工作效率和安全性。

综上所述，采用了上述技术方案，本实用新型在容器内设置有至少两层间隔，且与清洗操作面平行的隔板，并且每一隔板上均设置有数量相等的若干孔，保证了将籽晶表面脏污及氧化层清洗干净的同时，使得籽晶可固定在腐蚀容器内，防止清洗过程中与工装或籽晶间的碰撞，避免磕碰与隐裂的产生，使得磕碰不良率大大降低，减少断晶事故的发生。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括两端开口的容器及设置在所述容器内的至少两层隔板；

其中，所述容器侧壁上设置有若干开口，至少两层所述隔板分别与清洗操作面平行，至少两层所述隔板之间具有一定距离，每一所述隔板上均设置有数量相等的孔，且籽晶部分通过每一所述隔板上的孔后，所述籽晶的轴向线段分别垂直于每一所述隔板的平面，使得籽晶在清洗时的位置固定。

2.按照权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述容器内设置有第一隔板和第二隔板，所述第一隔板上设置有若干第一孔，所述第二隔板上设置有与第一孔数量相等的若干第二孔，所述第一隔板上的若干第一孔的孔径均相同，所述第二隔板上的若干第二孔的孔径均相同。

3.按照权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第一孔的孔径大于所述第二孔的孔径。

4.按照权利要求2或3所述的清洗装置，其特征在于，所述第一孔的孔径为所述第二孔的孔径的1.5倍。

5.按照权利要求2或3中所述的清洗装置，其特征在于，相邻的所述第一孔之间圆心到圆心的直线距离相等。

6.按照权利要求2或3中所述的清洗装置，其特征在于，相邻的所述第二孔之间圆心到圆心的直线距离相等。

7.按照权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第一隔板距离所述容器一边缘的最短距离为5cm至10cm。

8.按照权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第二隔板距离所述容器另一边缘的最短距离为5cm至10cm。

9.按照权利要求1或2所述的清洗装置，其特征在于，所述容器侧壁上还设置有握持结构。

10.按照权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，所述握持结构为对称设置的两个U型把手。