CN206348589U - 一种光刻胶供应装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种光刻胶供应装置，包括用于存储光刻胶的光刻胶桶；用于暂存光刻胶的暂存容器；以及连通光刻胶桶和所述暂存容器的导流管，供应装置还包括：承载盘，承载盘包括底盘和侧壁，底盘的边缘嵌于侧壁底部的内侧并可相对于侧壁滑动；承载盘内承载光刻胶桶，且承载盘与光刻胶桶光滑接触；重量感应器，重量感应器与底盘连接并侦测光刻胶桶的重量；控制装置，控制装置包括控制器和马达，控制器与重量感应器连接并接收重量感应器的信息以控制马达动作，马达与底盘连接并带动底盘转动。本实用新型的供应装置提高光刻胶的利用率，减少了排泡时的损失，降低成本，减少了排出的光刻胶废液，从而减轻了对环境的污染。

Description

一种光刻胶供应装置

技术领域

本实用新型涉及光刻制造工艺中的设备技术领域，特别是涉及一种光刻胶供应装置。

背景技术

现有的晶圆加工行业中黄光使用机台大部分为ACT8track机台，在光刻胶使用上是在机台发生报警提示光刻胶已使用完，制造人员直接进行更换。但在实际操作过程中，光刻胶桶底部的光刻胶将有残余，在光刻胶无法完全利用的状态下更换胶桶，造成光刻胶的浪费。而光刻胶属于高成本物料，无法利用的光刻胶在一定程度上增加了生产成本，降低了光刻胶的利用率，同时残留的光刻胶也会造成环境的污染。

特别地，当光刻胶桶内的光刻胶稀少的情况下，会造成大量气泡进入管路，而空气残留于光刻胶中会影响光刻工艺，例如可能造成光刻胶涂覆不均匀，而使得最终形成的器件图形扭曲，造成一定的损失。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光刻胶供应装置，用于解决现有技术光刻胶的使用中利用率低、浪费严重、污染环境且影响光刻产品质量的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种光刻胶供应装置，包括：用于存储光刻胶的光刻胶桶；用于暂存光刻胶的暂存容器；以及连通所述光刻胶桶和所述暂存容器的导流管，所述供应装置还包括：承载盘，所述承载盘包括底盘和侧壁，所述底盘的边缘嵌于所述侧壁底部的内侧并可相对于所述侧壁滑动；所述承载盘内承载所述光刻胶桶，且所述承载盘与所述光刻胶桶光滑接触；重量感应器，所述重量感应器与所述底盘连接并侦测所述光刻胶桶的重量；控制装置，所述控制装置包括控制器和马达，所述控制器与所述重量感应器连接并接收所述重量感应器的信息以控制所述马达动作，所述马达与所述底盘连接并带动所述底盘转动。

于本实用新型的一实施方式中，所述侧壁底部的内侧设有一圈环形导轨，所述底盘的边缘设有多个滑块，所述滑块位于所述环形导轨内并可在环形导轨内滑动。

于本实用新型的一实施方式中，所述马达通过联轴器与所述底盘轴连接。

于本实用新型的一实施方式中，还包括L形结构的安装支架，所述安装支架的上端固定于所述侧壁的外侧，所述安装支架的下端固定安装所述马达。

于本实用新型的一实施方式中，所述承载盘及所述光刻胶桶均与水平面呈一倾角，所述倾角的范围为45°～60°。

于本实用新型的一实施方式中，还包括多个侦测感应器，所述侦测感应器由上至下设置于所述暂存容器内的不同位置，适于侦测所述暂存容器内光刻胶的液位。

于本实用新型的一实施方式中，所述侦测感应器设置有三个，分别为高液位侦测感应器、中液位侦测感应器和低液位侦测感应器。

于本实用新型的一实施方式中，所述高液位侦测感应器与所述暂存容器的顶部之间设有间距，适于在所述暂存容器内的光刻胶即将用完时预留气泡空间。

于本实用新型的一实施方式中，所述高液位侦测感应器与所述重量感应器连接，适于在所述暂存容器内的光刻胶液位低于所述高液位侦测感应器时触发所述重量感应器启动。

于本实用新型的一实施方式中，所述暂存容器顶部还设有排气管，适于排除在光刻胶桶内光刻胶稀少的时候产生的气泡。

如上所述，本实用新型的光刻胶供应装置，具有以下有益效果：

1、通过可旋转的承载盘设计，使导流管与光刻胶桶全方位接触，充分吸走光刻胶，提高光刻胶的利用率，降低成本，减少污染。

2、通过对暂存容器的改良，提高了晶圆的光刻胶涂覆质量，同时减少了排泡时光刻胶的损失。

附图说明

图1为本实用新型光刻胶供应装置的结构示意图。

图2为本实用新型光刻胶供应装置的承载盘的结构示意图。

图3为本实用新型光刻胶供应装置的马达与底盘的连接示意图。

图4为现有技术中暂存容器的结构示意图。

图5为本实用新型光刻胶供应装置中暂存容器的结构示意图。

元件标号说明

1 光刻胶桶

2 暂存容器

3 导流管

4 承载盘

41 底盘

42 侧壁

43 滑块

44 固定轴

5 重量感应器

6 马达

7 联轴器

8 侦测感应器

81 高液位侦测感应器

82 中液位侦测感应器

83 低液位侦测感应器

9 气泡空间

10 排气管

11 涂布单元

12 安装支架

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1至图5。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

请参阅图1，本实用新型提供一种光刻胶供应装置，包括：用于存储光刻胶的光刻胶桶1；用于暂存光刻胶的暂存容器2；以及连通所述光刻胶桶1和所述暂存容器2的导流管3，所述供应装置还包括：承载盘4，所述承载盘4包括底盘41和侧壁42，所述底盘41的边缘嵌于所述侧壁42底部的内侧并可相对于所述侧壁42滑动；所述承载盘4内承载所述光刻胶桶1，且所述承载盘4与所述光刻胶桶1光滑接触；重量感应器5，所述重量感应器5与所述底盘41连接并侦测所述光刻胶桶1的重量；控制装置，所述控制装置包括控制器(未示出)和马达6，所述控制器与所述重量感应器5连接并接收所述重量感应器5的信息以控制所述马达6动作，所述马达6与所述底盘41连接并带动所述底盘41转动。

需要注意的是，光刻胶桶1内的光刻胶通过加入一定气压的氮气将光刻胶压入所述暂存容器2中的，当然，也可以使用泵进行抽取光刻胶至所述暂存容器2中。所述暂存容器2的光刻胶出口处连接涂布单元11，所述涂布单元11用于对晶圆进行光阻涂覆。

请参阅图2，为本实用新型光刻胶供应装置的承载盘4的结构示意图。所述侧壁42底部的内侧设有一圈环形导轨(未示出)，所述底盘41的边缘设有多个滑块43，所述滑块43位于所述环形导轨内并可在环形导轨内滑动。

请参阅图3，为本实用新型光刻胶供应装置的马达6与底盘41的连接示意图。作为示例，所述马达6通过联轴器7与所述底盘41轴连接。这里，所述底盘41下固定设有固定轴44，所述马达6的输出端通过所述联轴器7与所述底盘41下的固定轴44进行轴连接，这样，所述马达6转动就会带动所述底盘41一起转动，又由于所述承载盘4与所述光刻胶桶1光滑接触，所以，所述光刻胶桶1不会随底盘41转动，但是，所述光刻胶桶1内光刻胶的液位会随着所述底盘41的转动而不断变化，也即达到了所述导流管3与所述光刻胶桶1的底部全面接触。

需要注意的是，由于所述底盘41转动的目的只是为了让导流管3与不同液位的光刻胶接触，所以，马达6的转速不需要很快。

作为示例，所述光刻胶供应装置还包括L形结构的安装支架12，所述安装支架12的上端固定于所述承载盘4侧壁42的外侧，所述安装支架12的下端固定安装所述马达6，也即所述安装支架12用于支撑所述马达6。

作为示例，所述承载盘4及所述光刻胶桶1均与水平面呈一倾角，所述倾角的范围为45°～60°。所述承载盘4及所述光刻胶桶1均与水平面呈一倾角的目的是，在光刻胶剩余量不多的情况下使光刻胶聚集在光刻胶桶1底的最低处，便于收集和吸取光刻胶，减少浪费。

为了避免在桶内光刻胶稀少的情况下，造成大量气泡进入管路，本实用新型的光刻胶供应装置还对暂存容器2进行了改进，将现有技术中暂存容器2的上下两个侦测感应器8(如图4)，改为上中下三个侦测感应器8，将最上边侦测感应器8的位置适当下调，预留一部分气泡空间9。

具体请参阅图5，其为本实用新型光刻胶供应装置中暂存容器2的结构示意图。

作为示例，所述光刻胶供应装置还包括多个侦测感应器8，所述侦测感应器8由上至下设置于所述暂存容器2内的不同位置，适于侦测所述暂存容器2内光刻胶的液位，防止当光刻胶桶1中的光刻胶被抽空时光刻胶供应装置继续工作。

作为示例，所述侦测感应器8设置有三个，分别为高液位侦测感应器81、中液位侦测感应器82和低液位侦测感应器83。所述高液位侦测感应器81位于所述暂存容器2的光刻胶入口处，所述低液位侦测感应器83位于所述暂存容器2的光刻胶出口处，所述中液位侦测感应器82设置于所述暂存容器2的中部。

作为示例，所述高液位侦测感应器81与所述暂存容器2的顶部之间设有间距，适于在所述暂存容器2内的光刻胶即将用完时预留气泡空间9。

因为如果不预留气泡空间9，在光刻胶桶1内光刻胶越来越少直至导流管3吸取不到光刻胶时，就会有气泡进入导流管3中，进而影响后续涂布单元11的工艺制程，同时，在排放气泡时，残余的光刻胶也会随气体排出造成损失。

作为示例，所述高液位侦测感应器81与所述重量感应器5连接，适于在所述暂存容器2内的光刻胶液位低于所述高液位侦测感应器81时触发所述重量感应器5启动。

所述光刻胶供应装置的工作过程为：首先，设置光刻胶空桶时的重量作为设定标准值，当光刻胶液位达到所述高液位侦测感应器81时触发所述重量感应器5，所述重量感应器5对光刻胶桶1进行重量侦测，如果侦测结果≦设定标准值，说明光刻胶桶1内已经没有光刻胶，所述重量感应器5发送信号给所述控制器，所述控制器启动报警装置，提醒换桶；如果侦测结果＞设定标准值时，说明光刻胶桶1内还有残液没用使用完毕，且所述重量感应器5发送信号给所述控制器，所述控制器控制马达6旋转，通过马达6的旋转带动底盘41，使导流管3与光刻胶桶1有一个无死角接触，这样可以充分吸走光刻胶。

需要注意的是，当光刻胶液位达到所述中液位侦测感应器82时，机台暂时停止向涂布单元11传输晶圆；当光刻胶液位达到所述低液位侦测感应器83时，即所述低液位侦测感应器83侦测到气泡产生，机台报警，整体停止运作。

作为示例，所述暂存容器2顶部还设有排气管10，适于排除在光刻胶桶1内光刻胶稀少的时候产生的气泡。

综上所述，本实用新型的光刻胶供应装置，通过设计可旋转的承载盘，使导流管与光刻胶桶有一个无死角接触，这样可以充分吸走光刻胶，提高光刻胶的利用率，降低成本，减少了排出的光刻胶废液，从而减轻了对环境的污染；通过对暂存容器的侦测感应器的改良，提高了晶圆的光刻胶涂覆质量，同时减少了排泡时的损失。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种光刻胶供应装置，包括：用于存储光刻胶的光刻胶桶；用于暂存光刻胶的暂存容器；以及连通所述光刻胶桶和所述暂存容器的导流管，其特征在于，所述供应装置还包括：

承载盘，所述承载盘包括底盘和侧壁，所述底盘的边缘嵌于所述侧壁底部的内侧并可相对于所述侧壁滑动；所述承载盘内承载所述光刻胶桶，且所述承载盘与所述光刻胶桶光滑接触；

重量感应器，所述重量感应器与所述底盘连接并侦测所述光刻胶桶的重量；

控制装置，所述控制装置包括控制器和马达，所述控制器与所述重量感应器连接并接收所述重量感应器的信息以控制所述马达动作，所述马达与所述底盘连接并带动所述底盘转动。

2.根据权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述侧壁底部的内侧设有一圈环形导轨，所述底盘的边缘设有多个滑块，所述滑块位于所述环形导轨内并可在环形导轨内滑动。

3.根据权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述马达通过联轴器与所述底盘轴连接。

4.根据权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，还包括L形结构的安装支架，所述安装支架的上端固定于所述侧壁的外侧，所述安装支架的下端固定安装所述马达。

5.根据权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述承载盘及所述光刻胶桶均与水平面呈一倾角，所述倾角的范围为45°～60°。

6.根据权利要求1所述的光刻胶供应装置，其特征在于，还包括多个侦测感应器，所述侦测感应器由上至下设置于所述暂存容器内的不同位置，适于侦测所述暂存容器内光刻胶的液位。

7.根据权利要求6所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述侦测感应器设置有三个，分别为高液位侦测感应器、中液位侦测感应器和低液位侦测感应器。

8.根据权利要求7所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述高液位侦测感应器与所述暂存容器的顶部之间设有间距，适于在所述暂存容器内的光刻胶即将用完时预留气泡空间。

9.根据权利要求8所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述高液位侦测感应器与所述重量感应器连接，适于在所述暂存容器内的光刻胶液位低于所述高液位侦测感应器时触发所述重量感应器启动。

10.根据权利要求6-9任一项所述的光刻胶供应装置，其特征在于，所述暂存容器顶部还设有排气管，适于排除在光刻胶桶内光刻胶稀少的时候产生的气泡。