CN203725340U - 防止胶吸入的匀胶机托盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种防止胶吸入的匀胶机托盘，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端。通过上述方式，本实用新型能够有效地阻挡光刻胶在甩动过程中被吸入真空吸片口内，同时能防止流入储胶槽内的光刻胶达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞。

Description

防止胶吸入的匀胶机托盘

技术领域

本实用新型涉及匀胶机设备领域，特别是涉及一种防止胶吸入的匀胶机托盘。

背景技术

现有的光刻胶匀胶台采用真空吸片的方式吸住硅片，但现有的硅片承片台无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片口中，如图1所示的现有技术，硅片与真空吸片口直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至硅片边缘的胶滴，由于硅片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分硅片边缘的胶滴会沿着硅片的背面被吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对匀胶台造成损伤。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种防止胶吸入的匀胶机托盘，能够有效地阻挡光刻胶在甩动过程中被吸入真空吸片口内，同时能防止流入储胶槽内的光刻胶达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种防止胶吸入的匀胶机托盘，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端，在所述吸口保护结构内还设有“T”状抽气通道，并且所述抽气通道的下端口与所述真空吸片口连通。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述储胶槽为圆台型，包括：槽口和槽底，并且所述槽口的面积大于所述槽底的面积。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述凸台为圆柱形，其高度为所述储胶槽深度的3/5-4/5。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述吸口保护结构呈圆柱形帽状结构，包括：帽顶、帽底和位于所述帽顶与帽底间向内凹的帽壁。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述抽气通道两侧的抽气通孔位于所述帽壁上，并且靠近于所述帽顶。

在本实用新型一个较佳实施例中，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型防止胶吸入的匀胶机托盘，在硅片承片台的中间开设储胶槽，使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽中，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致吸力不足或堵塞；并且在凸台的顶端安装有帽状结构的吸口保护结构，在其内部设有“T”状抽气通道，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流吸入方向为侧向，使储胶槽和硅片形成的真空腔体内形成一定的气压差，同时吸口保护结构上的帽底能防止流入储胶槽内的光刻胶在达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内。 

附图说明

图1是现有匀胶机托盘结构示意图；

图2是本实用新型防止胶吸入的匀胶机托盘一较佳实施例的结构示意图；

图3是图2所示局部放大结构示意图；

图4是图2所示处于工作状态的结构示意图；

附图中各部件的标记如下：1、硅片承片台，2、真空吸片结构，3、吸口保护结构，4、硅片，10、储胶槽，11、凸台，12、硅片承载平面，20、上端，21、真空吸片口，30、抽气通孔，31、帽壁，32、帽顶，33、帽底，100、槽口，101、槽底，H、真空吸片口与硅片承载平面间的垂直距离。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图2、图3和图4，本实用新型实施例包括：

一种防止胶吸入的匀胶机托盘，包括：硅片承片台1、真空吸片结构2和位于真空吸片结构2上的吸口保护结构3；所述硅片承片台1的上端设有硅片承载平面12、中间开设有一凹进的储胶槽10，在所述储胶槽10的中间设有一凸台11；所述真空吸片结构2包括：上端20和真空吸片口21，所述上端20位于所述凸台11内，所述真空吸片口21位于所述上端20的顶部，并且所述真空吸片口21与所述硅片承载平面12间的垂直距离大于3mm，即使真空吸片口21与硅片不直接接触，两者间留有一定的间隙，从而使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片4背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽10中，从而能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口21内；所述吸口保护结构3位于所述凸台11的顶端，在所述吸口保护结构3内部还设有“T”状抽气通道，并且所述抽气通道的下端口与所述真空吸片口21连通，使空气通过T”状抽气通道往真空吸片口21处抽，从而进一步保护真空吸片口21。

其中，所述储胶槽10为圆台型，包括：槽口100和槽底101，并且所述槽口100的面积大于所述槽底101的面积，槽口100的面积较大能保证匀胶机旋转中甩出硅片边缘的光刻胶全部渗入到储胶槽10中。。

所述凸台11为圆柱形，其高度为所述储胶槽深度的3/5-4/5，所述凸台11的上部还用于安装固定所述吸口保护结构3，并使吸口保护结构3不凸出于所述槽口100外，避免影响硅片4的安放。

所述吸口保护结构3呈圆柱形帽状结构，包括：帽顶32、帽底33和位于所述帽顶32与帽底33间向内凹的帽壁31，能够有效避免真空吸片口21吸入光刻胶，并且帽底33能防止位于储胶槽10内的光刻胶在达到一定高度后，再次被真空吸片口21吸入。

所述抽气通道两侧的抽气通孔30位于所述帽壁31上，并且靠近于所述帽顶32，使硅片4的背面及储胶槽10中的空气通过抽气通孔30往真空吸片口21处抽走，从而使硅片4的背面及储胶槽10内处于负气压状态，即形成一个真空腔。

所述真空吸片口21的圆心与所述硅片承载平面12的圆心在同一垂直线上，即圆心对齐，以实现滴在硅片表面上的光刻胶在旋转离心力和表面张力的联合作用下的均匀涂覆并展成一层均匀的薄膜。

工作过程如下：如图4所示，首先把硅片4放置在硅片承载平面12上，并使两者的圆心对齐，然后打开真空吸片结构2，空气从“T”状抽气通道往真空吸片口21处移动，从而使硅片4的背面及储胶槽11形成一个真空腔体，即硅片4正面的大气压力大于其背面的大气压力，从而把硅片4牢牢吸附在硅片承载平面12上，然后在硅片4静止或低速旋转的同时进行滴胶，滴胶量根据光刻胶的粘度和硅片4的大小来确定，滴胶结束后，匀胶机高速旋转使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚。其中光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片4背面的胶水在到达所述储胶槽10的槽口100时，由于储胶槽10内的气压低于储胶槽10边缘的气压，光刻胶滴在气压差和重力作用下克服表面张力，故胶滴会下滴至储胶槽10中并储存在其中，从而防止了胶滴堵塞真空吸片口21，但是由于匀胶台高速旋转过程中，在储胶槽10中的胶滴受离心力的作用，仍然会向四周甩动，吸口保护结构3上的帽底33能避位于储胶槽10内的光刻胶在达到一定高度后再被真空吸片口21吸入，具有进一步保护真空吸片口21的作用。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端，在所述吸口保护结构内还设有“T”状抽气通道，并且所述抽气通道的下端口与所述真空吸片口连通。

2.根据权利要求1所述的防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，所述储胶槽为圆台型，包括：槽口和槽底，并且所述槽口的面积大于所述槽底的面积。

3.根据权利要求1所述的防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，所述凸台为圆柱形，其高度为所述储胶槽深度的3/5-4/5。

4.根据权利要求1所述的防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，所述吸口保护结构呈圆柱形帽状结构，包括：帽顶、帽底和位于所述帽顶与帽底间向内凹的帽壁。

5.根据权利要求1或4所述的防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，所述抽气通道两侧的抽气通孔位于所述帽壁上，并且靠近于所述帽顶。

6.根据权利要求1所述的防止胶吸入的匀胶机托盘，其特征在于，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。