CN203725341U - 一种新型匀胶机托盘结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台、真空吸片结构和伞状保护结构；所述硅片承片台包括：硅片承载平面、储胶槽和凸台，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口；所述伞状保护结构安装在所述凸台的顶部，位于所述储胶槽内。通过上述方式，本实用新型具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤；同时设有伞状保护结构，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流方向，使储胶槽和硅片背面形成的真空腔体内形成一定的气压差，有效防止储胶槽中的光刻胶在运动过程中回流至硅片背面。

Description

一种新型匀胶机托盘结构

技术领域

  本实用新型涉及匀胶机设备领域，特别是涉及一种新型匀胶机托盘结构。

背景技术

现有的光刻胶匀胶台采用真空吸片的方式吸住硅片，但现有的硅片承片台无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片口中，如图1所示的现有技术，硅片与真空吸片口直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至硅片边缘的胶滴，由于硅片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分硅片边缘的胶滴会沿着硅片的背面被吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对匀胶台造成损伤。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种新型匀胶机托盘结构，具有大容量储胶槽，能够储存较多被甩出的光刻胶，并防止流入储胶槽内的光刻胶再次被甩出，避免了对匀胶台的损伤；同时设有伞状保护结构，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流方向，使储胶槽和硅片背面形成的真空腔体内形成一定的气压差，有效防止储胶槽中的光刻胶在运动过程中回流至硅片背面。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种新型匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台、真空吸片结构和伞状保护结构；所述硅片承片台包括：硅片承载平面、储胶槽和凸台，所述硅片承载平面位于所述硅片承片台的上端，所述硅片承载平面为一圆形水平面，所述储胶槽为沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设的凹槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，所述凸台位于所述储胶槽的中间；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述伞状保护结构安装在所述凸台的顶部，并位于所述储胶槽内。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述储胶槽呈圆形碗体结构。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述凸台呈圆台型结构，并且所述凸台的顶端设有安装孔。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述伞状保护结构包括：安装轴和保护伞体，所述安装轴的下端安装在所述安装孔中，所述保护伞体位于所述安装轴的上端。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型一种新型匀胶机托盘结构，沿着硅片承片台的圆心向内开设一圆形碗体结构的储胶槽，其槽壁为向内凹进的圆弧形，使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽中，并且该储胶槽具有储胶量大的特点，能储存较多的光刻胶，同时圆弧形槽壁能防止光刻胶在离心力作用下再次被甩出，从而能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞；并且在凸台的顶部安装有伞状保护结构，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流方向，空气从侧下方往中间抽，使储胶槽和硅片背面形成的真空腔体内形成一定的气压差，有效防止储胶槽中的光刻胶在运动过程中回流至硅片背面。

附图说明

图1是现有匀胶机托盘结构示意图；

图2是本实用新型一种新型匀胶机托盘结构一较佳实施例的结构示意图；

图3是图2所示处于工作状态的结构示意图；

附图中各部件的标记如下：1、硅片承片台，2、真空吸片结构，3、伞状保护结构，4、硅片，10、硅片承载平面，11、储胶槽，12、凸台，20、上端，21、真空吸片口，30、安装轴，31、保护体，110、槽壁，120、安装孔，H、真空吸片口与硅片承载平面间的垂直距离。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图2和图3，本实用新型实施例包括：

一种新型匀胶机托盘结构，包括：硅片承片台1、真空吸片结构2和伞状保护结构3；所述硅片承片台1包括：硅片承载平面10、储胶槽11和凸台12，所述硅片承载平面10位于所述硅片承片台1的上端，所述硅片承载平面10为一圆形水平面，所述储胶槽11为沿着所述硅片承载平面10的圆心向内开设的凹槽，并且所述储胶槽11的槽壁110为向内凹进的圆弧形，所述凸台12位于所述储胶槽11的中间；所述真空吸片结构2包括：上端20和真空吸片口21，所述上端20位于所述凸台12内，所述真空吸片口21位于所述上端20的顶部，并且所述真空吸片口21与所述硅片承载平面10间的垂直距离H大于3mm，两者间留有一定的间隙，从而使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片4背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽11中，从而能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口21内，储胶槽11的槽壁110为向内凹进的圆弧形，增大了储胶槽11的容量，同时能够避免储存在槽内的光刻胶受离心力作用再次被甩出；所述伞状保护结构3安装在所述凸台12的顶部，并位于所述储胶槽11内，能够改变气流方向，空气从侧下方往中间抽，避免了垂直向下抽气易损伤真空吸片口21，具有保护真空吸片口21的作用。

其中，所述储胶槽11呈圆形碗体结构，具有储胶量大的特点，能够储存较多的光刻胶，可以减少清理储胶槽11的次数。

所述凸台12呈圆台型结构，并且所述凸台12的顶端设有安装孔120，所述伞状保护结构3包括：安装轴30和保护伞体31，所述安装轴30的下端安装在所述安装孔120中，所述保护伞体31位于所述安装轴30的上端，伞状保护体31能避免位于储胶槽11内的光刻胶受离心力作用向四周甩动过程中再次被吸入真空吸片口21内，具有进一步保护真空吸片口21的作用。

所述真空吸片口21的圆心与所述硅片承载平面10的圆心在同一垂直线上，

即圆心对齐，以实现滴在硅片表面上的光刻胶在旋转离心力和表面张力的联合作用下的均匀涂覆并展成一层均匀的薄膜。

工作过程如下：如图3所示，首先把硅片4放置在硅片承载平面10上，并使两者的圆心对齐，然后打开真空吸片结构2，真空吸片口21开始抽气，使硅片4的背面及储胶槽11形成一个真空腔体，从而大气压力差把硅片4牢牢吸附在硅片承载平面10上，然后在硅片4静止或低速旋转的同时进行滴胶，滴胶量根据光刻胶的粘度和硅片的大小来确定，滴胶结束后，匀胶机高速旋转使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚。其中光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片4背面的胶水在到达所述储胶槽11时，由于光刻胶滴所受储胶槽11内外气压压力差、以及光刻胶滴的重力大于其表面张力，故胶滴会下滴至储胶槽11中并储存在其中，但是由于匀胶台高速旋转过程中，在储胶槽11中的胶滴受离心力的作用，仍然会向四周甩动，圆弧形的储胶槽壁110及伞状保护体31能避免胶滴甩动时再次被吸入到真空吸片口21内，从而避免了真空吸片口21吸入光刻胶造成堵塞，同时圆形碗体结构的储胶槽11具有储胶量大的特点，可以减少清理储胶槽11的次数，减轻了工作量；安装在凸台12顶部的伞状保护结构3，一方面保护真空吸片口21，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流方向，空气从侧下方往中间抽，使储胶槽11和硅片4背面形成的真空腔体内形成一定的气压差，有效防止储胶槽11中的光刻胶在运动过程中回流至硅片4的背面。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (5)

1.一种新型匀胶机托盘结构，其特征在于，包括：硅片承片台、真空吸片结构和伞状保护结构；所述硅片承片台包括：硅片承载平面、储胶槽和凸台，所述硅片承载平面位于所述硅片承片台的上端，所述硅片承载平面为一圆形水平面，所述储胶槽为沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设的凹槽，并且所述储胶槽的槽壁为向内凹进的圆弧形，所述凸台位于所述储胶槽的中间；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述伞状保护结构安装在所述凸台的顶部，并位于所述储胶槽内。

2.根据权利要求1所述的新型匀胶机托盘结构，其特征在于，所述储胶槽呈圆形碗体结构。

3.根据权利要求1所述的新型匀胶机托盘结构，其特征在于，所述凸台呈圆台型结构，并且所述凸台的顶端设有安装孔。

4.根据权利要求1或3所述的新型匀胶机托盘结构，其特征在于，所述伞状保护结构包括：安装轴和保护伞体，所述安装轴的下端安装在所述安装孔中，所述保护伞体位于所述安装轴的上端。

5.根据权利要求1所述的新型匀胶机托盘结构，其特征在于，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。