CN209001777U - 磁瓦预处理机构 - Google Patents

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刘刚
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Abstract

本实用新型公开一种磁瓦预处理机构,包括托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件、同步带输送组件以及下机架体,托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件以及同步带输送组件均固定在下机架体上,磁瓦抓取组件设置在托盘上料组件与同步带输送组件之间,磁瓦点胶组件设置在磁瓦等离子清洗组件与磁瓦下料组件之间,磁瓦等离子清洗组件以及磁瓦点胶组件均设置在同步带输送组件侧边。本实用新型实现了磁瓦与定子组装的预处理全过程,磁瓦预处理的全过程通过以上结构的结合,实现了全自动化作业,既提高了生产效率,同时也提高了处理精确度。

Description

磁瓦预处理机构
技术领域
本实用新型涉及定子磁瓦组装的技术领域,尤其涉及一种磁瓦预处理机构。
背景技术
磁瓦是永磁体中的一种,主要用在永磁电机上的瓦状磁铁。与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同,永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源。永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点,可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小等。
传统定子磁瓦组装工艺如下,先对磁瓦进行充磁,然后完成定子与磁瓦组装、点胶、固化,由于磁瓦组装前充磁使作业员不易组装,故造成作业劳动强度大且生产效率低。
实用新型内容
针对上述技术中存在的不足之处,本实用新型提供一种自动化预处理磁瓦的磁瓦预处理机构。
为了达到上述目的,本实用新型一种磁瓦预处理机构,包括托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件、同步带输送组件以及下机架体,所述托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件以及同步带输送组件均固定在下机架体上,所述磁瓦抓取组件设置在托盘上料组件与同步带输送组件之间,所述磁瓦点胶组件设置在磁瓦等离子清洗组件与磁瓦下料组件之间,所述磁瓦等离子清洗组件以及磁瓦点胶组件均设置在同步带输送组件侧边。
其中,所述托盘上料组件包括托盘上料工位、机器人取料工位、托盘下料工位以及上料托盘,所述机器人取料工位设置在托盘上料工位与托盘下料工位之间,内置有磁瓦片的上料托盘分别容置在托盘上料工位以及机器人取料工位上,已取出磁瓦片的上料托盘容置在托盘下料工位上。
其中,所述托盘上料组件还包括托盘横移组件,所述托盘横移组件包括托盘横移导轨以及托盘支撑臂,所述托盘支撑臂可滑动固定在托盘横移导轨上,所述托盘支撑臂两端引出两组吸盘板,每组吸盘板底部均设有竖直气缸;两组吸盘板之间的距离等于托盘上料工位与机器人取料工位之间的距离,以及机器人取料工位与托盘上料工位之间的距离。
其中,所述托盘上料工位的托盘槽边缘位置设有第一转移气缸以及第一榫头夹,所述机器人取料工位上设有第二转移气缸以及第二榫头夹,所述托盘下料工位上设有第三转移气缸以及第三榫头夹,所述第一榫头夹与第一转移气缸的活动端相连,多数第二榫头夹与第二转移气缸的活动端相连,所述第三榫头夹与第三转移气缸的活动端相连。
其中,所述磁瓦抓取组件包括上料机器人底座、上料四轴机器人以及磁瓦上料手爪,所述上料四轴机器人固定在上料机器人底座上,所述磁瓦上料手爪从上料四轴机器人的活动臂伸出,所述同步带输送组件包括两条传送带,每条传送带上均设有多组磁瓦限位块,所述磁瓦上料手爪活动于上料托盘与磁瓦限位块之间。
其中,所述磁瓦等离子清洗组件包括拱形支架、磁瓦等离子清洗头、磁瓦促进剂喷头以及清洗横移导轨,所述拱形支架纵向跨越同步带输送组件并固定在下机架体上,所述磁瓦等离子清洗头以及磁瓦促进剂喷头均可滑动固定在清洗横移导轨上,且磁瓦等离子清洗头以及磁瓦促进剂喷头分别设置在清洗横移导轨两侧。
其中,所述磁瓦点胶组件包括点胶针筒、X轴移动导轨、Y轴移动导轨以及Z轴移动导轨,所述X轴移动导轨与同步带输送组件平行设置并固定在下机架体上,所述Y轴移动导轨可滑动固定在X轴移动导轨上,所述Z轴移动导轨可滑动固定在Y轴移动导轨上。
其中,所述磁瓦下料组件包括下料机器人底座、下料四轴机器人以及磁瓦下料手爪,所述下料四轴机器人固定在下料机器人底座上,所述磁瓦下料手爪从下料四轴机器人的活动臂伸出。
本实用新型的有益效果是:
与现有技术相比,本实用新型的磁瓦预处理机构,通过磁瓦抓取组件抓取托盘上料组件中的磁瓦片,然后将其放入同步带输送组件上,同步带输送组件在转动的过程中,依次将磁瓦片带动到磁瓦等离子清洗组件的工作区进行清洗、喷促进剂处理,带到磁瓦点胶组件的工作区进行点胶作业,最后由磁瓦下料组件取出,从而实现了磁瓦与定子组装的预处理全过程,磁瓦预处理的全过程通过以上结构的结合,实现了全自动化作业,既提高了生产效率,同时也提高了处理精确度。
附图说明
图1为本实用新型磁瓦预处理机构的结构图;
图2为本实用新型磁瓦预处理机构的托盘上料组件局部结构图;
图3为本实用新型磁瓦预处理机构的磁瓦抓取组件的结构图;
图4为本实用新型磁瓦预处理机构的磁瓦等离子清洗组件的结构图;
图5为本实用新型磁瓦预处理机构的磁瓦点胶组件的结构图;
图6为本实用新型磁瓦预处理机构的磁瓦下料组件的结构图。
主要元件符号说明如下:
11、托盘上料组件 12、磁瓦抓取组件
13、磁瓦等离子清洗组件 14、磁瓦点胶组件
15、磁瓦下料组件 16、同步带输送组件
17、下机架体
111、托盘上料工位 112、机器人取料工位
113、托盘下料工位 114、上料托盘
115、托盘横移组件
1111、第一转移气缸 1112、第一榫头夹
1121、第二转移气缸 1122、第二榫头夹
1131、第三转移气缸 1132、第三榫头夹
1151、托盘横移导轨 1152、托盘支撑臂
1153、吸盘板 1154、竖直气缸
121、上料机器人底座 122、上料四轴机器人
123、磁瓦上料手爪
131、拱形支架 132、磁瓦等离子清洗头
133、磁瓦促进剂喷头 134、清洗横移导轨
141、点胶针筒 142、X轴移动导轨
143、Y轴移动导轨 144、Z轴移动导轨
151、下料机器人底座 152、下料四轴机器人
153、磁瓦下料手爪。
具体实施方式
为了更清楚地表述本实用新型,下面结合附图对本实用新型作进一步地描述。
参阅图1,本实用新型一种磁瓦预处理机构,包括托盘上料组件11、磁瓦抓取组件12、磁瓦等离子清洗组件13、磁瓦点胶组件14、磁瓦下料组件15、同步带输送组件16以及下机架体17,托盘上料组件11、磁瓦抓取组件12、磁瓦等离子清洗组件13、磁瓦点胶组件14、磁瓦下料组件15以及同步带输送组件16均固定在下机架体17上,磁瓦抓取组件12设置在托盘上料组件11与同步带输送组件16之间,磁瓦点胶组件14设置在磁瓦等离子清洗组件13与磁瓦下料组件15之间,磁瓦等离子清洗组件13以及磁瓦点胶组件14均设置在同步带输送组件16侧边。
相较于现有技术,本实用新型的磁瓦预处理机构,通过磁瓦抓取组件12抓取托盘上料组件11中的磁瓦片,然后将其放入同步带输送组件16上,同步带输送组件16在转动的过程中,依次将磁瓦片带动到磁瓦等离子清洗组件13的工作区进行清洗、喷促进剂处理,带到磁瓦点胶组件14的工作区进行点胶作业,最后由磁瓦下料组件15取出,从而实现了磁瓦与定子组装的预处理全过程,磁瓦预处理的全过程通过以上结构的结合,实现了全自动化作业,既提高了生产效率,同时也提高了处理精确度。
请进一步参阅图2,托盘上料组件11包括托盘上料工位111、机器人取料工位112、托盘下料工位113以及上料托盘114,机器人取料工位112设置在托盘上料工位111与托盘下料工位113之间,内置有磁瓦片的上料托盘114分别容置在托盘上料工位111以及机器人取料工位112上,已取出磁瓦片的上料托盘114容置在托盘下料工位113上。托盘上料工位111、机器人取料工位112、托盘下料工位113分别设置,有助于自动处理过程中的上料托盘114的取放,使操作工序更加清晰。
在本实施例中,托盘上料组件11还包括托盘横移组件115,托盘横移组件115包括托盘横移导轨1151以及托盘支撑臂1152,托盘支撑臂1152可滑动固定在托盘横移导轨1151上,托盘支撑臂1152两端引出两组吸盘板1153,每组吸盘板1153底部均设有竖直气缸1154;两组吸盘板1153之间的距离等于托盘上料工位111与机器人取料工位112之间的距离,以及机器人取料工位112与托盘上料工位111之间的距离。托盘支撑臂1152在移动的过程中,实现托盘上料工位111与机器人取料工位112之间、机器人取料工位112与托盘下料工位113之间的上料托盘114转移。
在本实施例中,托盘上料工位111的托盘槽边缘位置设有第一转移气缸1111以及第一榫头夹1112,机器人取料工位112上设有第二转移气缸1121以及第二榫头夹1122,托盘下料工位113上设有第三转移气缸1131以及第三榫头夹1132,第一榫头夹1112与第一转移气缸1111的活动端相连,多数第二榫头夹1122与第二转移气缸1121的活动端相连,第三榫头夹1132与第三转移气缸1131的活动端相连。
托盘上料组件11的具体操作方式如下:
在竖直气缸1154的带动下,两组吸盘板1153向上移动分别处于托盘上料工位111的托盘槽底以及机器人取料工位112的托盘槽底;
启动第一转移气缸1111以及第二转移气缸1121,第一榫头夹1112在第一转移气缸1111的带动下向外退出,第二榫头夹1122在第二转移气缸1121的带动下向外退出,托盘上料工位111上的上料托盘114以及机器人取料工位112上的上料托盘114便落入两组吸盘板1153上;
再启动竖直气缸1154,使两组吸盘板1153向下移动一块上料托盘114的距离,再启动第一转移气缸1111,使第一榫头夹1112在第一转移气缸1111的带动下向内推入,卡住一块上料托盘114,避免其掉落;
启动托盘横移导轨1151,托盘支撑臂1152移动,当两组吸盘板1153分别处于机器人取料工位112的托盘槽底以及托盘下料工位113的托盘槽底后,停止运动;
启动第三转移气缸1131,使第三榫头夹1132在第三转移气缸1131的带动下向外退出,托盘下料工位113上的空置上料托盘114与吸盘板1153上的上料托盘114相接触;
再次启动竖直气缸1154,使两组吸盘板1153向上移动一块上料托盘114的距离,再启动第二转移气缸1121以及第三转移气缸1131,是第二榫头夹1122在第二转移气缸1121的带动下向内推入,第三榫头夹1132在第三转移气缸1131的带动下向内推入;
磁瓦抓取组件12抓取机器人取料工位112中的磁瓦片,待该工位中的上料托盘114空置后;重复上述动作,转移待加工上料托盘114到机器人取料工位112上,并将控制上料托盘114转移至托盘下料工位113。
请进一步参阅图3,磁瓦抓取组件12包括上料机器人底座121、上料四轴机器人122以及磁瓦上料手爪123,上料四轴机器人122固定在上料机器人底座121上,磁瓦上料手爪123从上料四轴机器人122的活动臂伸出,同步带输送组件16包括两条传送带,每条传送带上均设有多组磁瓦限位块,磁瓦上料手爪123活动于上料托盘114与磁瓦限位块之间。磁瓦上料手爪123在上料四轴机器人122的带动下,可以实现在操作范围内的任何位置移动。
请进一步参阅图4,磁瓦等离子清洗组件13包括拱形支架131、磁瓦等离子清洗头132、磁瓦促进剂喷头133以及清洗横移导轨134,拱形支架131纵向跨越同步带输送组件16并固定在下机架体17上,磁瓦等离子清洗头132以及磁瓦促进剂喷头133均可滑动固定在清洗横移导轨134上,且磁瓦等离子清洗头132以及磁瓦促进剂喷头133分别设置在清洗横移导轨134两侧。磁瓦片先进行等离子清洗,再喷涂促进剂,将两功能件均固定在拱形支架131上,由两条清洗横移导轨134分别控制,两条同步带上的磁瓦片分别加工,可以进一步提高工作效率,节省时间。
请进一步参阅图5,磁瓦点胶组件14包括点胶针筒141、X轴移动导轨142、Y轴移动导轨143以及Z轴移动导轨144,X轴移动导轨142与同步带输送组件16平行设置并固定在下机架体17上,Y轴移动导轨143可滑动固定在X轴移动导轨142上,Z轴移动导轨144可滑动固定在Y轴移动导轨143上。X轴移动导轨142、Y轴移动导轨143以及Z轴移动导轨144的共同作用,可以将点胶针筒141与磁瓦片的距离定位更加精准。
请进一步参阅图6,磁瓦下料组件15包括下料机器人底座151、下料四轴机器人152以及磁瓦下料手爪153,下料四轴机器人152固定在下料机器人底座151上,磁瓦下料手爪153从下料四轴机器人152的活动臂伸出。
以上公开的仅为本实用新型的几个具体实施例,但是本实用新型并非局限于此,任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种磁瓦预处理机构,其特征在于,包括托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件、同步带输送组件以及下机架体,所述托盘上料组件、磁瓦抓取组件、磁瓦等离子清洗组件、磁瓦点胶组件、磁瓦下料组件以及同步带输送组件均固定在下机架体上,所述磁瓦抓取组件设置在托盘上料组件与同步带输送组件之间,所述磁瓦点胶组件设置在磁瓦等离子清洗组件与磁瓦下料组件之间,所述磁瓦等离子清洗组件以及磁瓦点胶组件均设置在同步带输送组件侧边。
2.根据权利要求1所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述托盘上料组件包括托盘上料工位、机器人取料工位、托盘下料工位以及上料托盘,所述机器人取料工位设置在托盘上料工位与托盘下料工位之间,内置有磁瓦片的上料托盘分别容置在托盘上料工位以及机器人取料工位上,已取出磁瓦片的上料托盘容置在托盘下料工位上。
3.根据权利要求2所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述托盘上料组件还包括托盘横移组件,所述托盘横移组件包括托盘横移导轨以及托盘支撑臂,所述托盘支撑臂可滑动固定在托盘横移导轨上,所述托盘支撑臂两端引出两组吸盘板,每组吸盘板底部均设有竖直气缸;两组吸盘板之间的距离等于托盘上料工位与机器人取料工位之间的距离,以及机器人取料工位与托盘上料工位之间的距离。
4.根据权利要求3所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述托盘上料工位的托盘槽边缘位置设有第一转移气缸以及第一榫头夹,所述机器人取料工位上设有第二转移气缸以及第二榫头夹,所述托盘下料工位上设有第三转移气缸以及第三榫头夹,所述第一榫头夹与第一转移气缸的活动端相连,多数第二榫头夹与第二转移气缸的活动端相连,所述第三榫头夹与第三转移气缸的活动端相连。
5.根据权利要求2所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述磁瓦抓取组件包括上料机器人底座、上料四轴机器人以及磁瓦上料手爪,所述上料四轴机器人固定在上料机器人底座上,所述磁瓦上料手爪从上料四轴机器人的活动臂伸出,所述同步带输送组件包括两条传送带,每条传送带上均设有多组磁瓦限位块,所述磁瓦上料手爪活动于上料托盘与磁瓦限位块之间。
6.根据权利要求1所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述磁瓦等离子清洗组件包括拱形支架、磁瓦等离子清洗头、磁瓦促进剂喷头以及清洗横移导轨,所述拱形支架纵向跨越同步带输送组件并固定在下机架体上,所述磁瓦等离子清洗头以及磁瓦促进剂喷头均可滑动固定在清洗横移导轨上,且磁瓦等离子清洗头以及磁瓦促进剂喷头分别设置在清洗横移导轨两侧。
7.根据权利要求1所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述磁瓦点胶组件包括点胶针筒、X轴移动导轨、Y轴移动导轨以及Z轴移动导轨,所述X轴移动导轨与同步带输送组件平行设置并固定在下机架体上,所述Y轴移动导轨可滑动固定在X轴移动导轨上,所述Z轴移动导轨可滑动固定在Y轴移动导轨上。
8.根据权利要求1所述的磁瓦预处理机构,其特征在于,所述磁瓦下料组件包括下料机器人底座、下料四轴机器人以及磁瓦下料手爪,所述下料四轴机器人固定在下料机器人底座上,所述磁瓦下料手爪从下料四轴机器人的活动臂伸出。
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