CN113471111A - 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 - Google Patents
一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113471111A CN113471111A CN202110781284.2A CN202110781284A CN113471111A CN 113471111 A CN113471111 A CN 113471111A CN 202110781284 A CN202110781284 A CN 202110781284A CN 113471111 A CN113471111 A CN 113471111A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wafer
- bearing plate
- screen printing
- tool
- plate steel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 30
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000002161 passivation Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Screen Printers (AREA)
Abstract
本发明公开了一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,包括承载盘,承载盘内部有空腔,承载盘上开有小孔并连同空腔,空腔通过承载盘直径8mm的小孔连接真空管路以形成负压固定晶圆。承载盘开有环状导流槽,防止浆料堵塞真空气孔,本发明结构设计新颖,采用真空承载盘,同时承载盘有辅助导流装置,防止少量印刷浆料内流堵塞真空气孔;承载盘上有晶圆限位条,辅助对准晶圆,晶圆对准后开真空确保晶圆不发生滑移。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆加工技术领域,具体为一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅。
当前功率器件芯片一般采用玻璃钝化对PN结连接处进行保护,减少颗粒沾染以降低芯片漏电流,提高芯片的耐高温性能。
市场上的玻璃钝化工艺一般采用刀刮法、电泳法和光阻法。刀刮法设备门槛低,操作简便但是会在晶圆表面非钝化区造成玻璃粉线状、片状残留,导致芯片表面受到污染;电泳法钝化层较为致密,电学性能好但是设备成本高昂且会在晶圆表面非钝化区造成玻璃粉沾染,导致芯片表面沾染玻璃粉造成电性下降;光阻法需要使用光刻胶和光刻显影机,原材料和设备成本较高且有有害气体、液体产生,不环保;
为了在保证电学性能的同时又能降低成本,提高产品成品率,参考上述几种方法的优缺点,我们提出使用一次钢网孔板印刷的方式进行玻璃粉的涂布,这种玻璃钝化方法有晶圆污染少、设备成本低、操作简便、环境友好度高的优点。
印刷法玻璃钝化工艺是芯片晶圆的一步Thinfilm类工艺,其制程中未搭配光刻工艺,因此精度不足无法直接应用在芯片制造中,针对直接普通印刷对位偏差较大(对位精度>50um),成品率不高的缺点,参考光刻曝光工艺与SMT贴片电极印刷工艺,设计了钢网印刷辅助对位装置,用以提高印刷对位精度,减少生产过程中因对准偏差造成的报废与返工。
发明内容
本发明的目的在于提供一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,包括承载盘,所述承载盘内部有空腔,所述承载盘上开有小孔并连同空腔,所述空腔通过承载盘上小孔连接真空管路以形成负压固定晶圆;所述承载盘开有环状导流槽,防止浆料堵塞真空气孔。
优选的,本申请提供的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其中,所述承载盘上导流槽的外径小于晶圆内径,所述导流槽内圈在真空气孔外侧。
优选的,本申请提供的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其中,所述承载盘远大于晶圆直径的位置带有孔版钢网真空槽,槽内开孔连接空腔。
优选的,本申请提供的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其中,所述小孔直径为8mm-10mm。
优选的,本申请提供的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其中,所述承载盘上还分别安装晶圆三点定位器。
优选的,本申请提供的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其中,其使用方法包括以下步骤:
A、首先将晶圆放置于承载盘上,并通过晶圆三点定位器进行定位;
B、打开外部真空开关,将晶圆吸附于承载盘表面;
C、之后将孔板钢网套在承载盘外部;
D、将孔板钢网定位孔对位;
E、打开真空开关,浆料通过环状导流槽流入晶圆表面进行印刷。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明结构设计新颖,采用真空承载盘,同时承载盘有辅助导流装置,防止少量印刷浆料内流堵塞真空气孔;承载盘上有晶圆限位条,辅助对准晶圆,晶圆对准后开真空确保晶圆不发生滑移。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
图中:承载盘1、小孔2、环状导流槽3、钢网真空槽4、晶圆三点定位器5。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1,本发明提供一种技术方案:一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,包括承载盘1,所述承载盘1内部有空腔,所述承载盘1上开有小孔2并连同空腔,小孔2直径为8mm-10mm,所述空腔通过承载盘1上小孔2连接真空管路以形成负压固定晶圆;所述承载盘1开有环状导流槽3,防止浆料堵塞真空气孔。
本发明中,承载盘1上导流槽3的外径小于晶圆内径,所述导流槽3内圈在真空气孔外侧;承载盘1远大于晶圆直径的位置带有孔版钢网真空槽4,槽内开孔连接空腔。
本发明中,承载盘1上还分别安装晶圆三点定位器5。
工作原理:本发明的使用方法包括以下步骤:
A、首先将晶圆放置于承载盘上,并通过晶圆三点定位器进行定位;
B、打开外部真空开关,将晶圆吸附于承载盘表面;
C、之后将孔板钢网套在承载盘外部;
D、将孔板钢网定位孔对位;
E、打开真空开关,浆料通过环状导流槽流入晶圆表面进行印刷。
综上所述,本发明结构设计新颖,采用真空承载盘,同时承载盘有辅助导流装置,防止少量印刷浆料内流堵塞真空气孔;承载盘上有晶圆限位条,辅助对准晶圆,晶圆对准后开真空确保晶圆不发生滑移。
对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
Claims (6)
1.一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,包括承载盘(1),其特征在于:所述承载盘(1)内部有空腔,所述承载盘(1)上开有小孔(2)并连同空腔,所述空腔通过承载盘(1)上小孔(2)连接真空管路以形成负压固定晶圆;所述承载盘(1)开有环状导流槽(3),防止浆料堵塞真空气孔。
2.根据权利要求1所述的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其特征在于:所述承载盘(1)上导流槽(3)的外径小于晶圆内径,所述导流槽(3)内圈在真空气孔外侧。
3.根据权利要求1所述的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其特征在于:所述承载盘(1)远大于晶圆直径的位置带有孔版钢网真空槽(4),槽内开孔连接空腔。
4.根据权利要求1所述的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其特征在于:所述小孔(2)直径为8mm-10mm。
5.根据权利要求1所述的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具,其特征在于:所述承载盘(1)上还分别安装晶圆三点定位器(5)。
6.实现权利要求1所述的一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具的使用方法,其特征在于:其使用方法包括以下步骤:
A、首先将晶圆放置于承载盘上,并通过晶圆三点定位器进行定位;
B、打开外部真空开关,将晶圆吸附于承载盘表面;
C、之后将孔板钢网套在承载盘外部;
D、将孔板钢网定位孔对位;
E、打开真空开关,浆料通过环状导流槽流入晶圆表面进行印刷。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110781284.2A CN113471111A (zh) | 2021-07-10 | 2021-07-10 | 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110781284.2A CN113471111A (zh) | 2021-07-10 | 2021-07-10 | 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113471111A true CN113471111A (zh) | 2021-10-01 |
Family
ID=77879705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110781284.2A Pending CN113471111A (zh) | 2021-07-10 | 2021-07-10 | 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113471111A (zh) |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1569728A (en) * | 1978-05-30 | 1980-06-18 | Standard Telephones Cables Ltd | Vacuum chuck |
US4959246A (en) * | 1983-06-06 | 1990-09-25 | International Standard Electric Corporation | Screen printing process and apparatus and electrical printed circuits obtained therewith |
EP0818820A1 (en) * | 1996-07-11 | 1998-01-14 | Zowie Technology Corp. | Full open P-N junction glass passivated silicon semiconductor diode chip and preparation method thereof |
EP0989594A2 (de) * | 1998-09-15 | 2000-03-29 | Sulzer Electronics AG | Prozesskammer |
JP2008211097A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Taiheiyo Cement Corp | 真空吸着装置およびその製造方法 |
KR20120082586A (ko) * | 2011-01-14 | 2012-07-24 | 삼성전기주식회사 | 웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼 |
KR20140078143A (ko) * | 2012-12-17 | 2014-06-25 | 한국전자통신연구원 | 웨이퍼 레벨 패키지를 위한 웨이퍼 고정 장치 |
CN104228316A (zh) * | 2013-06-14 | 2014-12-24 | 无锡华润安盛科技有限公司 | 实现多种材质基板同时印刷贴片的加工工艺及其治具结构 |
CN107611044A (zh) * | 2017-09-12 | 2018-01-19 | 捷捷半导体有限公司 | 一种丝网漏涂玻璃钝化模具及其工艺方法 |
CN207042768U (zh) * | 2017-07-10 | 2018-02-27 | 深圳市中兴新地技术股份有限公司 | 防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘 |
CN209496818U (zh) * | 2018-02-22 | 2019-10-15 | 爱立发株式会社 | 焊锡球搭载装置 |
CN209683143U (zh) * | 2018-12-14 | 2019-11-26 | 天津环鑫科技发展有限公司 | 一种gpp芯片丝网印刷网版 |
CN110620051A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-12-27 | 深圳赛意法微电子有限公司 | 一种晶圆表面涂覆方法、封装方法及真空印刷机 |
CN111308858A (zh) * | 2020-04-09 | 2020-06-19 | 华天慧创科技(西安)有限公司 | 一种防止光刻胶溢流的接口盘 |
CN111319345A (zh) * | 2018-12-14 | 2020-06-23 | 天津环鑫科技发展有限公司 | 一种tvs芯片玻璃钝化丝网印刷网版及其工艺方法 |
CN211359456U (zh) * | 2019-11-29 | 2020-08-28 | 济南晶正电子科技有限公司 | 应用于晶圆的匀胶机 |
-
2021
- 2021-07-10 CN CN202110781284.2A patent/CN113471111A/zh active Pending
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1569728A (en) * | 1978-05-30 | 1980-06-18 | Standard Telephones Cables Ltd | Vacuum chuck |
US4959246A (en) * | 1983-06-06 | 1990-09-25 | International Standard Electric Corporation | Screen printing process and apparatus and electrical printed circuits obtained therewith |
EP0818820A1 (en) * | 1996-07-11 | 1998-01-14 | Zowie Technology Corp. | Full open P-N junction glass passivated silicon semiconductor diode chip and preparation method thereof |
EP0989594A2 (de) * | 1998-09-15 | 2000-03-29 | Sulzer Electronics AG | Prozesskammer |
JP2008211097A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Taiheiyo Cement Corp | 真空吸着装置およびその製造方法 |
KR20120082586A (ko) * | 2011-01-14 | 2012-07-24 | 삼성전기주식회사 | 웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼 |
KR20140078143A (ko) * | 2012-12-17 | 2014-06-25 | 한국전자통신연구원 | 웨이퍼 레벨 패키지를 위한 웨이퍼 고정 장치 |
CN104228316A (zh) * | 2013-06-14 | 2014-12-24 | 无锡华润安盛科技有限公司 | 实现多种材质基板同时印刷贴片的加工工艺及其治具结构 |
CN207042768U (zh) * | 2017-07-10 | 2018-02-27 | 深圳市中兴新地技术股份有限公司 | 防回溅及保护真空吸片孔的匀胶托盘 |
CN107611044A (zh) * | 2017-09-12 | 2018-01-19 | 捷捷半导体有限公司 | 一种丝网漏涂玻璃钝化模具及其工艺方法 |
CN209496818U (zh) * | 2018-02-22 | 2019-10-15 | 爱立发株式会社 | 焊锡球搭载装置 |
CN209683143U (zh) * | 2018-12-14 | 2019-11-26 | 天津环鑫科技发展有限公司 | 一种gpp芯片丝网印刷网版 |
CN111319345A (zh) * | 2018-12-14 | 2020-06-23 | 天津环鑫科技发展有限公司 | 一种tvs芯片玻璃钝化丝网印刷网版及其工艺方法 |
CN110620051A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-12-27 | 深圳赛意法微电子有限公司 | 一种晶圆表面涂覆方法、封装方法及真空印刷机 |
CN211359456U (zh) * | 2019-11-29 | 2020-08-28 | 济南晶正电子科技有限公司 | 应用于晶圆的匀胶机 |
CN111308858A (zh) * | 2020-04-09 | 2020-06-19 | 华天慧创科技(西安)有限公司 | 一种防止光刻胶溢流的接口盘 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103229307B (zh) | 背面电极型太阳能电池单元、带有配线板的背面电极型太阳能电池单元、太阳能电池模块、带有配线板的背面电极型太阳能电池单元的制造方法及太阳能电池模块的制造方法 | |
CN103712721B (zh) | 一种soi压力应变计及其制作方法 | |
CN103617957B (zh) | 一种实现对芯片共晶焊接的方法 | |
CN105810590A (zh) | 声表面波滤波器晶圆键合封装工艺 | |
CN107611044B (zh) | 一种丝网漏涂玻璃钝化模具及其工艺方法 | |
CN103894697A (zh) | 一种大功率igbt模块焊接装置 | |
CN102185005A (zh) | 一种选择性发射极电池的制作方法 | |
CN109755209A (zh) | 一种高可靠光阻玻璃钝化芯片及其加工方法 | |
CN102185030B (zh) | 基于n型硅片的背接触式hit太阳能电池制备方法 | |
WO2020220666A1 (zh) | 一种浅沟槽的电极同侧二极管芯片的制造工艺 | |
CN204130549U (zh) | 一种大电流二极管钝化台面结构 | |
CN113471111A (zh) | 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具 | |
CN102683437A (zh) | 一种太阳电池电极结构、以及太阳电池串联方法 | |
CN208970518U (zh) | 硅片选择性发射极对位结构 | |
CN111319345B (zh) | 一种tvs芯片玻璃钝化丝网印刷网版及其工艺方法 | |
CN104377129B (zh) | 一种1.3万伏以上超高压、快恢复玻璃封装二极管的制作方法 | |
CN117174760A (zh) | 一种场环结构的tvs芯片及其制作方法 | |
CN111146154A (zh) | 可以实现平行封焊自动对位的封装结构及制备方法 | |
CN203503639U (zh) | 一种自定位芯片的高压半导体器件 | |
CN201022078Y (zh) | 一种中心定位的功率器件 | |
CN107331714A (zh) | 一种ibc电池工艺制备方法 | |
CN210231845U (zh) | 一种具有阻银结构的薄型电极钎焊陶瓷管壳 | |
CN207052591U (zh) | 一种高散热的超快恢复二极管 | |
CN103985789B (zh) | 一种高效p型晶体硅刻槽埋栅电池的制备方法 | |
CN110060930B (zh) | 一种半导体整流管芯制备方法和半导体整流管芯 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20211001 |