CN206689905U - 全自动涡流式成套研磨设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种全自动涡流式成套研磨设备，包括机架(1)，机架(1)上设有上料装置(2)、涡流清洗装置(3)、振动冲洗分离装置(4)和缓冲斗(5)；所述的涡流清洗装置(3)包括设置涡流抛光机(7)，涡流抛光机(7)外侧壁上设有液位控制装置(8)；所述的振动冲洗分离装置(4)下方设有磨料回流装置(6)；所述的机架(1)上还设有控制器(9)，控制器(9)与上料装置(2)、涡流清洗装置(3)、振动冲洗分离装置(4)和磨料回流装置(6)相连。本实用新型能够方便快速的更换冷却水、降低工人的劳动强度和提高研磨效率，还能够及时回收磨料回流时产生的废水和提高磨料利用率。

Description

全自动涡流式成套研磨设备

技术领域

本实用新型涉及一种研磨设备，特别是一种全自动涡流式成套研磨设备。

背景技术

研磨机就是对工件表面进行研磨抛光处理的抛光设备。它通过磨料和工件在涡流机内高速旋转，利用相互摩擦的原理对工件进行抛光处理。工件和磨料之间相互摩擦会产热，需要添加水来进行降温处理，但是由于涡流机的高速旋转会使摩擦产热的速度很快以及抛光处理的时间较长，在研磨过程中需要更换冷却水，现有的研磨设备一般都是通过人工定期进行更换，更换时研磨抛光机需要暂停工作，这种方式不仅增加工人的劳动强度，而且还会影响研磨的效率和质量，同时人工更换的方式无法精确的控制更换水的频率以及更换水的液位。同时，由于研磨设备在研磨抛光时需要用到大量的水，磨料和工件分离后，磨料表面还是会吸附有一定的水，磨料和工件在振动冲洗分离阶段也会产生一定的废水，因此磨料在输送皮带上回料时，这些水分就会滴落到机架和地面上，造成地面潮湿；这样不仅容易弄脏地面，而且还会使得工人发生打滑，从而造成安全生产事故。另外，利用皮带传输时，磨料从振动冲洗分离装置出料端进入到皮带这一过程中，磨料容易乱蹦，致使部分磨料散落到机架或者地面上，需要人工捡拾，不仅增加了劳动强度，还降低了磨料的利用率。因此，现有的技术存在着冷却水更换难度大、工人劳动强度大、研磨效率低、磨料回流时的废水无法及时回收以及磨料的利用率较低的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种全自动涡流式成套研磨设备。本实用新型具有能够方便快速的更换冷却水、降低工人的劳动强度和提高研磨效率的特点，还具有能够及时回收磨料回流时产生的废水和提高磨料利用率的特点。

本实用新型的技术方案：全自动涡流式成套研磨设备，包括机架，机架上设有上料装置，上料装置相邻的两侧分别设有涡流清洗装置和振动冲洗分离装置，涡流清洗装置和振动冲洗分离装置之间设有缓冲斗；所述的涡流清洗装置包括设置在上料装置侧面的涡流抛光机，涡流抛光机外侧设有液位控制装置；所述的振动冲洗分离装置下方设有磨料回流装置，且磨料回流装置的出料端与上料装置相对应；所述的机架上还设有控制器，控制器与上料装置、涡流清洗装置、振动冲洗分离装置和磨料回流装置相连。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述液位控制装置包括设置在涡流抛光机外侧壁的液位控制盒，液位控制盒内设有浮球液位开关，液位控制盒下端设有送水管，送水管上设有与涡流抛光机相连通的出水管，送水管内设有位于出水管下方的进水球阀，液位控制盒的侧壁上设有与涡流抛光机相连通的回流管；所述的涡流抛光机底部还设有排水管，排水管上设有排水球阀，排水管下方设有污水收集盘，污水收集盘经污水管连接有污水缓冲池。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，其特征在于：所述的涡流抛光机外侧壁上设有分别与出水管和回流管相对应的出水口和回水口。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述液位控制盒上端还设有排气管。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述磨料回流装置包括设置在机架上的两块限位板，两块限位板之间设有两根平行布置的导轨，导轨上设有滑动座，滑动座上设有弹簧，弹簧上方设有倾斜的回料斗，回料斗下方设有振动电机；所述的机架上还设有伸缩驱动机构，伸缩驱动机构连接有移动架，移动架与滑动座相连。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述的滑动座包括设置在导轨上的两块滑动板，两个滑动板之间设有两块平行布置的固定板，两块固定板之间设有连接杆，连接杆与移动架相固定。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述回料斗包括两块呈八字型布置的侧挡板，两块侧挡板之间设有倾斜布置的导引底板，导引底板的进料端设有端部挡板，且端部挡板与侧挡板相固定；所述的侧挡板外侧设有与弹簧相固定的固定座。回料斗形成一个进料端开口小于出料端开口的形状，这样就便于在进料端集中磨料，提高传输效率，同时还能保证出料端的磨料不会集中输送至上料装置的某一特定位置，保证磨料输送的均匀性。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述的伸缩驱动机构包括固定在机架上的液压缸，液压缸伸出端设有顶杆，且顶杆与移动架相固定。

前述的全自动涡流式成套研磨设备中，所述的回料斗进料端位于振动冲洗分离装置下方，所述的回料斗出料端位于上料装置的上方。

与现有技术相比，本实用新型通过在涡流抛光机上设置液位控制装置，利用液位控制装置取代人工更换冷却水的方式对涡流抛光机内的冷却水进行自动的更换，降低了工人的劳动强度，提高更换水的速度，而且在更换水的时候不需要暂停研磨机的工作，提高研磨的效率，改善研磨的质量；而且通过液位控制装置取代人工进行液位的控制，能够精确的控制涡流抛光机内的液位。通过在振动冲洗分离装置和上料装置之间设置磨料回流装置，通过倾斜结构的回料斗，用以承接全部的磨料以及磨料自带的废水，保证废水不会滴落至机架和地面上，使得地面能够长时间的保持干燥，进而能够减少打滑等事故的发生；而且回料斗还能够防止磨料在进料时会由于反弹力的作用散落至机架和地面的现象的发生，不再需要人工捡拾，进而提高磨料的利用率。综上所述，本实用新型能够方便快速的更换冷却水、降低工人的劳动强度和提高研磨效率，还能够及时回收磨料回流时产生的废水和提高磨料利用率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是涡流清洗装置的结构示意图；

图3是液位控制盒的结构示意图；

图4是液位控制盒的剖视图；

图5是磨料回流装置的结构示意图；

图6是磨料回流装置的立体结构示意图。

附图中的标记为：1-机架，2-上料装置，3-涡流清洗装置，4-振动冲洗分离装置，5-缓冲斗，6-磨料回流装置，7-涡流抛光机，8-液位控制装置，9-控制器，601-限位板,602-导轨，603-滑动座，604-弹簧，605-回料斗，606-振动电机，607-伸缩驱动机构，608-移动架，609-滑动板，610-固定板，611-连接杆，612-侧挡板，613-导引底板，614-端部挡板，615-液压缸，616-顶杆，617-固定座，801-液位控制盒，802-浮球液位开关，803-送水管，804-出水管，805-进水球阀，806-回流管，807-排水管，808-排水球阀，809-污水收集盘，810-污水管，811-污水缓冲池，812-排气管。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明，但并不作为对本实用新型限制的依据。

实施例。全自动涡流式成套研磨设备，构成如图1至图6所示，包括机架1，机架1上设有上料装置2，上料装置2相邻的两侧分别设有涡流清洗装置3和振动冲洗分离装置4，涡流清洗装置3和振动冲洗分离装置4之间设有缓冲斗5；所述的涡流清洗装置3包括设置在上料装置2侧面的涡流抛光机7，涡流抛光机7外侧设有液位控制装置8；所述的振动冲洗分离装置4下方设有磨料回流装置6，且磨料回流装置6的出料端与上料装置2相对应；所述的机架1上还设有控制器9，控制器9与上料装置2、涡流清洗装置3、振动冲洗分离装置4和磨料回流装置6相连。

所述液位控制装置8包括设置在涡流抛光机7外侧壁的液位控制盒801，液位控制盒801内设有浮球液位开关802，液位控制盒801下端设有送水管803，送水管803上设有与涡流抛光机7相连通的出水管804，送水管803内设有位于出水管804下方的进水球阀805，液位控制盒801的侧壁上设有与涡流抛光机7相连通的回流管806；所述的涡流抛光机7底部还设有排水管807，排水管807上设有排水球阀808，排水管807下方设有污水收集盘809，污水收集盘809经污水管810连接有污水缓冲池811。

所述的涡流抛光机7外侧壁上设有分别与出水管804和回流管806相对应的出水口和回水口。

所述液位控制盒801上端还设有排气管812。

所述污水收集盘为锥形结构。所述污水管和污水缓冲池之间设有污水止通开关。

所述磨料回流装置6包括设置在机架1上的两块限位板601，两块限位板601之间设有两根平行布置的导轨602，导轨602上设有滑动座603，滑动座603上设有弹簧604，弹簧604上方设有倾斜的回料斗605，回料斗605下方设有振动电机606；所述的机架1上还设有伸缩驱动机构607，伸缩驱动机构607连接有移动架608，移动架608与滑动座603相连。

所述的滑动座603包括设置在导轨602上的两块滑动板609，两个滑动板609之间设有两块平行布置的固定板610，两块固定板610之间设有连接杆611，连接杆611与移动架608相固定。

所述回料斗605包括两块呈八字型布置的侧挡板612，两块侧挡板612之间设有倾斜布置的导引底板613，导引底板613的进料端设有端部挡板614，且端部挡板614与侧挡板612相固定；所述的侧挡板612外侧设有与弹簧604相固定的固定座617。

所述的伸缩驱动机构607包括固定在机架1上的液压缸615，液压缸615伸出端设有顶杆616，且顶杆616与移动架608相固定。

所述的回料斗605进料端位于振动冲洗分离装置4下方，所述的回料斗605出料端位于上料装置2的上方。

所述的上料装置2包括固定在机架1上的支撑架，支撑架上设有液压旋转机构，液压旋转机构连接有上料斗。

所述的缓冲斗5倾斜铰接在机架1上，且缓冲斗和机架之间设有弹簧。

所述涡流抛光机7和缓冲斗5之间设有支撑架，支撑架上设有与涡流抛光机7相连的液压旋转机构。

所述振动冲洗分离装置4包括固定在机架1上的分离箱，分离箱上端设有振动电机和冲洗机构，所述分离箱内设有分筛网，分筛网下方设有锥形结构的磨料收集器，磨料收集器出料端下方与磨料回流装置相对应。所述冲洗机构左端设有冲洗管件，冲洗管件与分筛网相对应。

所述液位控制盒801内还设有液位控制器，液位控制器与浮球液位开关802、排水球阀808和进水球阀805相连；液位控制器还与控制器相连。

本实用新型的工作过程：将磨料和工件被放入上料斗内，通过液压旋转机构将上料斗旋转至涡流抛光机7上方，将磨料和工件送入涡流抛光机7内，然后液位控制器控制进水球阀805开启和排水球阀808关闭，冷却水经送水管803和出水管804进入涡流抛光机7内，完成冷却水的添加。涡流抛光机7在工作时会高速旋转，带动冷却水呈涡流状分布，冷却水经出水管804进入液位控制盒801内，并经回流管806回到涡流抛光机7内，在这过程中浮球液位开关802对液位控制盒801内的液位进行监测，间接的对涡流抛光机7内的液位进行控制；根据浮球液位开关802来监测涡流抛光机7内的液位高度继而来控制进水球阀805的开闭。当研磨一段时间后，液位控制器控制排水球阀808打开，将涡流抛光机7内的热水排出，热水经污水收集盘809收集，再经污水管810进入污水缓冲池811内；与此同时，打开进水球阀805同步进水，能够保证研磨的正常进行。另外，冷却水在高速旋转时会产生气体等，气体可以通过出水口排出，然后在通过液位控制盒801上端的排气管812排出。当研磨完成后，涡流抛光机7经液压旋转机构旋转，将磨料和工件转移至缓冲斗5上，通过缓冲斗5将磨料和工件均匀的输送至振动冲洗分离装置4上，然后根据分筛网将磨料和工件分离，工件经振动和冲洗后出料，磨料经磨料收集器转移至磨料回流装置6，重新回到上料斗内进行下一工作。当需要磨料回流时，液压缸615带动顶杆616进行收缩作业，顶杆616带动移动架608移动，从而带动滑动座603和回料斗605移动，直至将回料斗605移动至上料装置2的上方，磨料进入到回料斗605后，在振动电机606的带动下，磨料沿着倾斜结构的导引底板613移动至上料斗内；当上料装置2进行上料作业时，回料斗605在伸缩驱动机构607的带动下往回运动，不会对上料装置2的旋转移动产生影响。

Claims (9)

1.全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：包括机架(1)，机架(1)上设有上料装置(2)，上料装置(2)相邻的两侧分别设有涡流清洗装置(3)和振动冲洗分离装置(4)，涡流清洗装置(3)和振动冲洗分离装置(4)之间设有缓冲斗(5)；所述的涡流清洗装置(3)包括设置在上料装置(2)侧面的涡流抛光机(7)，涡流抛光机(7)外侧设有液位控制装置(8)；所述的振动冲洗分离装置(4)下方设有磨料回流装置(6)，且磨料回流装置(6)的出料端与上料装置(2)相对应；所述的机架(1)上还设有控制器(9)，控制器(9)与上料装置(2)、涡流清洗装置(3)、振动冲洗分离装置(4)和磨料回流装置(6)相连。

2.根据权利要求1所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述液位控制装置(8)包括设置在涡流抛光机(7)外侧壁的液位控制盒(801)，液位控制盒(801)内设有浮球液位开关(802)，液位控制盒(801)下端设有送水管(803)，送水管(803)上设有与涡流抛光机(7)相连通的出水管(804)，送水管(803)内设有位于出水管(804)下方的进水球阀(805)，液位控制盒(801)的侧壁上设有与涡流抛光机(7)相连通的回流管(806)；所述的涡流抛光机(7)底部还设有排水管(807)，排水管(807)上设有排水球阀(808)，排水管(807)下方设有污水收集盘(809)，污水收集盘(809)经污水管(810)连接有污水缓冲池(811)。

3.根据权利要求2所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述的涡流抛光机(7)外侧壁上设有分别与出水管(804)和回流管(806)相对应的出水口和回水口。

4.根据权利要求2所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述液位控制盒(801)上端还设有排气管(812)。

5.根据权利要求1所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述磨料回流装置(6)包括设置在机架(1)上的两块限位板(601)，两块限位板(601)之间设有两根平行布置的导轨(602)，导轨(602)上设有滑动座(603)，滑动座(603)上设有弹簧(604)，弹簧(604)上方设有倾斜的回料斗(605)，回料斗(605)下方设有振动电机(606)；所述的机架(1)上还设有伸缩驱动机构(607)，伸缩驱动机构(607)连接有移动架(608)，移动架(608)与滑动座(603)相连。

6.根据权利要求5所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述的滑动座(603)包括设置在导轨(602)上的两块滑动板(609)，两个滑动板(609)之间设有两块平行布置的固定板(610)，两块固定板(610)之间设有连接杆(611)，连接杆(611)与移动架(608)相固定。

7.根据权利要求5所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述回料斗(605)包括两块呈八字型布置的侧挡板(612)，两块侧挡板(612)之间设有倾斜布置的导引底板(613)，导引底板(613)的进料端设有端部挡板(614)，且端部挡板(614)与侧挡板(612)相固定；所述的侧挡板(612)外侧设有与弹簧(604)相固定的固定座(617)。

8.根据权利要求5中所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述的伸缩驱动机构(607)包括固定在机架(1)上的液压缸(615)，液压缸(615)伸出端设有顶杆(616)，且顶杆(616)与移动架(608)相固定。

9.根据权利要求5所述的全自动涡流式成套研磨设备，其特征在于：所述的回料斗(605)进料端位于振动冲洗分离装置(4)下方，所述的回料斗(605)出料端位于上料装置(2)的上方。