KR20120082586A - 웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼 - Google Patents

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이청희
홍석진
진영수
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명의 웨이퍼 정렬 장치는 웨이퍼가 안착되는 흡착면을 갖는 몸체; 및 상기 흡착면의 중심을 기준으로 배열되고, 상기 웨이퍼에 형성된 금속 부재 또는 제2자성 부재와 상호 작용하여, 상기 웨이퍼의 중심을 상기 흡착면의 중심에 정렬시키는 제1자성 부재;를 포함할 수 있다.

Description

웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼{Apparatus for aligning wafer and wafer using the same}
본 발명은 웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼의 정렬이 용이한 웨이퍼 정렬 장치와 이러한 웨이퍼 정렬 장치에 사용될 수 있는 웨이퍼에 관한 것이다.
카메라 모듈의 소형화 추세에 따라, 소형 기기(예를 들어 휴대용 전화기)에 장착되는 렌즈들은 웨이퍼 기반으로 제작되고 있다.
웨이퍼를 통한 렌즈 제작은 하나의 웨이퍼에 다수의 소형 렌즈를 형성하는 방식으로 이루어지므로, 소형 렌즈의 제작이 용이할 뿐만 아니라 렌즈의 대량 생산에 유리하다.
이러한 웨이퍼는 전술한 바와 같이 다수의 소형 렌즈를 포함하므로, 웨이퍼를 가공하기 위해서는 웨이퍼를 정 위치에 정확히 정렬하는 것이 매우 중요하다.
그러나 종래에는 웨이퍼의 정렬 및 고정이 진공 흡착에 의해서만 이루어져, 웨이퍼의 견고한 고정은 가능했으나 웨이퍼의 위치 정렬이 원활하지 못했다. 따라서, 웨이퍼의 정렬과 고정 작업을 동시에 할 수 있는 새로운 형태의 웨이퍼 정렬 장치의 개발이 요구된다.
본 발명은 상기와 같은 필요에 의해 개발된 것으로서, 웨이퍼의 고정과 정렬을 동시에 수행할 수 있는 웨이퍼 정렬 장치 및 이 웨이퍼 정렬 장치에 적합한 웨이퍼를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 한 양태에 따르면, 웨이퍼가 안착되는 흡착면을 갖는 몸체; 및 상기 흡착면의 중심을 기준으로 배열되고, 상기 웨이퍼에 형성된 금속 부재 또는 자성 부재와 상호 작용하여, 상기 웨이퍼의 중심을 상기 흡착면의 중심에 정렬시키는 제1자성 부재;를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치가 제공된다.
본 발명의 한 양태에 있어서, 웨이퍼를 흡착하는 진공 흡착부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 한 양태에 있어서, 상기 진공 흡착부는 웨이퍼의 중심 부분을 흡착하는 제1진공 흡착부와 웨이퍼의 가장자리 부분을 흡착하는 제2진공 흡착부를 포함할 수 있다.
본 발명의 한 양태에 있어서, 상기 제1자성 부재는, 제2자성 부재와 인력 또는 척력을 형성하는 제1극성의 제1자성 부재, 및 상기 제1극성의 제1자성 부재와 다른 극성을 갖는 제2극성의 제1자성 부재를 포함할 수 있다.
본 발명의 한 양태에 있어서, 상기 제1극성의 제1자성 부재는 상기 제2극성의 제1자성 부재를 중심으로 원형 배치될 수 있다.
본 발명의 한 양태에 있어서, 상기 제1자성 부재는 웨이퍼가 정렬될 기준 위치를 중심으로 원형 배치될 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 웨이퍼가 안착되는 흡착면을 갖는 몸체; 상기 흡착면에 설치되어, 상기 웨이퍼의 일면을 흡착하는 진공 흡착부; 및 상기 흡착면에 방사형으로 설치되어, 상기 웨이퍼에 형성된 금속 부재 또는 제2자성 부재와 상호 작용하여, 상기 웨이퍼와 비 접속상태에서 상기 웨이퍼가 상기 흡착면의 중심으로 이동되도록 자력을 형성하는 제1자성 부재;를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치가 제공된다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양태에 따르면, 일 측면에 렌즈 면이 형성된 몸체; 및 상기 몸체의 타 측면에 대칭형태로 형성되는 제2자성 부재;를 포함하는 웨이퍼가 제공된다.
본 발명은 웨이퍼를 견고하게 고정함과 동시에 웨이퍼를 원하는 정 위치에 정렬시킬 수 있다.
아울러, 본 발명은 자성 부재들 간의 척력과 인력을 통해 웨이퍼가 자동으로 정렬되므로, 별도의 정렬 단계를 수행할 필요가 없다. 따라서 본 발명에 따르면, 웨이퍼의 고정 및 정렬이 신속하게 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명은 웨이퍼를 진공 흡착과 자력을 통해 고정하므로, 웨이퍼가 진공 흡착력에 의해 휘어지는 현상을 최소화시킬 수 있다. 따라서 본 발명에 따르면, 웨이퍼 렌즈의 불량률을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 나타낸 도면으로서, 도 1의 (a)는 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이고, 도 1의 (b)는 웨이퍼의 저면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 정렬 장치에 웨이퍼가 정렬된 상태를 나타낸 측면도이다.
도 3은 및 도 4는 본 발명의 제2실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 제3실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 나타낸 도면으로서, 도 5의 (a)는 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이고, 도 5의 (b)는 웨이퍼의 저면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 웨이퍼 정렬 장치에 웨이퍼가 정렬된 상태를 나타낸 평면도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.
아래에서 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 구성요소를 지칭하는 용어들은 각각의 구성요소들의 기능을 고려하여 명명된 것이므로, 본 발명의 기술적 구성요소를 한정하는 의미로 이해되어서는 안 될 것이다.
도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명의 제1실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 나타낸 도면으로서, 도 1의 (a)는 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이고, 도 1의 (b)는 웨이퍼의 저면도이며, 도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 정렬 장치에 웨이퍼가 정렬된 상태를 나타낸 측면도이다.
본 실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치(100)는 도 1의 (a)에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(200)가 고정되는 평판 형태의 몸체(110)와 진공장치(도시되지 않음)를 포함한다.
몸체(110)는 박형의 웨이퍼(200)가 휘어지지 않고 원형 그대로 놓일 수 있도록 평평한 면(이하 흡착면이라고 한다)을 가진다. 흡착면(112)은 몸체(110)의 윗면에 형성되고, 웨이퍼(200)의 단면보다 크다. 따라서 흡착면(112)에는 웨이퍼(200)가 어떠한 간섭 없이 놓일 수 있다.
몸체(110)는 진공 흡착부(120)와 제1자성 부재(130)를 포함한다.
진공 흡착부(120)는 몸체(110)에 설치된다. 더욱 상세하게는, 진공 흡착부(120)는 흡착면(112)을 향해 흡착력을 작용할 수 있도록 설치된다. 진공 흡착부(120)는 흡착면(112)과 동일 높이로 설치되거나 또는 도 2에 도시된 바와 같이 흡착면(112)으로부터 다소 돌출되도록 설치될 수 있다. 즉, 흡착면(112)으로부터 진공 흡착부(120)의 끝 부분까지의 높이(h1)는 0이거나 또는 0보다 클 수 있다.
참고로, h1이 0인 경우에는 웨이퍼(200)가 흡착면(112) 전체와 접촉하므로, 웨이퍼(200)의 안정적인 지지가 가능하나, 흡착면(112)과 웨이퍼(200)의 접합면 사이에서 발생하는 팽압에 의해 웨이퍼(200)가 변형될 수 있다. 반면, h1이 0보다 큰 경우에는 웨이퍼(200)가 진공 흡착부(120)와 접촉하므로, 상대적으로 웨이퍼(200)의 지지 안정성이 떨어지나, 팽압에 의한 웨이퍼(200)의 변형이 발생하지 않으며 흡착면(112)으로부터 웨이퍼(200)를 분리하기 쉽다. 따라서, 진공 흡착부(120)는 소정의 높이(즉, h1 > 0)를 갖는 것이 바람직하다.
진공 흡착부(120)는 제1진공 흡착부(122)와 제2진공 흡착부(124)를 포함한다. 제1진공 흡착부(122)는 흡착면(112)의 중심(C1)으로부터 R1을 반지름으로 하는 원 형태로 형성되고, 제2진공 흡착부(124)는 흡착면(112)의 중심(C1)으로부터 R2를 반지름으로 하는 원 형태로 형성된다. 제1진공 흡착부(122)는 웨이퍼(200)의 중심 부분을 흡착 고정하고, 제2진공 흡착부(124)는 웨이퍼(200)의 가장자리 부분을 흡착 고정한다. 여기서 R1과 R2는 웨이퍼(200)의 반지름 Rw보다 모두 작다. 바람직하게는 R1은 Rw/2보다 작은 것이 좋으며, R2는 Rw/2 보다 큰 것이 좋다. 이와 같이 R1과 R2의 크기를 Rw에 대한 비율로 한정하면, 웨이퍼(200)의 전체에 걸쳐 고른 진공압을 발생시킬 수 있다.
이와 같이 2개의 부분으로 나누어진 진공 흡착부(120; 122, 124)는 웨이퍼(200)에 작용하는 진공압을 분산시키므로, 웨이퍼(200)가 편향된 진공압에 의해 휘어지거나 변형되지 않게 한다. 한편, 본 실시 예에서는 진공 흡착부(120)가 제1진공 흡착부(122)와 제2진공 흡착부(124)로 구성되어 있으나, 웨이퍼(200)의 크기에 따라 제3, 제4진공 흡착부를 더 포함하거나 제1진공 흡착부(122)(또는 제2진공 흡착분(124))만으로 구성될 수 있다.
진공 흡착부들(122, 124)은 도 2에 도시된 바와 같이 몸체(110)에 형성된 통기로(114)를 통해 연결되며, 진공 라인(140)을 통해 진공장치(도시되지 않음)와 연결되어 진공압을 발생시킨다. 참고로, 진공장치는 외부 신호에 따라 진공압을 선택적으로 발생시켜, 웨이퍼(200)의 흡착과 분리를 가능케 한다.
제1자성 부재(130)는 흡착면(112)에 설치되며, 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210)와 자력을 형성한다. 제1자성 부재(130)는 제1진공 흡착부(122)와 제2진공 흡착부(124) 사이에 위치되며, 중심 C1을 중심으로 원형 배치된다. 여기서, 중심 C1으로부터 각각의 제1자성 부재(130)까지의 거리는 L1이다. 참고로, 본 실시 예에서는 4개의 제1자성 부재(130)가 원형 배치되는 것으로 도시되어 있으나, 웨이퍼(200)의 크기에 따라 증감될 수 있다.
제1자성 부재(130)는 흡착면(112)에서 진공 흡착부(120)보다 낮게 형성될 수 있다(도 2 참조). 즉, 제1자성 부재(130)의 돌출 높이(h2)는 진공 흡착부(120)의 돌출 높이(h1)보다 작다. 이러한 구조는 제1자성 부재(130)가 웨이퍼(200)에 작용하는 자력의 크기를 약화시키므로, 흡착면(112)으로부터 웨이퍼(200)의 분리를 용이하게 할 수 있다.
한편, 제1자성 부재(130)는 전류에 의해 자력을 발생시키는 전자석일 수 있다. 제1자성 부재(130)를 전자석으로 구성하면, 자력의 발생과 자력의 크기를 임의대로 조절할 수 있는 장점이 있다.
이와 같이 이루어진 웨이퍼 정렬 장치(100)는 진공 흡착부(120)를 통해 웨이퍼(200)를 단단히 고정함과 동시에 제1자성 부재(130)를 통해 웨이퍼(200)를 흡착면(112)의 중심(C1)에 정확히 위치시킬 수 있다. 따라서 본 실시 예에 따르면, 웨이퍼(200)를 정렬시킨 상태에서 웨이퍼(200)의 정밀 검사와 웨이퍼(200)의 정밀 가공이 가능하다.
다음에서는 도 1의 (b)를 참조하여 위에서 설명된 웨이퍼 정렬 장치(100)에 적합한 웨이퍼(200)에 대해서 설명한다.
웨이퍼(200)는 Rw를 반지름으로 하는 원판 형태로 이루어지며, 제2자성 부재(210) 또는 금속 부재를 포함한다. 그리고 웨이퍼(200)에는 렌즈 면을 갖는 다수의 렌즈들이 형성된다. 웨이퍼(200)를 통한 렌즈의 형성방법은 본 발명이 속하는 기술 분야에 있어서 이미 알려진 기술사상이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
제2자성 부재(210)는 웨이퍼(200)의 밑면(즉, 렌즈 면이 형성되지 않거나 렌즈 면이 형성되지 않을 면)에 형성된다. 참고로, 제2자성 부재(210)는 웨이퍼(200)의 제조과정에서 증착, 코팅, 부착 등의 방법으로 형성될 수 있다.
제2자성 부재(210)는 웨이퍼(200)의 중심 C2을 기준으로 원형 배치된다. 여기서, 제2자성 부재(210)는 제1자성 부재(130)와 동일한 배치 형태를 가진다. 그리고 웨이퍼(200)의 중심 C2로부터 각각의 제2자성 부재(210)까지의 거리(L2)는 흡착면(112)의 중심 C1으로부터 각각의 제1자성 부재(130)까지의 거리(L1)와 실질적으로 동일하다.
제2자성 부재(210)는 웨이퍼 정렬 장치(100)의 제1자성 부재(130)와 다른 극성을 갖는다. 따라서 제2자성 부재(210)와 제1자성 부재(130) 사이에서는 인력이 작용한다.
다음에서는 도 2를 참조하여, 제1실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치(100)에 의한 웨이퍼(200)의 정렬 및 흡착 구조를 설명한다.
대기 상태에서, 웨이퍼 정렬 장치(100)는 진공 흡착부(120)에 진공압을 발생시키지 않으나, 제1자성 부재(130)에 자력을 발생시킨다. 따라서 웨이퍼 정렬 장치(100)의 흡착면(112)에 웨이퍼(200)가 얹어지면, 웨이퍼(200)는 제2자성 부재(210)와 제1자성 부재(130) 사이의 인력에 의해 위치가 정해진다.
즉, 흡착면(112)에 설치된 다수의 제1자성 부재들(130)과 웨이퍼(200)에 형성된 다수의 제2자성 부재들(210)은 각각 인력을 작용하므로, 웨이퍼(200)는 각각의 제2자성 부재들(210)과 이에 대응하는 제1자성 부재들(130)이 서로 부착되도록 흡착면(112)에 위치된다(다시 말해 웨이퍼(200)의 중심(C2)이 흡착면(112)의 중심 (C1)을 지나는 연장선상(C-C)에 위치된다). 따라서 본 실시 예에 따르면 자성 부재들(130, 210)의 자력을 이용하여 흡착면(112)의 중심(C1)에 웨이퍼(200)를 손쉽게 정렬시킬 수 있다.
웨이퍼(200)의 정렬이 완료되면, 진공 흡착부(120)에 진공압을 발생시켜, 웨이퍼(200)를 흡착 고정한다. 여기서, 진공 흡착부(120)는 웨이퍼(200)의 밑면에 고르게 진공압을 발생시키므로, 웨이퍼(200)를 안정적으로 고정시킬 수 있다.
위와 같이 본 실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치(100)와 웨이퍼(200)는 위치 정렬 및 고정이 용이한 구조를 가지므로, 웨이퍼(200)의 정밀 검사 및 정밀 가공 공정에서 효과적으로 사용될 수 있다.
다음에서는 도 3 및 도 4를 참조하여 본 발명의 제2실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치를 설명한다. 도 3 및 도 4는 본 발명의 제2실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이다. 참고로, 본 실시 예에서 제1실시 예와 동일한 구성요소는 동일한 도면부호를 사용하며, 이들 구성요소에 대한 상세한 설명은 생략한다.
제2실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치(100)는 제1자성 부재(130)가 제1극성의 제1자성 부재(132)와 제2극성의 제1자성 부재(134)로 이루어진 점에서 제1실시 예와 차이점을 갖는다.
본 실시 예에서, 제1극성의 제1자성 부재(132)는 제2자성 부재(210)와 동일 형태로 흡착면(112)에 원형 배치되고, 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210)와 다른 극성을 가진다. 따라서, 제1극성의 제1자성 부재(132)와 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210) 간에는 인력이 발생한다.
이와 달리, 제2극성의 제1자성 부재(134)는 제1극성의 제1자성 부재(132)의 양 측면(도 3 참조)에 배치되거나 또는 제1극성의 제1자성 부재(132)를 둘러싸는 형태(도 4 참조)로 배치된다. 여기서, 제2극성의 제1자성 부재(134)는 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210)와 동일 극성을 가진다. 따라서 제2극성의 제1자성 부재(134)와 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210) 간에는 척력이 발생한다.
이와 같이 이루어진 웨이퍼 정렬 장치(100)는 제1극성의 제1자성 부재(132)와 제2자성 부재(210) 간에 발생하는 인력 및 제2극성의 제1자성 부재(134)와 제2자성 부재(210) 간에 발생하는 척력을 통해, 웨이퍼(200)의 중심(C2)을 더욱 효과적으로 흡착면(112)의 중심축(즉 연장선 C-C) 상에 위치시킬 수 있다.
특히, 본 실시 예에서는, 제2극성의 제1자성 부재(134)가 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210)에 척력을 작용시켜 제1극성의 제1자성 부재(132)로 이동시킬 수 있으므로, 제1실시 예보다 정확한 웨이퍼(200)의 정렬이 가능하다.
따라서 본 실시 예는 웨이퍼(200)의 정밀한 정렬이 필요한 공정 및 작업에 적합하다.
다음에서는 도 5를 참조하여 본 발명의 제3실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 설명한다. 도 5는 본 발명의 제3실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치와 웨이퍼를 나타낸 도면으로서, 도 5의 (a)는 웨이퍼 정렬 장치의 평면도이고, 도 5의 (b)는 웨이퍼의 저면도이며, 도 6은 도 5에 도시된 웨이퍼 정렬 장치에 웨이퍼가 정렬된 상태를 나타낸 평면도이다. 참고로, 본 실시 예에서 전술된 실시 예들과 동일한 구성요소는 동일한 도면부호를 사용하며, 이들 구성요소에 대한 상세한 설명은 생략한다.
제3실시 예에 따른 웨이퍼 정렬 장치(100)와 웨이퍼(200)는 자성 부재(134, 210)의 배치 형태에 있어서, 전술된 실시 예들과 차이점을 갖는다.
본 실시 예의 웨이퍼 정렬 장치(100)에서 제1자성 부재(134)는 제2진공 흡착부(124)의 바깥쪽에 위치한다. 여기서, 다수의 제1자성 부재들(134)은 흡착면(112)의 중심(C1)으로부터 R3을 반지름으로 하는 원 형태로 매우 조밀하게 배치된다. 여기서 제1자성 부재들(134)은 웨이퍼(200)의 제2자성 부재(210)와 동일한 극성을 가진다. 따라서 제1자성 부재(134)와 제2자성 부재(210) 간에는 척력이 작용한다.
웨이퍼(200)에서 제2자성 부재(210)는 웨이퍼(200)의 가장자리 부분에 위치한다. 다수의 제2자성 부재들(210)은 웨이퍼(200)의 중심(C2)으로부터 R4을 반지름으로 하는 원 형태로 배치된다. 여기서, 웨이퍼(200)의 중심(C2)으로부터 제2자성 부재들(210)까지의 거리(R4)는 흡착면(112)의 중심(C1)으로부터 제1자성 부재들(134)까지의 거리(R3)보다 작다. 따라서 제2자성 부재(210)는 웨이퍼(200)가 흡착면(112)에 정확히 정렬된 상태에서는 제1자성 부재(134)와 대면하지 않는다.
이와 같이 이루어진 웨이퍼 정렬 장치(100)와 웨이퍼(200)는 다음과 같은 방식에 의해 웨이퍼(200)의 정렬이 이루어진다.
웨이퍼(200)가 웨이퍼 정렬 장치(100)의 흡착면(112)에 올려지면, 제2자성 부재(210)와 제1자성 부재(134)는 서로 척력을 작용한다. 여기서, 제1자성 부재(134)는 제2자성 부재(210)의 바깥쪽에 위치하므로, 제2자성 부재(210)를 흡착면(112)의 중심(C1) 쪽으로 민다. 이와 마찬가지로, 제2자성 부재(210)는 제1자성 부재(134)의 안쪽에 위치하므로, 제1자성 부재(134)를 바깥쪽으로 밀어 흡착면(112)의 중심(C1)으로 이동하려는 경향을 갖는(도 6 참조).
이러한 제2자성 부재(210)와 제1자성 부재(134) 간의 척력은 웨이퍼(200)의 가장자리 부분에서 발생하므로, 척력에 의한 웨이퍼(200)의 최종적인 이동위치는 도 6에 도시된 바와 같이 흡착면(112)의 중심축(C-C)을 향해 수렴하게 된다.
이와 같이 구성된 본 실시 예는 제2자성 부재(210)를 웨이퍼(200)의 가장자리(예를 들어, 웨이퍼(200)에서 사용되지 않고 버려지는 부분)에 형성시킬 수 있으므로, 웨이퍼(200)의 유효면적을 최적화할 수 있다.
본 발명은 이상에서 설명되는 실시 예에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 얼마든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있을 것이다.
100 웨이퍼 정렬 장치
110 몸체 112 흡착면
114 통기로 120 진공 흡착부
122 제1진공 흡착부 124 제2진공 흡착부
130 제1자성 부재 132 제1극성의 제1자성 부재
134 제2극성의 제1자성 부재 140 진공 라인
200 웨이퍼 210 제2자성 부재

Claims (8)

  1. 웨이퍼가 안착되는 흡착면을 갖는 몸체; 및
    상기 흡착면의 중심을 기준으로 배열되고, 상기 웨이퍼에 형성된 금속 부재 또는 자성 부재와 상호 작용하여, 상기 웨이퍼의 중심을 상기 흡착면의 중심에 정렬시키는 제1자성 부재;
    를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 몸체에 상기 웨이퍼를 진공 흡착하는 진공 흡착부가 더 설치되는 웨이퍼 정렬 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 진공 흡착부는 웨이퍼의 중심 부분을 흡착하는 제1진공 흡착부와 웨이퍼의 가장자리 부분을 흡착하는 제2진공 흡착부를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1자성 부재는, 제2자성 부재와 인력 또는 척력을 형성하는 제1극성의 제1자성 부재, 및 상기 제1극성의 제1자성 부재와 다른 극성을 갖는 제2극성의 제1자성 부재를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1극성의 제1자성 부재는 상기 제2극성의 제1자성 부재를 중심으로 원형 배치되는 웨이퍼 정렬 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1자성 부재는 웨이퍼가 정렬될 기준 위치를 중심으로 원형 배치되는 웨이퍼 정렬 장치.
  7. 웨이퍼가 안착되는 흡착면을 갖는 몸체;
    상기 흡착면에 설치되어, 상기 웨이퍼의 일면을 흡착하는 진공 흡착부; 및
    상기 흡착면에 방사형으로 설치되어, 상기 웨이퍼에 형성된 금속 부재 또는 자성 부재와 상호 작용하여, 상기 웨이퍼와 비 접속상태에서 상기 웨이퍼가 상기 흡착면의 중심으로 이동되도록 자력을 형성하는 제1자성 부재;
    를 포함하는 웨이퍼 정렬 장치.
  8. 일 측면에 렌즈 면이 형성된 몸체; 및
    상기 몸체의 타 측면에 대칭형태로 형성되는 제2자성 부재;
    를 포함하는 웨이퍼.
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CN113471111A (zh) * 2021-07-10 2021-10-01 江苏晟驰微电子有限公司 一种孔板钢网印刷实现晶圆玻璃钝化工艺的治具

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