JP4739773B2 - 蒸着用るつぼ - Google Patents
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Description
電子銃加熱を使用した真空蒸着、および。イオンプレーティング法用のるつぼ。
プラズマ加熱を使用した真空蒸着、および。イオンプレーティング法用のるつぼなどへの応用が考えられる。また、その他に、例えば、写真用レンズのコーティング膜成膜装置など、成膜装置一般への応用も考えられる。
2…底面
2a…内面
3…側面
4…溝
10…真空槽
10a…出入口
10b…真空ポンプ
11…基材
12…反射鏡
20…アルミニウム
Claims (1)
- 真空蒸着法若しくはイオンプレーティング法で使用される蒸着用るつぼであり、該蒸着用るつぼの底面の内面には、この蒸着用るつぼで溶融されている部材が1箇所に溜まるのを阻止するために、前記蒸着用るつぼの側面の形状にほぼ相似する形状とされた複数の溝が形成され、前記蒸着用るつぼの側面と前記複数の溝及び前記複数の溝同士がほぼ平行な間隔を有するようにされていることを特徴とする蒸着用るつぼ。
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JP2005040696A JP4739773B2 (ja) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 蒸着用るつぼ |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005040696A JP4739773B2 (ja) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 蒸着用るつぼ |
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JP4739773B2 true JP4739773B2 (ja) | 2011-08-03 |
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Family Applications (1)
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- 2005-02-17 JP JP2005040696A patent/JP4739773B2/ja not_active Expired - Fee Related
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