CN208215076U - 一种两轴式晶体器件抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及到一种抛光研磨设备，尤其涉及一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，并在第一、第二器皿内设置陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括安装在所述机架上的第一档板和第二挡板，设在所述第一档板和第二挡板之间的是第二旋转轴，活动安装在所述第二旋转轴上的是L形支架，伸缩臂通过套管与所述L形支架相连，在所述伸缩臂设有通孔，伸缩杆穿过通孔连接于所述抛光盘。本实用新型采用转速可控的变频电机且带动两个抛光盘转动，提高了加工速度和工作效率，降低了加工成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及到一种抛光研磨设备，尤其涉及一种两轴式晶体器件抛光装置。
背景技术
晶体器件是晶体加工成各种形状的晶体片，晶体器件的应用非常广泛，如用于激光、医疗器械、电视机、手机芯片等产品中。晶体片是由晶体切割而成，为了保证晶体片表面的平行度，在切割完成之后还要对晶体片进行研磨和抛光操作。研磨操作需要在晶体片研磨机上进行，现有的晶体片研磨抛光设备，使用的电机为普通的电机，转速不可以调节，一台电机只能带动一个研磨盘转动，工作效率太低，加工速度慢，加工成本高。除以上不良问题外，现有抛光设备需要人工对物料进行移动，不仅生产效率低下，而且还存在一定的安全问题。
发明内容
本实用新型为克服现有技术的不足，而提供的一种效率更高且安全可靠的两轴式晶体器件抛光装置。
为解决上述的技术问题，本实用新型采用以下技术方案 ：
一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，设在所述第一器皿和第二器皿内的是陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括第一档板和第二挡板，所述第一档板和第二挡板安装在所述机架上，设在所述第一档板和第二挡板之间的是第二旋转轴，活动安装在所述第二旋转轴上的是L形支架，伸缩臂通过套管与所述L形支架相连，在所述伸缩臂设有通孔，伸缩杆穿过通孔连接于所述抛光盘。
优选地，在所述的机架上还设有支撑架。
优选地，所述的电机为变频电机。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
本实用新型一种两轴式晶体器件抛光装置，采用转速可控的变频电机且带动两个抛光盘转动，提高了加工速度和工作效率，降低了加工成本。除此外，本实用新型设计的调节架及伸缩臂能实现对晶体器件的自动抛光，解决了人工抛光时存在的安全隐患。
附图说明
图1为本实用新型立体结构示意图；
图2为本实用新型主视结构示意图；
图3为本实用新型俯视结构示意图；
图4为本实用新型侧视结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步详细的说明：参见图1-4，为解决上述的技术问题，本实用新型采用以下技术方案 ：
一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架1及设在所述机架1下端的电机2，设在所述机架1上端的是第一器皿3和第二器皿4，设在所述第一器皿3和第二器皿4内的是陶瓷片5，所述陶瓷片5通过第一旋转轴6连接于所述电机2，设在所述陶瓷片5正上方的是抛光盘7，所述抛光盘7安装在调节架8上，所述调节架8包括安装在所述机架1上的第一档板9和第二挡板10，设在所述第一档板9和第二挡板10之间的是第二旋转轴11，活动安装在所述第二旋转轴11上的是L形支架12，伸缩臂13通过套管14与所述L形支架12相连，在所述伸缩臂13设有通孔，伸缩杆15穿过通孔连接于所述抛光盘7。
优选地，在所述的机架1上还设有支撑架16。
优选地，所述的电机2为变频电机。
本实用新型一种两轴式晶体器件抛光装置，使用时，将晶体器件或晶体片固定到陶瓷片5上，一般固定方式是通过石蜡或胶体粘接到陶瓷片5上，固定牢固后，通过套管14上设有的螺栓松紧来调节伸缩臂13长度位置，再通过在伸缩臂13通孔位置设置的螺栓来调整伸缩杆15的高度位置，具体调整是依据晶体器件或晶体片抛光面位置，然后启动电机2，由于电机2为变频电机，转速可控，电机2的转动通过皮带带动与之相连的第一旋转轴6转动，与所述第一旋转轴6相连的陶瓷片5随之转动，安装在所述陶瓷片5上的晶体片在抛光盘7的压合及研磨下完成抛光。
使用完毕后，可以将调节架8翻转到支撑架16上放置。
本实用新型采用转速可控的变频电机且带动两个抛光盘转动，提高了加工速度和工作效率，降低了加工成本。除此外，本实用新型设计的调节架及伸缩臂能实现对物料自动抛光，解决了人工抛光时存在的安全隐患。
以上所述，仅是对本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型做其他形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是，凡是未脱离本实用新型方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型的保护范围。
Claims (3)
1.一种两轴式晶体器件抛光装置，包括机架及设在所述机架下端的电机，其特征在于：设在所述机架上端的是第一器皿和第二器皿，设在所述第一器皿和第二器皿内的是陶瓷片，所述陶瓷片通过第一旋转轴连接于所述电机，设在所述陶瓷片正上方的是抛光盘，所述抛光盘安装在调节架上，所述调节架包括第一档板和第二挡板，所述第一档板和第二挡板安装在所述机架上，设在所述第一档板和第二挡板之间的是第二旋转轴，活动安装在所述第二旋转轴上的是L形支架，伸缩臂通过套管与所述L形支架相连，在所述伸缩臂设有通孔，伸缩杆穿过通孔并连接于所述抛光盘。
2.根据权利要求1所述的一种两轴式晶体器件抛光装置，其特征在于：在所述的机架上还设有支撑架。
3.根据权利要求1所述的一种两轴式晶体器件抛光装置，其特征在于：所述的电机为变频电机。
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