CN206359242U - 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 - Google Patents
一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN206359242U CN206359242U CN201621280824.XU CN201621280824U CN206359242U CN 206359242 U CN206359242 U CN 206359242U CN 201621280824 U CN201621280824 U CN 201621280824U CN 206359242 U CN206359242 U CN 206359242U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sulfuric acid
- stirred autoclave
- condenser
- accumulator tank
- filter press
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn - After Issue
Links
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims abstract description 19
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 11
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 title claims abstract description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 239000002893 slag Substances 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 229910003818 SiH2Cl2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910003822 SiHCl3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- -1 stirs Mix reactor 1 Chemical class 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- HICCMIMHFYBSJX-UHFFFAOYSA-N [SiH4].[Cl] Chemical compound [SiH4].[Cl] HICCMIMHFYBSJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N [Si].[Cl] Chemical compound [Si].[Cl] POFAUXBEMGMSAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001596 poly (chlorostyrenes) Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 235000013599 spices Nutrition 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/36—Hydrogen production from non-carbon containing sources, e.g. by water electrolysis
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置,属于多晶硅残液处理领域;本实用新型所述装置包括搅拌反应釜、渣浆泵、压滤机、酸泵、硫酸滤液回收槽、冷凝器、高压分离器,搅拌反应釜的上端与氯硅烷残液储存装置连通,下端通过渣浆泵与压滤机连通,压滤机与硫酸滤液回收槽连通,硫酸滤液回收槽的下端通过酸泵与搅拌反应釜连通;硫酸滤液回收槽、搅拌反应釜的上端均与冷凝器连通,冷凝器的下端与搅拌反应釜连通,冷凝器与高压分离器连通,搅拌反应釜中装有硫酸溶液。本实用新型所述装置简单合理,能够解决氯硅烷残液的资源化利用问题,高效回收氯化氢。
Description
技术领域
本实用新型公开了一种利用氯硅烷残液制气相取氯化氢的方法,属于多晶硅残液处理领域。
背景技术
改良西门子法是当今国内生产多晶硅主流工艺,在改良西门子法生产多晶硅过程中三氯氢硅合成、三氯氢硅的精馏提纯、三氯氢硅还原和冷(热)氢化工序都会有氯硅烷残液产生。主要成分:聚氯硅烷、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2、HCl、少量的硅粉和金属氯化物。目前国内大部分多晶硅厂氯硅烷残液的处理是以残液与氮气混合后,进入吸收塔被碱液吸收,最终得到硅酸钠与氯化钠混合溶液,分离难度大、分离纯度低,产品使用范围窄,造成氯硅烷残液的资源浪费,甚至造成了对环境的氯污染。
氯化氢是现代工业生产中应用很广的一类化学品,作为溶液酸碱度的调节剂,在染料、香料、药物等领域作为原料,能进行有机合成催化剂、溶剂、腐蚀剂等作用。现代氯碱工业对氯化氢的生产大多是以副产品的身份产出的,而副产品中含杂质种类多、杂质量大,需经过大量提纯分离得到满足工业生产的氯化氢产品。
氯硅烷残液水解时参与反应的主要是SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2三种物质,主要生成二氧化硅、氯化氢气体、氢气三种物质。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置,包括搅拌反应釜1、渣浆泵2、压滤机3、酸泵4、硫酸滤液回收槽5、冷凝器6、高压分离器7,搅拌反应釜1的上端与氯硅烷残液储存装置连通,下端通过渣浆泵2与压滤机3连通,压滤机3与硫酸滤液回收槽5连通,硫酸滤液回收槽5的下端通过酸泵4与搅拌反应釜1连通;硫酸滤液回收槽5、搅拌反应釜1的上端均与冷凝器6连通,冷凝器6的下端与搅拌反应釜1连通,冷凝器6与高压分离器7连通,搅拌反应釜1中装有硫酸溶液。
本实用新型的使用过程:将氯硅烷残液缓慢滴加到装有硫酸溶液的搅拌反应釜1中,不断搅拌使反应物混合均匀;随着氯硅烷残液的不断加入,反应釜中产生的气体(主要成分是氯化氢气体、氢气、气相氯硅烷残液)进入冷凝器6中,冷凝出的液相物质回到搅拌反应釜1中,气相物质进入高压分离器7中,对分离出的液相物质与气相物质分别进行回收,液化的氯化氢在常温常压下变成气相的氯化氢;水解反应生成的二氧化硅胶体因密度小于硫酸而上浮,通过渣浆泵2将搅拌反应釜上部的渣浆抽到压滤机3进行压滤,滤液进入硫酸滤液回收槽5中工业补水调整硫酸滤液的浓度后经过酸泵4后回到搅拌反应釜1中。
本实用新型的有益效果:
(1)本实用新型所述装置产生的氯化氢以气体形式溢出纯度高达94%-97%,经过分离提纯后获得的气体回收率在85%以上,连续水解时氯化氢始终会以气体的形式溢出,能够高效收集高质量的氯化氢气体。
(2)本实用新型所述装置简单易行、收集到的H2和HCl可直接返回多晶硅生产系统,达到氯硅烷残液资源化利用与零排放的目的。
附图说明
图1是本实用新型的系统结构示意图。
图1中:1-搅拌反应釜;2-渣浆泵;3-压滤机;4-酸泵;5-硫酸滤液回收槽;6-冷凝器;7-高压分离器。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步详细说明,但本实用新型的保护范围并不限于所述内容。
实施例1
本实施例所述一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置,包括搅拌反应釜1、渣浆泵2、压滤机3、酸泵4、硫酸滤液回收槽5、冷凝器6、高压分离器7,搅拌反应釜1的上端与氯硅烷残液储存装置连通,下端通过渣浆泵2与压滤机3连通,压滤机3与硫酸滤液回收槽5连通,硫酸滤液回收槽5的下端通过酸泵4与搅拌反应釜1连通;硫酸滤液回收槽5、搅拌反应釜1的上端均与冷凝器6连通,冷凝器6的下端与搅拌反应釜1连通,冷凝器6与高压分离器7连通,搅拌反应釜1中装有硫酸溶液,如图1所示。
本实施所述装置的使用过程具体包括以下步骤:利用工业浓硫酸配制20%的硫酸1000g置于搅拌反应釜1中,缓慢滴加3200g氯硅烷残液(主要成分质量百分比是93%的SiCl4、4.8%的SiHCl3、2.1%的SiH2Cl2、0.1%其他杂质)并不断搅拌,反应生成的混合气体进入冷凝器6中,调节冷凝器的温度在-15℃,冷凝液态并返回到搅拌反应釜1中继续水解,气相物质进入高压分离器7中,调节分离器的压强在2.4Mpa,利用真空耐酸瓶收集高压分离器分离出的液态物质,同时利用氢气存储器收集分离出来的氢气,收集完毕后称量耐酸瓶增重2501.3g,计算可知氯化氢回收率为86.6%,经气体纯度测定仪检测其纯度为95.4%。通过渣浆泵2将搅拌反应釜上部的渣浆抽到压滤机3进行压滤,滤液进入硫酸滤液回收槽5中,向硫酸滤液回收槽5中补充工业水调整硫酸浓度在20%-60%之间,经过酸泵4后回到搅拌反应釜1中,进行后续的水解反应。
Claims (1)
1.一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置,其特征在于:包括搅拌反应釜(1)、渣浆泵(2)、压滤机(3)、酸泵(4)、硫酸滤液回收槽(5)、冷凝器(6)、高压分离器(7),搅拌反应釜(1)的上端与氯硅烷残液储存装置连通,下端通过渣浆泵(2)与压滤机(3)连通,压滤机(3)与硫酸滤液回收槽(5)连通,硫酸滤液回收槽(5)的下端通过酸泵(4)与搅拌反应釜(1)连通;硫酸滤液回收槽(5)、搅拌反应釜(1)的上端均与冷凝器(6)连通,冷凝器(6)的下端与搅拌反应釜(1)连通,冷凝器(6)与高压分离器(7)连通,搅拌反应釜(1)中装有硫酸溶液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201621280824.XU CN206359242U (zh) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201621280824.XU CN206359242U (zh) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN206359242U true CN206359242U (zh) | 2017-07-28 |
Family
ID=59372275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201621280824.XU Withdrawn - After Issue CN206359242U (zh) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN206359242U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106629604A (zh) * | 2016-11-28 | 2017-05-10 | 昆明理工大学 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的方法 |
-
2016
- 2016-11-28 CN CN201621280824.XU patent/CN206359242U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106629604A (zh) * | 2016-11-28 | 2017-05-10 | 昆明理工大学 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的方法 |
CN106629604B (zh) * | 2016-11-28 | 2019-07-16 | 昆明理工大学 | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101144125B (zh) | 制备单质高纯砷产业化生产的方法 | |
CN113247908B (zh) | 多晶硅生产中氯硅烷的分离方法以及分离装置 | |
CN104909400A (zh) | 氯硅烷渣浆残液的处理系统及处理方法 | |
CN110963494B (zh) | 一种制备硅烷的系统和方法 | |
CN106629604B (zh) | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的方法 | |
CN105036141A (zh) | 一种氯硅烷废气生产纳米二氧化硅并副产盐酸的方法 | |
CN217340094U (zh) | 一种制备无水氟化氢联产氢氟酸与氟化氢的生产装置 | |
CN206359242U (zh) | 一种利用氯硅烷残液制取气相氯化氢的装置 | |
CN106698441A (zh) | 一种多晶硅生产中的残液及渣浆的处理方法 | |
CN101734667B (zh) | 四氯化硅生产沉淀白炭黑的工艺 | |
CN104909489B (zh) | 一种三氯异氰尿酸生产工艺污水处理方法 | |
CN112010313A (zh) | 一种多晶硅副产物渣料处理工艺及系统 | |
CN105315139B (zh) | 一种酮肟型硅烷副产物酮肟盐的处理方法 | |
CN106006557B (zh) | 一种氯硅烷残液生产氯化氢气体的方法 | |
CN115487522B (zh) | 氟化氢提纯系统及工艺 | |
CN114085381B (zh) | 气相二甲基二氯硅烷水解工艺 | |
CN205472661U (zh) | 一种资源化回收利用硅芯腐蚀废液的装置 | |
JP2011178586A (ja) | 多結晶シリコンの精製方法 | |
CN103641793A (zh) | Ae活性酯残液的处理方法 | |
CN104649320B (zh) | 自粗四氯化钛铝粉除钒渣中制备碱金属钒酸盐的方法 | |
CN105314638A (zh) | 三氯氢硅合成料中四氯化硅回收利用及除高沸物的方法和装置 | |
CN113087735A (zh) | 一种氯硅烷渣浆液回收再利用的方法及其生产系统 | |
CN220213970U (zh) | 回收高纯六氯乙硅烷的系统 | |
CN105036137B (zh) | 以二氯二氢硅为原料歧化制备硅烷的方法 | |
CN105439151A (zh) | 一种多晶硅生产中的尾气中的氯硅烷的回收方法和装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
AV01 | Patent right actively abandoned | ||
AV01 | Patent right actively abandoned | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20170728 Effective date of abandoning: 20190716 |
|
AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20170728 Effective date of abandoning: 20190716 |