CN206396318U - 一种坩埚 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及显示技术领域,公开一种坩埚,用于解决现有技术中的坩埚易产生蒸镀材料受热不均的问题。包括坩埚本体,所述坩埚本体包括第一锅体和多个第二锅体,每个第二锅体的体积小于所述第一锅体;所述第一锅体具有开口和与所述开口相对的底面,每个第二锅体的一端与所述第一锅体的底面连接,且每个第二锅体的内部与所述第一锅体内部连通。蒸镀材料在第二锅体内被分成了多份且分别进行加热,热量在每部分蒸镀材料内传导的速度大于在整份蒸镀材料内传导的速度,有利于每部分蒸镀材料的内外均匀受热,改善了蒸镀材料受热不均的问题,进而改善了部分过热的蒸镀材料产生变性、以及易造成坩埚开孔堵塞和降低蒸镀材料使用率的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域,特别涉及一种坩埚。
背景技术
OLED显示器件具有自发光、结构简单、轻薄、响应速度快、视角较宽、可实现柔性显示等优点,目前已在手机等终端产品中得到广泛的应用。OLED显示器件现在主要采用真空蒸镀法制备,其原理为加热蒸镀材料至一定温度,使其升华后透过掩膜板上的开孔沉积在基板上,从而形成OLED显示器件的膜层。
目前通常采用坩埚对蒸镀材料进行加热,在蒸镀过程中,蒸镀材料置于坩埚内部,通过设置在坩埚外部的加热装置对坩埚进行加热,从而使坩埚内的蒸镀材料受热。在蒸镀材料的加热过程中,位于最外层的蒸镀材料首先受热,然后再将热量传导至内部的蒸镀材料,在坩埚较大或蒸镀材料较多时,热量的传导过程较慢,易导致蒸镀材料受热不均,会使部分过热的蒸镀材料产生变性的风险,同时还易造成坩埚开孔堵塞和降低蒸镀材料使用率的问题。
实用新型内容
本实用新型提供了一种坩埚,用于解决现有技术中的坩埚易产生蒸镀材料受热不均的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下的技术方案:
一种坩埚,包括坩埚本体,其中:
所述坩埚本体包括第一锅体和多个第二锅体,每个第二锅体的体积小于所述第一锅体;所述第一锅体具有开口和与所述开口相对的底面,每个第二锅体的一端与所述第一锅体的底面连接,且每个第二锅体的内部与所述第一锅体内部连通。
本实用新型提供的坩埚包括坩埚本体,坩埚本体包括第一锅体和多个体积小于第一锅体的第二锅体,每个第二锅体的一端设置于第一锅体的底面且内部均与第一锅体连通;在进行蒸镀材料的加热时,将蒸镀材料分别放置于多个第二锅体内,同时对每个第二锅体内的各部分蒸镀材料进行加热,由于蒸镀材料被分成了多份且分别进行加热,热量在每部分蒸镀材料内传导的速度大于在整份蒸镀材料内传导的速度,有利于每部分蒸镀材料的内外均匀受热,改善了蒸镀材料受热不均的问题,进而改善了部分过热的蒸镀材料产生变性、以及易造成坩埚开孔堵塞和降低蒸镀材料使用率的问题。
优选地,还包括设置于每个第二锅体的外部的加热装置。
进一步地,所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热套。
进一步地,所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热丝。
优选地,还包括设置于每个第二锅体外部的制冷装置。
进一步地,所述制冷装置包括设置于每个第二锅体外部的冷媒管路。
优选地,沿所述第一锅体的底面到开口的方向,所述第一锅体的与所述底面平行的截面的面积逐渐增大。
进一步地,所述第一锅体为圆台状结构,且所述第一锅体的开口所在一端的直径大于所述第一锅体的底面所在一端的直径。
优选地,所述坩埚本体还具有盖合所述第一锅体的开口的盖板,所述盖板上设有多个蒸镀孔。
进一步地,所述多个蒸镀孔在所述盖板上阵列分布。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的一种坩埚的坩埚本体的结构示意图;
图2是是本实用新型实施例提供的一种坩埚分解结构示意图;
图3是是本实用新型实施例提供的一种坩埚装配结构示意图。
附图标记:
10,坩埚本体;11,第一锅体;111,开口;112,底面;12,第二锅体;
20,电热套;21,容置孔;30,盖板;31,蒸镀孔。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参见图1所示,本实施例提供了一种坩埚,包括坩埚本体10,其中:
坩埚本体10包括第一锅体11和多个第二锅体12,优选地,图1所示的第一锅体11为圆台状结构,每个第二锅体12为圆柱状结构,具体实施中,第一锅体11和第二锅体12均可采用圆台或圆柱状结构,每个第二锅体12的体积小于第一锅体11,在第二锅体12的体积减小时,由于其内部的蒸镀材料较少,导热速度较快,会提高第二锅体12内的蒸镀材料的加热速率,具体实施中,第二锅体12的体积应根据所需加热的蒸镀材料的数量和加速速率要求进行设置;具体实施中,第一锅体11和第二锅体12不限于圆台或圆柱的形状,例如,第一锅体11和第二锅体12的横截面可为三角形、四边形或多边形。
第一锅体11具有开口111和与开口111相对的底面112,每个第二锅体12的一端与第一锅体11的底面112连接,且每个第二锅体12的内部与第一锅体11内部连通,具体实施中,第一锅体11和每个第二锅体12之间可采用焊接或铸造等方式进行连接。
本实用新型提供的坩埚包括坩埚本体10,坩埚本体10包括第一锅体11和多个体积小于第一锅体11的第二锅体12,每个第二锅体12的一端设置于第一锅体11的底面112且内部均与第一锅体11连通;在进行蒸镀材料的加热时,将蒸镀材料分别放置于多个第二锅体12内,同时对每个第二锅体12内的各部分蒸镀材料进行加热,由于蒸镀材料被分成了多份且分别进行加热,热量在每部分蒸镀材料内传导的速度大于在整份蒸镀材料内传导的速度,利于每部分蒸镀材料内外均匀受热,改善了蒸镀材料受热不均的问题,进而改善了部分过热的蒸镀材料产生变性、以及易造成坩埚开孔堵塞和降低蒸镀材料使用率的问题。
为对第二锅体12内的蒸镀材料进行加热,一种具体实施方式中,本实施例提供的坩埚还包括设置于每个第二锅体12的外部的加热装置。
为利于对第二锅体12的受热温度进行控制,且提高第二锅体12的受热均匀性,一种优选方式中,参见图2和图3所示,加热装置包括设置于每个第二锅体12外侧的电热套20,具体地,电热套20上设有4个容置孔21,每个容置孔21与一个第二锅体12对应设置,并分别套接在对应的第二锅体12外侧;电热套20的温度控制精度较高,且加热面积较大,有利于提高对第二锅体12的加热温度的控制精度,且可提高第二锅体12的受热均匀度。
除上述采用电热套20对第二锅体12进行加热的方式之外,也可采用电热丝对每个第二锅体12进行加热,则另一种实现方式中,加热装置包括设置于每个第二锅体12外侧的电热丝。
在对坩埚本体10内的蒸镀材料进行加热后,为提高蒸镀材料的降温速度,本实施例提供的坩埚还包括设置于每个第二锅体12外部的制冷装置,制冷装置可加速第二锅体12内的蒸镀材料的冷却速率,以便于提高蒸镀材料更换和设备维护的效率。
具体实施中,制冷装置可采用冷媒管路实现,则一种具体实施方式中,制冷装置包括缠绕于每个第二锅体12外部的冷媒管路,冷媒管路具体可采用注有制冷剂的铜管实现。
为增加坩埚的蒸发角度,且便于使蒸镀材料受热形成的蒸镀气体混合均匀,沿第一锅体11的底面112到开口111的方向,第一锅体11的与底面112平行的方向的截面的面积逐渐增大。一种优选实施方式中,参见图1所示,第一锅体11为圆台状结构,且第一锅体11的开口111所在一端的直径大于第一锅体11的底面112所在一端的直径,圆台状结构的第一锅体11有利于蒸镀气体混合均匀,提高蒸镀气体由坩埚逸出的均匀度,并可提高坩埚的蒸镀角度,改善坩埚因蒸镀角度过小而造成的阴影效应。
为进一步提高蒸镀气体由坩埚逸出的均匀度,参见图2和图3所示,坩埚本体10还具有盖合第一锅体11的开口111的盖板30,盖板30上设有多个蒸镀孔31,蒸镀气体由蒸镀孔31中逸出坩埚,可进一步提高其均匀度,从而提高了蒸镀气体在基板上形成的膜层的均匀度。具体地,参见图2和图3所示,多个蒸镀孔31在盖板30上阵列分布,可使多个蒸镀孔31在盖板30上分布均匀,进一步提高蒸镀气体逸出时的均匀度。
本实施例提供的坩埚中,坩埚本体10包括四个第二锅体12。由于在第二锅体12的体积减小时,会提高其内部的蒸镀材料的加热效率,但也会减少每个第二锅体12对蒸镀材料的容置量,因此,具体实施中,可根据蒸镀材料的数量和加热速率需求,将第二锅体12设置为其他数量,例如,坩埚本体10可包括1个、2个、3个、5个、6个第二锅体12。
显然,本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种坩埚,其特征在于,包括坩埚本体,其中:
所述坩埚本体包括第一锅体和多个第二锅体,每个第二锅体的体积小于所述第一锅体;所述第一锅体具有开口和与所述开口相对的底面,每个第二锅体的一端与所述第一锅体的底面连接,且每个第二锅体的内部与所述第一锅体内部连通。
2.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,还包括设置于每个第二锅体的外部的加热装置。
3.根据权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热套。
4.根据权利要求2所述的坩埚,其特征在于,所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热丝。
5.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,还包括设置于每个第二锅体外部的制冷装置。
6.根据权利要求5所述的坩埚,其特征在于,所述制冷装置包括设置于每个第二锅体外部的冷媒管路。
7.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,沿所述第一锅体的底面到开口的方向,所述第一锅体的与所述底面平行的截面的面积逐渐增大。
8.根据权利要求7所述的坩埚,其特征在于,所述第一锅体为圆台状结构,且所述第一锅体的开口所在一端的直径大于所述第一锅体的底面所在一端的直径。
9.根据权利要求1所述的坩埚,其特征在于,所述坩埚本体还具有盖合所述第一锅体的开口的盖板,所述盖板上设有多个蒸镀孔。
10.根据权利要求9所述的坩埚,其特征在于,所述多个蒸镀孔在所述盖板上阵列分布。
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