一种光纤研磨抛光机
技术领域
本实用新型涉及研磨抛光领域,尤其涉及一种用于对光纤端面进行研磨抛光的抛光机。
背景技术
光纤被切断后,其截切面因为受到截切力而产生形变,使得光纤的截切面呈现非规则状态。如果采用此种光纤传输光信号时,会因截切面的非规则状态使得光呈现散射射出或入射,无形中加大了光损耗。
为了降低光纤端面的光损耗,目前采用在端面处加装光准直器,但是,加装光准直器,工艺复杂、耗时太长、成本过高。
为了解决光纤端面的光损耗问题,本实用新型提供了如下技术方案。
发明内容
本实用新型所要解决的问题在于提供一种光纤研磨抛光机,其通可以解决光纤端面形变问题,且设计简单、成本低、效率高。
本实用新型的技术方案如下:
一种光纤研磨抛光机,包括转轴、研磨转盘、研磨箱以及动力传动机构;所述研磨转盘设置在所述转轴的一端,该转轴的另一端穿过位于研磨箱底部后与所述传动机构形成动力连接;所述研磨转盘置于研磨箱内,其中,在所述研磨箱内盛有研磨液,所述研磨液的盛装量足以淹没所述研磨转盘。
所述光纤研磨抛光机,其中,在所述研磨箱上设有排液孔。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述研磨箱为透明状;或者,在所述研磨箱的侧部开有透明状的观察窗。
所述光纤研磨抛光机,其中,在所述研磨箱的上方设有用于夹持待抛光光纤的夹持机构。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述转轴与研磨转盘的中心轴重合设置,且所述研磨转盘上表面呈水平状。
所述光纤研磨抛光机,其中,在所述研磨箱的侧壁设有用于研磨液回流的回流管。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述研磨转盘的上圆周边呈斜面,且该斜面的下延伸面与所述回流管的回流口所在平面在所述研磨箱的侧壁处相交。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述研磨液为氧化物研磨液或者金刚石研磨液。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述氧化物研磨液为氧化铝研磨液、氧化铈研磨液、氧化理研磨液或者二氧化硅研磨液。
所述光纤研磨抛光机,其中,所述金刚石研磨液为单晶金刚石研磨液、多晶金刚石研磨液或纳米金刚石研磨液。
本实用新型提供的光纤研磨抛光机,针对光纤芯的直径较小,一般只有0.5~2mm,采用研磨液左右抛光机,对光纤端面进行圆周式研磨抛光,去除光纤中产生形变的截切面部分,露出与光纤成形状相一致光学性的端面,确保光经光纤射出或射入均为平行光,以降低光的散射,提升光利用率;同时,采用研磨机,操作简单、研磨成本低,且效率高。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的纤研磨抛光机结构示意图;
图2为本实用新型另一实施例的纤研磨抛光机结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图,对本实用新型的较佳实施例作进一步详细说明。
如图1和2所示,本实用新型提供的一种光纤研磨抛光机,包括转轴23、研磨转盘21、研磨箱20以及动力传动机构25。
研磨转盘21固定安装在转轴21的一端,也就是上端,即置入研磨箱20的那一端;该转轴23的另一端,即传动端,穿过位于研磨箱20底部后与传动机构25形成动力连接;转轴23在穿过研磨箱20的底部处采用密封结构进行密封设置。
在本实施例中,为了降低转轴23与研磨箱20之间的摩擦阻力,提升转速效率,在研磨箱20底部设置一轴承28,转轴23通过轴承28内孔形成密封状穿插接触,然后固定在安装底座30上。
本实施例中,如图1所示,动力传动机构25为电动机,该电动机251设置在底座30下面且其动力输出轴241与转轴23轴向垂直对接连接进行动力传送。
在其他实施例中,如图2所示,转轴23与动力传动机构25之间也可以通过链条24或皮带24进行动力传动,且动力传动机构25为电动机,并固定在底座30上;或者,转轴23与动力传动机构25之间也可以通过齿轮咬合进行动力传动。
在本实施例中,优选转轴的转速为10000~20000转/分钟,这样的转速,有利于研磨抛光,可以避免因高转速带来的光纤新端面形变,避免低转速达不到去除形变端面的效果.。
在该光纤研磨抛光机中,起研磨抛光作用的是盛装在研磨箱20中的研磨液22。因此,研磨转盘21必须置于研磨箱20内,且研磨液22的盛装量一定足以淹没研磨转盘21;这样,研磨转盘21在转轴23的带动下,通过旋转力进而带动研磨液22旋转,使研磨液22在转动过程中与待抛光光纤10的端面形成摩擦,达到去除光纤形变端面。
为了使待抛光光纤10的端面与研磨转盘21之间呈垂直状研磨抛光,确保端面呈水平镜面;在本实施例中,如图1和2所示,在研磨箱20的上方设有用于夹持待抛光光纤10的夹持机构,该夹持机构包括垂直支杆13、横向支杆12以及夹具11;其中,垂直支杆13固定设置在研磨箱20的侧壁上,而横向支杆12通过螺纹紧固在垂直支杆13上,与垂直支杆13形成紧固或松开两种状态,并可相对垂直支杆13上下移动,以方便调节高度;夹具11设置在横向支杆12上,用于夹持待抛光光纤10。
进一步地,为方便研磨箱20中的研磨液22的排放,以便清洗研磨箱20,在研磨箱20的上设有排液孔26,该排液孔26也可以设置在研磨箱20的侧壁也可是底部。本实施例中,排液孔26设置在底部。
为便于观察研磨箱20中研磨液22的研磨量以及研磨液的干净度,本实施例中,研磨箱22的材质为透明状,或者,在研磨箱22的侧部开有透明状的观察窗。
在本实施例中,转轴23与研磨转盘21的中心轴采用重合设置,且研磨转盘21上表面呈水平状;这样可以进一步保证研磨抛光后的光纤端面呈水平镜面状。
如图2所示,在另一实施例中,为了降低研磨箱20中研磨液22的加入量,在研磨箱20的侧壁设有用于研磨液回流的回流管27。研磨转盘21转动时,带动研磨液22呈离心状甩向回流管27,并在离心力的作用下将研磨液22上压流动至研磨液22的上部,形成上下回流循环。
进一步地,为提高研磨液22在回流管27中的离心流动,在研磨转盘21的上圆周边设置成斜面211,且该斜面22的下延伸面与回流管27的回流口所在平面在研磨箱20的侧壁处相交,这样可以进步一提升研磨液22的回流量以及回流率。
在本实用新型中,研磨液选择为氧化物研磨液或者金刚石研磨液中的一种;其中,氧化物研磨液可以为氧化铝研磨液、氧化铈研磨液、氧化理研磨液或者二氧化硅研磨液;金刚石研磨液可以为单晶金刚石研磨液、多晶金刚石研磨液或纳米金刚石研磨液。这些研磨液,可以采用市购获得。
本实施例中,优选氧化理研磨液,其切力较稳定,且性价比高。
应当理解的是,上述针对本实用新型较佳实施例的表述较为详细,并不能因此而认为是对本实用新型专利保护范围的限制,本实用新型的专利保护范围应以所附权利要求为准。