CN205988739U - 一种均匀搅拌的反应釜 - Google Patents

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陈阿胖
陈江
沈德虎
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Zhejiang Donghai New Material Technology Co.,Ltd.
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SHANGYU CITY DONGHAI CHEMICAL INDUSTRIES Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种均匀搅拌的反应釜，包括釜体，所述釜体顶部设置有电机，所述电机连接有搅拌轴，所述搅拌轴上设置有轴向滑槽，所述搅拌轴上设置有铁质滑动块，所述滑动块上设置有与所述滑槽匹配的凸块，所述滑动块外侧设置有叶片，所述搅拌轴底部设置有凸环，所述凸环与所述滑动块之间设置有复位弹簧，所述釜体底部设置有电磁铁。采用该结构反应釜使得叶片的高度能够通过电磁铁对滑动块的吸引力的改变而改变，从而使得叶片能够在需要的位置进行搅拌，并且能够保证叶片完全浸入到原料中。

Description

一种均匀搅拌的反应釜
技术领域
本实用新型属于反应釜技术领域，具体是一种均匀搅拌的反应釜。
背景技术
反应釜是化工领域常用的设备，在化工产品生产制备的过程中，一般在反应釜内按比例放入化学原料进行反应，从而制备出化工产品。一般的反应釜都采用螺旋桨式的搅拌器，通过电机驱动搅拌器进行搅拌，现有的搅拌器的搅拌叶片较多，搅拌器的长度也较长，在反应釜内化工原料没有装满的情况下，搅拌器也会整个转动，在转动的过程中未浸入化工原料处的搅拌器反而会沉积化工原料，从而导致化工原料的配比准确性变低。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术不足，提供一种均匀搅拌的反应釜，该种反应釜能够采用可在转动轴上上下滑动的叶片，减少叶片数量，缩短具有搅拌叶片的纵向长度，从而使得叶片能够完整的浸入到化学原理中，防止叶片上的搁料影响配比精确性。
为了解决上述技术问题，本实用新型通过下述技术方案得以解决：一种均匀搅拌的反应釜，包括釜体，所述釜体顶部设置有电机，所述电机连接有搅拌轴，所述搅拌轴上设置有轴向滑槽，所述搅拌轴上设置有铁质滑动块，所述滑动块上设置有与所述滑槽匹配的凸块，所述滑动块外侧设置有叶片，所述搅拌轴底部设置有凸环，所述凸环与所述滑动块之间设置有复位弹簧，所述釜体底部设置有电磁铁。采用该结构反应釜使得叶片的高度能够通过电磁铁对滑动块的吸引力的改变而改变，从而使得叶片能够在需要的位置进行搅拌，并且能够保证叶片完全浸入到原料中。
上述技术方案中，优选的，所述搅拌轴、所述滑动块与所述叶片外侧均设置有聚四氟乙烯层。设置聚四氟乙烯层增加所述搅拌轴、所述滑动块与所述叶片的化学稳定性，防止与化工原料反应。
上述技术方案中，优选的，所述釜体内设置有液位传感器。设置液位传感器使得釜体内的液位能够通过液位传感器检测，并能够通过控制装置来调节电磁铁的通电量大小，进而保证滑动块位于原料液面下方。
本实用新型与现有技术相比，具有如下有益效果：采用该结构反应釜使得叶片的高度能够通过电磁铁对滑动块的吸引力的改变而改变，从而使得叶片能够在需要的位置进行搅拌，并且能够保证叶片完全浸入到原料中。
附图说明
图1为本实用新型实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述：参见图1，一种均匀搅拌的反应釜，包括釜体1，所述釜体1顶部设置有电机2，所述电机2连接有搅拌轴3，所述搅拌轴3上设置有轴向滑槽31，所述搅拌轴3上设置有铁质滑动块4，所述滑动块4上设置有与所述滑槽31匹配的凸块41，所述滑动块4外侧设置有叶片42，所述搅拌轴3底部设置有凸环32，所述凸环32与所述滑动块4之间设置有复位弹簧5，所述釜体1底部设置有电磁铁6。采用该结构反应釜使得叶片的高度能够通过电磁铁对滑动块的吸引力的改变而改变，从而使得叶片能够在需要的位置进行搅拌，并且能够保证叶片完全浸入到原料中。
所述搅拌轴3、所述滑动块4与所述叶片42外侧均设置有聚四氟乙烯层。设置聚四氟乙烯层增加所述搅拌轴、所述滑动块与所述叶片的化学稳定性，防止与化工原料反应。
所述釜体1内设置有液位传感器7。设置液位传感器使得釜体内的液位能够通过液位传感器检测，并能够通过控制装置来调节电磁铁的通电量大小，进而保证滑动块位于原料液面下方。

Claims (3)

1.一种均匀搅拌的反应釜，包括釜体（1），所述釜体（1）顶部设置有电机（2），其特征在于：所述电机（2）连接有搅拌轴（3），所述搅拌轴（3）上设置有轴向滑槽（31），所述搅拌轴（3）上设置有铁质滑动块（4），所述滑动块（4）上设置有与所述滑槽（31）匹配的凸块（41），所述滑动块（4）外侧设置有叶片（42），所述搅拌轴（3）底部设置有凸环（32），所述凸环（32）与所述滑动块（4）之间设置有复位弹簧（5），所述釜体（1）底部设置有电磁铁（6）。
2.如权利要求1所述的一种均匀搅拌的反应釜，其特征在于：所述搅拌轴（3）、所述滑动块（4）与所述叶片（42）外侧均设置有聚四氟乙烯层。
3.如权利要求1所述的一种均匀搅拌的反应釜，其特征在于：所述釜体（1）内设置有液位传感器（7）。
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