CN207042768U - 防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，包括基片承载台，所述基片承载台中间设置有放置基片的隔离台，所述隔离台的中心设置有真空吸片孔，所述隔离台设置有连通真空吸片孔的多条真空吸片槽，所述隔离台上还设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽外的排胶槽；所述基片承载台边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈，所述防护圈内表面设置有一层防回溅层，所述防回溅层为高分子材料层。本实用新型具有能防止光刻胶流入真空吸片孔并能防止光刻胶因高速转动产生的回溅现象的优点。

Description

防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘

技术领域

本实用新型涉及光材料加工领域，尤其是涉及一种能防止光刻胶流入真空吸片孔并能防止光刻胶因高速转动产生的回溅现象的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘。

背景技术

目前市面上的匀胶机台，均采用真空吸片的方式吸住基片，但其结构存在两个问题：一、无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片孔中，在现有技术中，基片与真空吸片孔直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至基片边缘的胶滴，由于基片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分基片边缘的胶滴会沿着基片的背面被吸入真空吸片孔中，从而堵塞真空吸片孔，造成真空吸片孔吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对匀胶台造成损伤；二、现有匀胶机台没有防回溅装置，当匀胶机采用高转速工作时，会产生光刻胶回溅现象，造成匀胶缺陷，影响后工序产品的优良率。

实用新型内容

为克服现有技术的缺点，本实用新型目的在于提供一种能防止光刻胶流入真空吸片孔并能防止光刻胶因高速转动产生的回溅现象的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘。

本实用新型通过以下技术措施实现的，一种防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，包括基片承载台，所述基片承载台中间设置有放置基片的隔离台，所述隔离台的中心设置有真空吸片孔，所述隔离台设置有连通真空吸片孔的多条真空吸片槽，所述隔离台上还设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽外的排胶槽；所述基片承载台边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈，所述防护圈内表面设置有一层防回溅层，所述防回溅层为高分子材料层。

作为一种优选方式，所述排胶槽上设置有多个排胶孔。

作为一种优选方式，所述防回溅层涂覆或卡接在防护圈内表面。

作为一种优选方式，所述防回溅层为硬度小于邵氏A50的高分子材料层。

作为一种优选方式，所述基片承载台中间设置有直径小于基片的隔离台。

本实用新型设置有位于基片承载台中间放置基片的隔离台，隔离台为一圆形水平面，并在隔离台上设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽外的排胶槽，排胶槽为沿着基片承载台的圆心向下开设的凹槽，凹槽形式不限，当受表面张力作用而沿基片背面流动的光刻胶经过排胶槽时，会流入排胶槽内，不会流入真空吸片孔，从而起到保护真空吸片孔。本实用新型在基片承载台边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈，在防护圈的内表面贴合有防回溅层，隔离台为一圆形水平面当因匀胶机台高速旋转而产生的光刻胶落在防回溅层上时，由于防回溅层硬度小，有弹性，光刻胶高速所产生的动能被释放，从而有效防止其回溅到基片上，避免基片上的匀胶层被污染。基片承片台和防护圈两者之间既可以是一体式结构，也可以是分离式结构。

附图说明

图1为本实用新型实施例的结构示意图。

图2为本实用新型实施例的剖视图。

图3为本实用新型实施例吸附有基片的剖视图。

具体实施方式

下面结合实施例并对照附图对本实用新型作进一步详细说明。

一种防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，参考图1至图3，包括基片承载台1，所述基片承载台1中间设置有放置基片9的隔离台3，所述隔离台3的中心设置有真空吸片孔8，所述隔离台3设置有连通真空吸片孔8的多条真空吸片槽7，所述隔离台3上还设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽7外的排胶槽2；基片承载台1边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈5，所述防护圈5内通过固定结构固定卡接有一与其内表面贴合的防回溅层6，防回溅层6为与基片承片台1同心的圆环结构，防回溅层6为硬度较软的高分子材料层，在本实施例中，防回溅层6为硬度小于邵氏A50的高分子材料层。在其它实施例中，防回溅层也可以是涂覆在防护圈5表面的。

本匀胶托盘设置有位于基片承载台1中间放置基片的隔离台3，当工作时，先将基片9通过负压吸附在真空吸片槽7上，在隔离台3上设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽7外的排胶槽2，排胶槽2为沿着基片承载台1的圆心向下开设的凹槽，凹槽形式不限，当受表面张力作用而沿基片9背面流动的光刻胶经过排胶槽2时，会流入排胶槽2内，不会流入真空吸片孔8，从而起到保护真空吸片孔8的作用；本匀胶托盘设置在基片承载台1边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈5，在防护圈5的内表面贴合有防回溅层6，隔离台3为一圆形水平面当因匀胶机台高速旋转而产生的光刻胶落在防回溅层6上时，由于防回溅层6硬度小，有弹性，光刻胶高速所产生的动能被释放，从而有效防止其回溅到基片9上，避免基片9上的匀胶层被污染。基片承片台和防护圈5两者之间既可以是一体式结构，也可以是分离式结构。

在一实施例的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，请参考图1至图3，在前面技术方案的基础上具体还可以是，排胶槽2上设置有多个排胶孔4。当光刻胶流入排胶槽2内时，可以经由排胶孔4排出。

在一实施例的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，请参考图1至图3，在前面技术方案的基础上具体还可以是，隔离台3的直径小于基片9。当受表面张力作用而沿基片9背面流动的光刻胶经过此隔离台3边缘时，会受到阻挡，流到隔离台3下方，从而避开真空吸片孔8，起到最初的保护功能。

以上是对本实用新型防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘进行了阐述，用于帮助理解本实用新型，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，任何未背离本实用新型原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，其特征在于：包括基片承载台，所述基片承载台中间设置有放置基片的隔离台，所述隔离台的中心设置有真空吸片孔，所述隔离台设置有连通真空吸片孔的多条真空吸片槽，所述隔离台上还设置有至少一圈间隔围绕在真空吸片槽外的排胶槽；所述基片承载台边缘向上延伸设置有一圈高于基片上表面的防护圈，所述防护圈内表面设置有一层防回溅层，所述防回溅层为高分子材料层。

2.根据权利要求1所述的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，其特征在于：所述排胶槽上设置有多个排胶孔。

3.根据权利要求1所述的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，其特征在于：所述防回溅层涂覆或卡接在防护圈内表面。

4.根据权利要求1所述的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，其特征在于：所述防回溅层为硬度小于邵氏A50的高分子材料层。

5.根据权利要求1所述的防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘，其特征在于：所述基片承载台中间设置有直径小于基片的隔离台。