CN205473969U - 具有磁控管部件的带状基材涂覆设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种具有磁控管部件的带状基材涂覆设备,该带状基材涂覆设备具有由室壁构成的真空室及设于该真空室内的带状基材的表面处理装置,该带状基材涂覆设备包括具有圆柱形侧表面的加工热处理辊和用于输送带状基材经过该侧表面的输送装置,其中该侧表面的至少一部分周长被加工室包围,该加工室具有一排由分隔壁件界定的隔室,在至少其中一个所述隔室内设有至少一个涂覆机构,其中,所述隔室的尺寸、数量和排布是可变的,从而每个所述分隔壁件能被安置在该加工室内的多个预定位置中的一个预定位置上。
Description
技术领域
本实用新型涉及带状基材涂覆设备,具有由室壁构成的真空室以及设于真空室内的带状基材的表面处理装置,所述表面处理装置包括具有圆柱形侧表面的加工热处理辊,其中,该侧表面的至少一部分周长被加工室包围,该加工室具有由分隔壁元件界定的隔室布置,其中在至少一个所述隔室内设有至少一个涂覆机构,并且它还包括用于输送带状基材经过该侧表面的输送装置。
背景技术
具有用于表面处理尤其是涂覆带状基材如金属带或塑料带/薄膜条带的已知带状基材涂覆设备包括由室壁构成的可抽真空的真空室、设于真空室内的具有圆柱形侧表面的且用于绕侧表面的一部分周长热处理引导带状基材的加工热处理辊以及分散在该侧表面的部分周长上的可借助真空泵被抽真空的成排隔室。
待处理的带状基材从退卷借助输送装置沿加工热处理辊的侧表面且沿设于可抽真空的隔室内的涂覆机构被送至收卷。收卷和退卷在此或是可以分别设置在一个自身的可抽真空的卷绕机室内,但或是也可以设置在该真空室内。带状基材在退卷和收卷之间被尤其包括转向辊、带张力测量辊的输送装置引导,以便带状基材无折叠和皱褶地沿加工热处理辊侧表面被引导。还知道了该带状基材输送装置在退卷和收卷之间掉转,以便例如在从收卷到退卷的输送路程中再一次处理该带状基材,尤其是再一次涂覆。
借助加工热处理辊,一方面,带状基材本身和沉积在带状基材上的涂覆材料被冷却,因而被保护以免过热,另一方面,带状基材可以借助加工热处理辊被加热,以实现规定的基材处理。该加工热处理辊借助设于真空室外的驱动装置可绕其中心轴线转动地构成。
关于隔室布置在加工热处理辊侧表面的部分周长上,知道了各种实施方式。
WO2014/060468A1公开了一种带状基材涂覆设备,其包括加工热处理辊,其中,加工热处理辊侧表面的至少一部分周长被加工室包围,加工室具有成排的隔室。隔室尺寸总是相同且如此设定尺寸,即,表面处理装置且尤其是呈双管磁控管形式的涂覆机构可以设置在由壁件构成的隔室内部。所述壁件例如以接触的金属板形式构成,从而从真空室到隔室的体积流被减小到最低程度。在具有水平取向的转轴的加工热处理辊中,隔室连同设于其中的涂覆机构相互间隔地布置在2点钟位置、4点钟位置、6点钟位置、8点钟位置和10点钟位置上,在这里,类似于表盘,6点钟位置对应于加工热处理辊周长的最低点。另外,这些隔室与分别设于隔室中的涂覆机构一起可作为两个相互分开的分组件经过真空室室壁的可真空密封关闭的开口从该真空室被取出且又被装入其中。每个隔室内部可通过分别设于真空室外的真空泵被抽真空。
因此,在这种已知的带状基材涂覆设备内,在结构上预定确定所述隔室的尺寸、数量和布置。在每个隔室中例如可以分别设有双管磁控管、单管磁控管、平面磁控管、具有蒸气分布管的热蒸发器、离子源或其它涂覆源。
这种结构的缺点是,每个隔室的尺寸是根据双管磁控管尺寸而设计且在结构上被预先固定下来。换言之,如此设定每个隔室的尺寸,在隔室中可以设置一个双管磁控管,在这里,隔室内部体积尽量小,以尽量缩小待抽真空体积。如果隔室为了不同的涂覆任务,例如为了沉积另一层系在带状基材上而配备有其它的涂覆机构如单管磁控管,则它可以小于双管磁控管。通过这种方式,真正围绕侧表面可提供用于带状基材涂覆的部分周长并未被充分利用起来。虽然两个单管磁控管可以布置在一个隔室内,但这只能在所述加工过程对两个单管磁控管要求相同工作气体的情况下才行。
还不利的是,所述隔室的数量和位置在结构上被预先确定。如果要在带状基材上沉积包含多于隔室数量的大量材料的层系,或者要增大待沉积的层厚,则这无法顺利地利用已知的带状基材涂覆设备实现。相反,必须使用具备更多隔室的其它带状基材涂覆设备来沉积该层系。
不同于该带状基材涂覆设备,知道了其它的带状基材涂覆设备,在这里,所述隔室位置固定地设置在真空室内,仅该涂覆机构从真空室室壁的可真空密封关闭的开口被取出。在此表面处理装置中,所述隔室的尺寸、数量和布置在结构上被固定预定。在带状基材的输送装置中可以规定,在所述隔室之间分别设有气体分离装置。通过位置固定地布置所述隔室,也可以在结构上固定预定气体分离装置的尺寸、数量和布置。
在US4204942A中,用于带材输送的冷辊被分别通过空隙与被良好抽真空的真空室隔离开多个涂覆单元包围。
US4692233A公开一种用于带状基材的涂覆设备,其中带状基材借助输送装置沿涂覆辊被引导且带状基材表面被处理。在此,沿涂覆辊的圆柱形侧表面设有多个加工室(隔室),它们借助设置在固定位置上的分隔壁件被相互分开。
实用新型内容
因此,本实用新型的任务是提出一种带状基材涂覆设备,在此,该隔室的数量、尺寸和布置是可变的,此时可以沉积较大的层厚并且就沉积于带状基材上的层系而言的灵活性得以提高。
该任务将通过带状基材涂覆设备来完成。在具有由室壁构成的真空室以及设置在真空室内且包括具有圆柱形侧表面的加工热处理辊的带状基材表面处理装置和用于输送带状基材经过该侧表面的输送装置的带状基材涂覆设备中,其中该侧表面的至少一部分周长被加工室包围,该加工室具有由分隔壁件界定的成排的隔室,并且在至少一个隔室内设有至少一个涂覆机构,在此提出,所述隔室的尺寸、数量和排列是如此可变的,即每个分隔壁件可安置在该加工室内的多个预定位置中的一个位置上。
所提出的解决方案容许针对带状基材涂覆设备第一次将围绕加工热处理辊的局部区域延伸的加工区域根据需要划分为较多或较少的可分别是大小不同的且可具有不同功能的隔室,从而同一台涂覆设备可以快速简单地适应于用于在带状基材上制造不同层系的不同加工过程。
为此也不再需要至少更换所谓的隔室组件。相反,尽量不太费事地将具有期望构型的成排分隔壁件插入或推入,由此产生具有任意尺寸的不同功能性隔室的任何布置。功能性隔室例如可以是用于基材的涂覆、蚀刻、等离子体处理、加热、冷却等等的隔室。
能够将加工室分为多个隔室的这些分隔壁件例如可以是平面金属板,其与加工热处理辊相关地在径向和轴向上即平行于其纵轴延伸。每个这样的分隔壁件形成两个相互邻接的隔室之间的分界。根据本实用新型,每个这样的分隔壁件可安装在不同的位置上,从而可通过最简单的方式改变隔室之间边界的位置。
本实用新型的基本构想在于,带状基材涂覆设备就隔室的尺寸、数量和排列而言的灵活性被提高。不同于现有的带状基材涂覆设备,由隔室的尺寸、数量和排列构成的这种配置是可自由选择的。
尤其有利的是,分隔壁件的位置也可以在带状基材涂覆设备制造之后被改变。例如这些分隔壁件可以如此安装在预定位置上,即,相同的涂覆机构如具有相同靶材的溅射涂覆机构被集中在一个隔室内。因此,可以如此选择这样大小的隔室,例如多于一个的双管磁控管可作为涂覆机构安装在该隔室内。
通过分隔壁件的该自由配置,加工室可最佳匹配于当时存在的涂覆任务。
另外,围绕侧表面的部分周长的最大可提供的加工室尺寸尽可能被最佳利用,从而总体上可以在带状基材上沉积比在具有相似的加工辊直径的现有带状基材涂覆设备中时更大的层厚。
根据一个实施方式而规定,成排隔室具有至少一个涂覆隔室,涂覆机构设于涂覆隔室内,其中,该涂覆隔室分别由两个分隔壁件、两个端壁件和一个外壁件和朝向加工热处理辊的一个隔板界定。
涂覆隔室是相对于环境基本封闭的空间,在其中设有涂覆机构例如具有圆柱形回转的或固定不动的平面(扁平)靶或类似物的单磁控管或双磁控管,所述靶提供雾化的(蒸气状)涂覆材料且将其交付给被引导经过加工热处理辊侧表面的带状基材。换言之,涂覆隔室仅以小的距离布置在加工热处理辊侧表面上方且朝向其敞开,以便涂覆材料的蒸气状粒子能到达带状基材。
根据以上的实施方式,这两个分隔壁件被补充两个端壁件,它们与加工热处理辊相关地沿径向且垂直于其纵轴即横向于其纵轴延伸。另外,这些端壁件可以具有多个缺口或开口,其提供安装在该隔室外的涂覆机构如具有回转的管状靶的磁控管所需要的地方。
这些分隔壁件与端壁件一起形成框架,其壁(分隔壁件和端壁件)沿加工热处理辊的径向延伸。该框架在背对加工热处理辊的一侧通过外壁件被封闭。由此形成一个槽,它朝向加工热处理辊敞开。所述涂覆机构设于该槽中。
为了界定由涂覆机构输出的蒸气状涂覆材料在此被交付给被引导经过加工热处理辊侧表面的带状基材的区域,在该槽的朝向加工热处理辊的一侧还设有隔板。该隔板本身可以由多个零件组成,就像以下参照实施例还将详述的那样。
该实施方式对于阻止给真空室内部伴生涂覆上涂覆材料是有利的。在此,这些分隔壁件在周向上即在加工热处理辊侧表面的周向上界定该涂覆隔室。该端壁件在加工热处理辊的纵轴方向上界定该涂覆隔室。该外壁件在加工热处理辊的径向上向外即朝向室壁界定该隔室。所述隔板设置用于在径向上使涂覆隔室区域朝向加工热处理辊开放。因此,该隔板具有开口,涂覆材料可以从所述隔室经所述开口被沉积到带状基材上,其中,该加工热处理辊的未布置有带状基材的周面区域同时被隔板保护起来以避免伴生涂覆。
所述隔板就像朝向加工热处理辊的端壁件一样一般被冷却,以排除或限制因伴随涂覆而来的能量输入所发生的长度变化和变形。为了冷却,该隔板的零部件或是适当匹配于被冷却剂流过的型材,且因此无需松开被水流过的螺纹接合地被更换,但或是所述隔板本身就有被冷却剂流过的通道,所述通道允许增大的冷却功率。
另一个实施方式规定形成至少两个涂覆隔室,且在两个相邻涂覆隔室之间,至少一个区段形成用于所述涂覆隔室之间的真空分隔的泵室。
换言之,可以规定,相邻的涂覆隔室在加工热处理辊的周向上具有相互间距,并且该间距即两个涂覆隔室之间的空隙形成另一个隔室。该隔室可以包括一个或多个区段。
在每个区段可以通过一个真空端口被抽真空的前提下,这样的设于两个涂覆隔室之间的附加隔室作为不发生涂覆的纯泵室。两个涂覆隔室之间空间的抽真空用于将两个涂覆隔室的加工气氛相互隔绝,从而阻止涂覆材料和加工气体可以从一个涂覆隔室进入另一个涂覆隔室。这尤其对于在两个相邻的涂覆隔室内沉积不同的涂覆材料是有意义的,以便在一个涂覆隔室内沉积在带状基材上的当前层不会被另一个涂覆隔室的各自不同的加工气氛污染。
在此情况下,本实施方式相比于已知的带状基材涂覆设备的优点是,泵室数量及在加工室内的位置都是灵活的,且也可根据所完成的带状基材涂覆设备制造来改变。换言之,所述涂覆隔室和泵室能紧密灵活地设置在加工室内。
另一个实施方式规定,该加工室通过分隔壁件的预定位置被分为同样数量的区段。
例如可如此布置两个分隔壁件,即,通过在加工热处理辊侧表面上布置各自一个分隔壁件在唯一区段的相邻位置上,一个涂覆隔室大到可以在其内设置单管磁控管作为涂覆机构。对于不同的涂覆任务简单可行的是两个分隔壁件之一在周向上错开一个区段,从而所夹的涂覆隔室包括两个区段。于是例如可以在该隔室内设置双管磁控管作为涂覆机构。
由此获得的优点首先在于,可利用数量一目了然的各种零部件来展示尽可能多的不同隔室尺寸和进而尽可能多的不同设备配置。这些分隔壁件本来就可以相同地构成,无论其应该关于加工热处理辊被布置在哪个位置上,即每个分隔壁件可以被安装在每个任意位置上。
而所述外壁件和隔板的尺寸取决于一个涂覆隔室应覆盖多少个区段和每个区段多大。但当这些区段一样大小时,隔板和外壁区段的尺寸就只还取决于被覆盖的区段的数量,即覆盖一个区段的一个外壁件也可以被安装在每个其它区段上,覆盖两个区段的一个外壁件也可以被安装在每对其它区段上等等。同样的情况适用于该隔板。
另一个实施方式规定,在每个区段区域内设有用于连接一个真空泵的至少一个真空端口。
通过这种方式,可以与通过多少区段形成一个隔室且该隔室设置在加工热处理辊侧表面上的何处无关地将该隔室抽真空。换言之,给包括多个区段的隔室也提供较高的泵送功率。也可以规定,多个真空端口例如沿加工热处理辊纵轴布置在一个区段的区域中,这尤其对于在加工热处理辊纵轴方向上具有大尺寸的带状基材是有利的。
此实施方式提供了就整个加工室抽真空而言的最大灵活性,因为每个单独区段可被单独抽真空。但此时显然也可行的是放弃对这些单独区段的抽真空,例如因为对应的真空端口未与一个真空泵相连,而是通过隔绝盖板被封闭。当例如一个涂覆隔室覆盖三个区段时,只将三个对应的真空端口之一与一个真空泵相连而关闭另外两个真空端口可能或许就足够了。
另一个实施方式规定,所述真空端口如此设置在一室壁上,即安装于其上的真空泵具有至各自对应区段的直接泵送通路。
通过这种方式,待排真空的体积被进一步尽量缩小,因为真空泵紧邻各自区段地设置在真空室外。
换言之,所述室壁和进而还有设于其处的真空端口如此近地安置在所述区段上,即,真空泵对所述区段产生直接抽真空作用。这例如可以如此做到,室壁本身至少在局部具有圆柱形形状,从而它以隔室所需的间距仿照加工热处理辊轮廓。例如该室壁可以具有槽形的形状。
另一个实施方式规定,所有隔板可分离地固定在一个共同的保持机构上且通过该共同的保持机构相对于加工热处理辊被保持在固定的相对位置上。
该共同的保持机构例如可以包括两个板,它们分别布置在该加工热处理辊的一上,从而每个隔板分别以其两个端侧末端之一被安装在两个板之一上。由此,所述两个板和隔板就像一个笼子,其罩住加工热处理辊。
另一个实施方式规定,在该共同的保持机构上的隔板相对于加工热处理辊的位置是可调的。
就像分隔壁件一样,该隔板也可以在周向上安装在加工热处理辊周长的不同位置处。但另外根据实施方式,所述隔板还可以就其距加工热处理辊的径向距离而言是可调的,就是说,其径向距离根据一定的涂覆步骤要求何种具体要求是可变的。该可调节性例如可如此实现,该共同的保持机构具有多个长孔,所述隔板可借助螺钉被安装在该长孔内的不同位置上。
这对于例如调节隔板距加工热处理辊侧表面的距离是有利的。通过隔板距加工热处理辊侧表面的距离,也可以确定两个相邻隔室之间的流动阻力。通过该距离的可调节性,也可以调节该流动阻力且因而使其最大化。由此一来,带状基材涂覆设备可以灵活适应于带状基材的不同厚度,在这里,带状基材厚度是在加工热处理辊的径向上延伸的带状基材尺寸。
另一个实施方式规定,该外壁件具有对应于所覆盖区段的数量的多个开口,每个开口设置在一个真空端口上方。
因此保证了涂覆隔室内部可以通过所有可供使用的隔室区段的真空端口被抽真空,在这里,也通过外壁件保护室壁内部免于涂覆机构伴生涂覆。
如上所述,该外壁件首先用于相对于紧邻环境即真空室内部界定涂覆隔室,以阻止所述涂覆隔室和真空室之间的气体交换。为了还能抽真空该涂覆隔室而需要允许所述真空泵具有至涂覆隔室的泵送通路。这可如此做到,该涂覆隔室的外壁件在每个真空端口区域内可以具有一个开口,可通过该开口将该涂覆隔室抽真空。
另一个实施方式规定,该涂覆隔室的外壁件位置固定地安置在真空室的一个室壁上。
这个实施方式尤其在界定一个涂覆隔室的不同壁件应彼此相对移动时是有意义的。这尤其可能对于带状基材涂覆设备若干组成部分可以良好接近以便维护且可通过简单方式组装和根据需要相互分离来说是符合期望的。
另一个实施方式规定,每个涂覆隔室的分隔壁件线性接触对应的隔板和对应的外壁件。
在此,线性接触应该是指两个相互接触的零部件如分隔壁件与隔板或者分隔壁件与外壁件如此组装,将在涂覆隔室内部与真空室之间的气体交换即气体流过接合部位减小到最低程度,即基本阻止所述气体交换或流过。
换言之,该涂覆隔室的内部应该在相互接触的零部件的接合部位处相对于真空室被密封。在这里,线性只是指方向如加工热处理辊的轴向,而不是对接触面大小做出限制。相反,零部件相互接触的区域也可以呈面状构成。
另一个实施方式规定,每两个相互接触的零部件中的一个零部件具有沿加工热处理辊轴向延伸的槽,另一个零部件被装入或插入该槽中。
通过榫槽设计,两个零部件相互接触的区域的面积可以被扩大,由此减小穿过接合部位的泄漏体积流。
例如可以规定,外壁件在其平行于该加工热处理辊纵轴延伸的边缘具有槽。分隔壁件可被装入该槽中,从而可以在高真空条件下实际排除气流在分隔壁件和外壁件之间经过。由此还可以实现所述分隔壁件和外壁件如此组装,即该分隔壁件平行于该加工热处理辊纵轴被插入该槽中。
另一个实施方式规定,每两个相互接触的零部件中的一个零部件具有沿加工热处理辊轴向延伸的榫舌片,其弹性压迫到另一个接触零部件上。
例如可以规定,一个隔板在其平行于加工热处理辊纵轴延伸的边缘分别具有一个榫舌片,该榫舌片分别与一个分隔壁件弹性接触,从而可以在高真空条件下实际排除气流在分隔壁件和隔板之间经过。
另一个实施方式规定,所有分隔壁件、端壁件和涂覆机构被第一分组件包括,且所有隔板以及加工热处理辊被第二分组件包括,其中,第一分组件和第二分组件可以在加工热处理辊的轴向上彼此相对运动。
通过将这些零部件分组为分组件,不仅显著简化了带状基材涂覆设备的配置,也显著简化了其维护。这种布置是有利的,因为由此显著改善了涂覆机构的可接近性以便其更换或维护。这是如此做到的,所述涂覆隔室通过两个分组件的彼此相对运动被打开。换言之,通过第二分组件的隔板和加工热处理辊相对于第一分组件的端壁件、分隔壁件和涂覆机构的可移动性实现了接近涂覆隔室内部。
另一个实施方式规定,第二分组件包括该输送装置。
这是有利的,因为带状基材由此与加工热处理辊一起可相对于涂覆机构运动。因此,为了第二分组件的运动,该带状基材可以贴靠该加工热处理辊侧表面的部分周长,省掉了在维护情况下费时地取出带状基材。
相比于为了带状基材的卷绕机构和退绕机构设有单独的卷绕室的实施方式,所述卷绕机构和退绕机构在此情况下设置在该真空室内。就是说,该带状基材可以随第二分组件移出真空室。
另一个实施方式规定,第二分组件包括所述隔板的共同的保持机构。
在此有利的是,所述隔板可以与加工热处理辊一起运动,由此,该隔板相对于加工热处理辊的位在该运动过程中不变,从而例如隔板距加工热处理辊侧表面的确定两个相邻隔室之间流动阻力的距离保持恒定不变。
另一个实施方式规定,该真空室具有两个对置的开口,所述开口可以分别通过可取出的室壁被真空密封关闭,在这里,这两个分组件可以分别通过两个开口中的一个移出真空室或移入真空室。
通过该实施方式做到了这两个分组件可以彼此无关地移出真空室和又移入其中,在这里,还改善了涂覆机构的可接近性。每个所述分组件在此情况下可以分别安置在沿轨道移动的小车上。由此,特别简单地将基材处理装置的组成部件从真空室取出以便例如维修。
另一个实施方式规定,每个分组件安装在两个可取出的室壁之一上且由此在取出各自室壁时被从真空室取出。
由此做到了无需设置其它装置以取出两个室壁。此实施方式还有以下优点,安装在室壁上的分组件能很精确地安装在该真空室内的为其确定的位置上。同时,该分组件能以最简单的方式从真空室被取出,做法是所述室壁脱离真空室并从真空室被取出,例如做法是所述可取出的室壁安装在轨道系统上且可在轨道系统上移动。
另一个实施方式规定,在加工室外设有延伸于该侧表面的另一部分周长范围的可抽真空的处理室。
这是有利的,因为处理室由此可与真空室无关且与所述隔室无关地借助设于真空室外的单独真空泵被抽真空。
在此还可以规定,在处理室内设有用于带状基材的预处理和/或后处理的至少一个涂覆机构。
因此,如此区分处理室与加工室,在处理室内未发生带状基材涂覆。相反,在处理室内,可以设有涂覆机构例如像等离子体源或闪光装置,可借此来清理、脱气、表面活化、加热或冷却该带状基材。
另一个实施方式规定,该输送装置被构造用于双向输送该带状基材。
由此可以实现所述带状基材涂覆设备可选择地在一个或另一个方向上运转,或者该带状基材涂覆设备不仅在一个方向上运转,也在另一个方向上运转。
由此可以做到不必互换在带状基材重新涂覆前的收卷和退卷布置,可以省掉沿加工热处理辊重新穿引带状基材,由此也可省掉卷绕室或真空室的通风。
就带状基材双向输送而言还有利的是设有至少两个处理室。它们能被构造成彼此无关地抽真空。在两个处理室的每个当中可以设有用于带状基材的预处理和/或后处理的涂覆机构,由此可以与带状基材的输送装置无关地实现带状基材的预处理及后处理。
还可能的是在加工室和处理室外形成单独的配设有真空泵的卷绕室,其通过呈基材所穿过的缝隙状的流动阻力构成。由此可以实现来自基材卷的在基材退绕时逸出的气化物和析出气体有效地远离加工室和处理室。
附图说明
以下将结合实施例和对应的附图来详述本实用新型,其中:
图1示出了处于打开位置的带状基材涂覆设备的具有外壁件的真空室、带材移送小车和处理小车,
图2是示出外壁件以及第一分组件和第二分组件,
图3是真空室的垂直于具有示例性的涂覆机构第一排列的加工热处理辊的中心轴线的剖视图,
图4是隔板的组装图,
图5是根据图4的隔板的分解图,
图6是端壁件的侧视图,
图7是真空室的垂直于具有示例性的涂覆机构第二排列的加工热处理辊的中心轴线的剖视图,
图8是真空室的垂直于具有示例性的涂覆机构第三排列的加工热处理辊的中心轴线的剖视图。
附图标记列表
1真空室;11外壁件;111开口;12保持件;13真空端口;14室壁;15开口;2带材移送小车;21隔板;211纵向护板;212端侧护板;213榫舌片;214底座;22加工热处理辊;23保持机构;3处理小车;31保持机构;311端壁件;3111涂覆机构开口;3112盖;312横梁;313分隔壁件;314涂覆机构;32涂覆隔室;33泵室。
具体实施方式
图1示出带状基材涂覆设备,其包括位置固定的真空室1、可移动的带材移送小车2和可相对于带材移送小车2移动的处理小车3。由室壁14构成且可被抽真空的真空室1具有两个对置的可真空密封关闭的开口15。带材移送小车2和处理小车3均可以在未示出的轨道上穿过各自一个开口15移入真空室1和移出真空室。带材移送小车2和处理小车3还分别包括室壁14,可通过该室壁来真空密封关闭真空室1的对置开口15中的一个开口。
带材移送小车2包括输送装置,用于将未示出的带状基材从未示出的退卷送至加工热处理辊22、沿加工热处理辊22的部分周长引导带状基材且将带状基材输送至未示出的收卷。图1只示出未进一步标示的输送装置的转向辊。
另外,带材移送小车2包括保持机构23,该保持机构上设有多个隔板21。隔板21距加工热处理辊22的距离可以与工艺过程相关地被调节。
沿加工热处理辊22被引导的带状基材不仅可借助加工热处理辊22被冷却,也可被加热,在这里,加工热处理辊22可借助设于真空室1外的未示出的驱动装置绕其中心轴线转动。
因此,加工热处理辊22、连同安装于其上的隔板21的保持机构23及输送装置形成第二分组件,其可借助带材移送小车2移出真空室1和再次移入真空室。如果隔板21和加工热处理辊22之间的距离被调节,该距离不受带材移送小车2和处理小车3的彼此相对运动的影响。
处理小车3上设有保持机构31。保持机构31由横梁312和两个端壁件311构成,横梁例如由异型管构成,而端壁件例如呈金属板状构成。横梁312和端壁件311形成抗弯结构。两个端壁件311还如此构成,它们分别在端侧界定加工室。
另外,保持机构31包括可分离地安置在其上的分隔壁件313,从而分隔壁件313可以在处理小车3旁边被清理。
另外,在保持机构31上设有多个涂覆机构314。在本实施例中,涂覆机构314以双管磁控管和单管磁控管形式构成。但也可设置其它的涂覆机构314,如平面磁控管、具有蒸气分配管的热蒸发器、离子源或其它涂覆源。在本实施例中,涂覆机构314保持就位在两个端壁件311之一内的涂覆机构开口3111中。
因此,保持机构31连同设置在其上的分隔壁件313和涂覆机构314一起形成第一分组件,其可以借助处理小车3移出真空室1和又移入真空室。
在真空室1内设有多个保持件12,保持件的纵向延伸尺寸的取向平行于加工热处理辊22的中心轴线。这些保持件12能在真空室1内设置在不同的位置上。一个外壁件11分别由两个相邻的保持件12保持。在每个外壁件11内设有至少一个开口111。外壁件11的每个开口111分别设置在一个室壁14的真空端口13上方。可连接在真空端口13上的未示出的真空泵因此获得对加工室内部的直接泵送通路。
加工室的构造应结合图3来详述。为此,图3示出真空室1的垂直于加工热处理辊22的中心轴线的剖视图。
该加工室呈圆环形包围加工热处理辊22的侧表面的部分周长。在本实施例中,该部分周长约为180°,在此,该部分周长在带状基材涂覆设备的另一个实施方式中也可以被选择成更大或更小。该加工室由交替设置在带状基材输送装置内的涂覆隔室32和泵室33构成,其中该泵室33设置用于涂覆隔室32之间的真空分隔部,因此用于气体分隔。
这个实施例包括六个涂覆隔室32,其中,三个涂覆隔室32如此构成,即,在所述涂覆隔室内可设有呈双管磁控管形式的涂覆机构314,且另外三个涂覆隔室32如此构成,即,在所述涂覆隔室内可设有呈单管磁控管形式的涂覆机构314。
每个所述涂覆隔室32在此分别由两个分隔壁件313、一个外壁件11、一个朝向加工热处理辊的隔板21以及两个对置的端壁件311构成。隔板21以及外壁件11对于不同大小的涂覆隔室在加工热处理辊22的侧表面的周向上具有不同的尺寸。每个所述涂覆隔室32可以借助一个或多个设于真空室1外的真空泵被单独抽真空。为此在各自的外壁件内设有相应数量的开口111,每个开口又设置在室壁14的一个真空端口13上方。通过这种方式,设置在真空端口13处的未示出的真空泵可获得对涂覆隔室32内部的直接泵送通路。
每个泵室33通过两个相邻的涂覆隔室32的分隔壁件313构成。对于一个泵室33不存在外壁件11和隔板21。每个泵室也配属有一个真空端口13,由此,未示出的真空泵获得对泵室33内部的直接泵送通路,由此一来,可以获得两个相邻涂覆隔室32的气体分隔。
为了从带状基材涂覆设备的打开位置转入闭合位置,最好首先借助处理小车3使第一分组件移入真空室1。此时,分隔件313被推入保持件12的平行于加工热处理辊22的中心轴线取向的槽中。接着,借助带材移送小车2使第二分组件移入真空室1。此时,隔板21的榫舌片213分别抵靠在第一分组件的分隔壁件313上。分隔壁件313与保持件12和榫舌片213接触的各线性区域此时如此构成,因真空室1和涂覆隔室32内部之间的压力差而出现的体积流动被减至最低程度。线性接触的密封作用应该尽量大。
本实用新型构想在于,隔室32、33的尺寸、数量和布置是可变的。为了做到这一点,分隔壁件313可以设置在该加工室的不同的预定位置上。这应该结合处于9点钟位置的涂覆隔室32来详述。如果例如应该在涂覆隔室32内设置一个单管磁控管,则其尺寸可以小许多以减小涂覆隔室32所需要的真空泵泵送功率。为此,使更靠下所示出的保持件12脱离真空室1的室壁14且又在室壁14上被安装到靠近上述保持件12的两个相邻的真空端口13之间的位置上。另外,配属于第一分组件上的保持件12的分隔壁件313错位,以便分隔壁件313又能被插入保持件12的槽中。在第二分组件上,隔板21须被换为在加工热处理辊22周向上较小的隔板21。外壁件11在此情况下也必须由较小的外壁件替换。
有利的是保持件12能以有规律的间距分别布置在两个真空端口13之间。可通过这种方式将加工室分成同样大小的多个区段。因而,在本实施例中有十四个区段。一个实施例的涂覆隔室32于是能包括一个或多个如四个或六个区段。由此,将相同的涂覆任务如用相同涂覆材料涂覆带状基材可被融合。通过分别将一个真空端口13配属于一个区段,泵功率在涂覆隔室增大时也随之提高。
重要的是,隔室32、33的尺寸、数量和布置的变化也可以在带状基材涂覆设备制造之后进行,由此可以很灵活地应对例如新层系,而无需为此置办专门适应于该新层系的带状基材涂覆设备。
在本实施例中还可以规定,在两个涂覆隔室32上方在根据图3的3点钟位置和9点钟位置且因而在加工室外沿加工热处理辊22的侧表面的部分周长设置至少一个可被抽真空的未示出的处理室。在借助设于真空室1外的真空泵可被抽真空的处理室内又可设置用于带状基材的预处理或/和后处理的涂覆机构。由此,加工热处理辊22的周边被表面处理装置最佳利用起来,只要是带状基材的预处理、涂覆或后处理。另外可以规定,两个处理室布置在真空室1内,每个处理室具有用于带状基材的预处理和后处理的装置。通过这种方式,也可以设置用于带状基材的双向运行的输送装置。因此,当输送装置掉转方向时保证了带状基材不仅可以被预处理,也可以被后处理。也可能的是该带状基材总是只接受预处理或后处理。
处理小车3的如图6所示的保持机构31根据图1至图3的加工室的配置来设计。在此未示出的涂覆机构314设置在涂覆机构开口3111内,而涂覆机构开口3111在泵室33区域中分别通过盖3112被封闭以避免漏流。
图4和图5示出了用于双管磁控管的同一个隔板21的结构。所示的隔板21包括具有安装于其上的榫舌片213的底座214,可以使榫舌片与分隔壁件313接触。为了保护避免底座的伴生涂覆,在底座上例如通过螺纹连接可更换地分别设有两段纵向护板211和四段端侧护板212。另外可以规定设置也未示出的用于冷却隔板21的冷却通道以及未示出的气体通道,其中该气体通道适用于提供工艺气体如反应性气体供某些涂覆机构使用。
图7和图8示出涂覆机构的另外两个示例性配置,其特点是具有根据本实用新型的部分包围加工热处理辊的加工室的可变划分。
如在图3所示的配置中那样,加工室通过多个313被分为涂覆隔室32和泵室33,其中在每个涂覆隔室32内设有一个或多个涂覆机构314。
在根据图7的实施例中,共设有六个涂覆隔室32且在每两个涂覆隔室32之间设有一个泵室33。此时,在基材输送方向上看的前五个涂覆隔室32内分别设有一个双管磁控管314,在最后的涂覆隔室32内设有平面磁控管。每个涂覆隔室32和每个泵室33分别通过一个外设的真空泵被抽真空。
在根据图8的实施例中共交替设有两个涂覆隔室32和两个泵室33,在此,在基材输送方向上看的第一涂覆隔室32内设有五个双管磁控管314,在第二涂覆隔室32内设有一个平面磁控管。在所有的现有真空端口13处设有真空泵。
Claims (22)
1.一种带状基材涂覆设备,该带状基材涂覆设备具有由室壁(14)构成的真空室(1)以及设于该真空室(1)内的带状基材的表面处理装置,该带状基材涂覆设备包括具有圆柱形侧表面的加工热处理辊(22)和用于输送所述带状基材经过所述侧表面的输送装置,其中所述侧表面的至少一部分周长被加工室包围,该加工室具有一排由分隔壁件(313)界定的隔室(32,33),其中在至少一个所述隔室(32,33)内设有至少一个涂覆机构(314),其特征在于,所述隔室(32,33)的尺寸、数量和布置是可变的,从而使得每个所述分隔壁件(313)能被安置在所述加工室内的多个预定位置中的一个预定位置上。
2.根据权利要求1所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,这一排隔室(32,33)具有至少一个涂覆隔室(32),在该至少一个涂覆隔室中设有涂覆机构(314),其中每个涂覆隔室(32)均由两个分隔壁件(313)、两个端壁件(311)、一个外壁件(11)和一个朝向所述加工热处理辊(22)的隔板(21)界定。
3.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,形成至少两个涂覆隔室(32),且在两个相邻的涂覆隔室(32)之间,至少一个区段形成用于所述涂覆隔室(32)之间的真空隔离的泵室(33)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述加工室通过所述分隔壁件(313)的预定位置被分为同样大小的区段。
5.根据权利要求1所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,在每个区段的区域中设置用于连接真空泵的至少一个真空端口(13)。
6.根据权利要求5所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述真空端口(13)设置在室壁(14)上,从而使得安装在所述真空端口上的真空泵具有至各自对应区段的直接泵送通路。
7.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所有隔板(21)可分离地固定在共同的保持机构(23)上且通过共同的所述保持机构(23)相对于所述加工热处理辊(22)被保持在固定的相对位置上。
8.根据权利要求7所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,在共同的所述保持机构(23)上的所述隔板(21)相对于所述加工热处理辊(22)的位置是能够调节的。
9.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述外壁件(11)具有对应于被遮蔽的区段的数量的多个开口(111),每个所述开口布置在一个真空端口(13)上方。
10.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述涂覆隔室(32)的外壁件(11)位置固定地安置在所述真空室(1)的一个室壁(14)上。
11.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,每个涂覆隔室(32)的所述分隔壁件(313)线性接触对应的所述隔板(21)和对应的所述外壁件(11)。
12.根据权利要求11所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,每两个相互接触的零部件中的一个零部件具有在所述加工热处理辊(22)的轴向上延伸的槽,另一个零部件被装入或插入该槽中。
13.根据权利要求11或12所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,每两个相互接触的零部件中的一个零部件具有在所述加工热处理辊(22)的轴向上延伸的榫舌片(213),该榫舌片弹性压靠在另一个接触的零部件上。
14.根据权利要求2所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所有的分隔壁件(313)、端壁件(311)和涂覆机构(314)被第一分组件包含,且所有的隔板(21)以及加工热处理辊(22)被第二分组件包含,其中该第一分组件和该第二分组件在所述加工热处理辊(22)的轴向上能彼此相对运动。
15.根据权利要求14所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述第二分组件包括所述输送装置。
16.根据权利要求14或15所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述第二分组件包括所述隔板(21)的共同的保持机构(23)。
17.根据权利要求14所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述真空室(1)具有两个对置的开口(15),所述开口能分别通过一个可取出的所述室壁(14)被真空密封关闭,其中所述两个分组件能分别通过所述两个开口(15)中的一个所述开口移出所述真空室(1)或移入所述真空室(1)中。
18.根据权利要求17所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,每个分组件安置在可取出的两个所述室壁(14)中的一个所述室壁上并由此在相应的所述室壁(14)被取出时从所述真空室(1)被取出。
19.根据权利要求1所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,在所述加工室的外部设有延伸经过所述侧表面的另一部分周长的且能抽真空的处理室。
20.根据权利要求19所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,在所述处理室内设有用于所述带状基材的预处理或/和后处理的至少一个涂覆机构。
21.根据权利要求1所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,所述输送装置被构造用于双向输送所述带状基材。
22.根据权利要求1所述的带状基材涂覆设备,其特征在于,设有至少一个用于提供待涂覆的基材的第一基材卷绕机构和至少一个用于收纳所述基材的第二基材卷绕机构,并且至少一个基材卷绕机构设置在卷绕室内,该卷绕室通过流动阻力与所述真空室(1)分隔开且能被单独抽真空。
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