CN203794983U - 一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,包括一石英管,石英管输入端通过第一法兰连接有充气系统,石英管输出端通过法兰分别连接有气压调节器和真空系统,石英管外包围有分段加热装置,分段加热装置包括第一加热装置和第二加热装置,第一加热装置和第二加热装置下方设有滑轨,滑轨上设有可以在该滑轨上滑动的滑块,滑轨一侧设有伸缩气缸,伸缩气缸推动滑块在滑轨上滑动,滑块上固定连接有电机,电机输出转轴固定有锥齿轮,第一加热装置和第二加热装置上设有与该锥齿轮的齿纹啮合的斜齿圈,该锥齿轮转动时通过齿纹与斜齿圈啮合带动第一加热装置和第二加热装置绕石英管轴向旋转,本实用新型能够使得气体均匀分配进而使得石墨烯均匀沉积。

Description

一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置
技术领域
本实用新型涉及一种气相沉积设备,特别是指一种用于制备石墨烯的化学气相沉积装置。
背景技术
石墨烯是碳原子按六边形结构排列的一种单原子层碳薄膜。目前,利用金属衬底催化分解甲烷气体进行化学气相沉积是一种制备大面积石墨烯薄膜的有效方法。在该方法中,首先让碳原子在高温(1000℃)下溶解到金属衬底中,金属的碳溶解度随着温度降低而降低。当衬底冷却后,碳原子在金属中达到过饱和状态,之前溶解的大量碳原子就会析出到金属表面形成厚度可控的石墨烯。这种方法可以到高质量大面积(厘米尺寸)的单层或者多层石墨烯,是目前最为重要的一种石墨烯制备方法。
制备石墨烯的过程需要用到易燃气体作为反应气体,例如氢气和甲烷,且高温加热炉制备石墨烯是在反应气体在理想状态下均匀分布,然而,实际上反应气体的浓度会随着反应的进行而降低,导致靠近反应气体入口处的近气端比相对入口较远的远气体端的反应气体浓度更高,因此近气体端和远气体端的表面沉积速率不同,在近气体端的沉积速率会比远气体端的沉积速率较高,从而造成石墨烯不均匀沉积。
且由于氢气和甲烷具有一定的危险性。目前较为先进的方法是在真空下将可燃性气体,例如氢气和甲烷通入高温加热炉中实现制备,这样就要对设备的密闭性提出了较高要求,现有的制备石墨烯的化学气相沉积装置是采用在高温加热炉上设置真空系统来实现真空气氛下石墨烯的制备,但是由于高温加热炉大多采用石英管,在真空系统进行制备的过程中,管壁处于热壁式的反应过程,其管壁中会有较多的颗粒沉积,且这些颗粒沉积不易清洁,造成污染。
实用新型内容
为了解决上述技术问题是,本实用新型提供了一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,通过设置抽气装置以及分段加热装置,从而气体能够均匀分配进而使得石墨烯均匀沉积,同时通过设置抽气装置,使得外部带入的微细颗粒被及时抽走,减少炉管的颗粒沉积,以解决现有技术之不足。
为了解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是,一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,包括一石英管,所述石英管输入端通过第一法兰连接有充气系统,所述石英管输出端通过法兰分别连接有气压调节器和真空系统,所述石英管外包围有分段加热装置,所述分段加热装置包括第一加热装置和第二加热装置,所述第一加热装置和第二加热装置下方设有滑轨,滑轨上设有可以在该滑轨上滑动的第一滑块和第二滑块,所述第一滑块和第二滑块分别固定连接有第一电机和第二电机,第一电机和第二电机输出转轴均固定有锥齿轮,所述第一加热装置和第二加热装置上设有与该锥齿轮的齿纹啮合的斜齿圈,该锥齿轮转动时通过与斜齿圈啮合带动所述第一加热装置和第二加热装置绕石英管轴向旋转,所述滑轨两端设有两伸缩气缸,所述两伸缩气缸分别推动滑块第一滑块和第二滑块在滑轨上滑动,进而推动所述第一加热装置和第二加热装置相对所述石英管水平移动。
进一步的 ,所述石英管输出端还连接有抽气装置,所述抽气装置由阀门和气泵组成,所述阀门两端通过导管分别与气泵和石英管输出端连接。
进一步的,为了均匀加热,石英管的中部设有限位凸环,所述第一加热装置设置在限位凸环的左侧,所述第二加热装置设置在限位凸环的右侧,且所述第一加热装置和第二加热装置均为管式加热装置,所述石英管的输入端外露出所述第一加热装置的左侧,所述石英管的输出端外露出所述第二加热装置的右侧。
更进一步的,所述石英管的限位凸环上开设有配气环,所述配气环通过送气管道与充气系统连接,所述配气环上均匀设置有多个喷嘴。
进一步的,所述的第一加热装置和第二加热装置均为气氛炉。
进一步的,为了所述充气系统包括反应气体源、气体流量控制器、由管道和阀门构成的气体输送装置。
进一步的,所述真空系统包括以串联方式相连的真空机械泵和罗茨泵,该罗茨泵通过一气动阀连接至石英管。
进一步的,所述石英管输出端通过法兰连接一不锈钢导管一端,所述不锈钢导管上设有真空质量流量计,所述不锈钢导管另一端连接至所述真空系统。
进一步的,所述气压调节器连接在不锈钢导管中部,所述气压调节器包括一单向阀,所述单向阀输入端连接该不锈钢导管,所述单向阀输出端连接有一橡胶导管,所述橡胶导管输出口浸没在一锥形瓶内。
更进一步的,所述单向阀由密封法兰、过压阀、弹簧和橡皮圈组成,所述密封法兰连接不锈钢导管,所述弹簧连接密封法兰和过压阀,所述过压阀和密封法兰连接处设有橡皮圈,过压阀在弹簧张力下紧压密封法兰。
进一步的,所述装置还包括一计算机控制系统,所述计算机控制系统包括一中央处理器、I/O 接口模块、A/D 转换器、存储器、液晶显示器和若干传感器,所述若干传感器分别设置在加热装置、石英管、充气系统、真空系统和气压调节器上,并经A/D 转换器转换后再通过I/O 接口模块与中央处理器输入端相连接,所述存储器通过地址总线与中央处理器的输入端连接,所述液晶显示器通过并行接口连接中央处理器的输出端。
进一步的,所述第一加热装置和第二加热装置内放置有若干加热石英。
本实用新型通过采用上述技术方案,与现有技术相比,具有如下优点:
1. 本实用新型采用分段的第一加热装置和第二加热装置,且该第一加热装置和第二加热装置分别能够相对石英管左右水平移动和轴向转动,能够使得石英管受热均匀,同时采用抽气装置,能够所述抽气装置由阀门和气泵组成,所述阀门两端通过导管分别与气泵和石英管输出端连接,能够使得气体能够更加均匀的分布在石英管内,从而使得石墨烯均匀沉积;
2. 本实用新型还通过抽气装置还能够有效的抽走微细颗粒,有效改善石英管内的颗粒状况,减少管内污染,方便清洁,增强石英管的使用寿命;
3、本实用新型通过在限位凸环上开设有配气环,所述配气环通过送气管道与充气系统连接,所述配气环上均匀设置有多个喷嘴,能够在加热过程中在石英管中部均匀补充反应气体,进一步地使得气体沉积速率在石英管内均匀,从而使得石墨烯均匀沉积;
4. 本实用新型石英管内的气压可以控制在10-3 Pa~105 Pa 之间的任意值,可兼容常压与真空两种制备石墨烯薄膜的工艺;
5. 本实用新型的装置内样品的降温速度可以设定在0.1 oC/ 分钟~200 oC/ 分钟之间的任意值,可实现自限制与渗析两种不同机理的石墨烯薄膜生长方式;
6. 本实用新型的气压调节器,在石英管内气压大于设定值时,气压调节器中的单向阀自动打开排气;在石英管内气压低于设定值时单向阀自动关闭。气压调节器的真空漏率小于10-10 Pa·L/S ;
7. 本实用新型采用计算机控制系统通过通讯接口将各个模块连接起来,实现整个石墨烯薄膜生长过程的实时监控和全自动化,安全可靠。
附图说明
图1是本实用新型的实施例的结构示意图;
图2是图1中单向阀的剖面结构图;
图3是本实用新型的实施例的计算机控制系统的结构示意图。
具体实施方式
现结合附图和具体实施方式对本实用新型进一步说明。
作为一个具体的实施例,如图1所示,本实用新型的一种带滑轨的用于制备超大面积单层或者多层石墨烯薄膜的化学气相沉积装置,包括一石英管1,所述石英管1输入端通过第一法兰11连接有充气系统2,所述石英管1输出端通过法兰12分别连接有气压调节器3和真空系统4,所述石英管1外包围有分段加热装置,所述分段加热装置包括第一加热装置51和第二加热装置52,所述第一加热装置51和第二加热装置52下方设有滑轨20,滑轨20上设有可以在该滑轨上滑动的滑块21,22,所述滑轨20两端分别设有伸缩气缸23,24,所述伸缩气缸23,24分别推动滑块21,22在滑轨20上滑动,所述滑块21,22上分别固定连接有电机25,26,电机25,26输出转轴固定有锥齿轮251,261,所述第一加热装置51和第二加热装置52上分别设有与该锥齿轮251,261的齿纹啮合的斜齿圈511,521,该锥齿轮251,261转动时通过倾斜的齿纹与斜齿圈511,521啮合带动所述第一加热装置51和第二加热装置52绕石英管1轴向旋转,且由于所述锥齿轮251,261的倾斜齿纹与第一加热装置51和第二加热装置52的斜齿圈511,521啮合,因此当所述滑块21,22在滑轨20上滑动的时候,会推动所述第一加热装置51和第二加热装置52相对所述石英管1水平移动。所述第一加热装置51和第二加热装置52内放置有若干加热石英。
所述石英管输出端还连接有抽气装置10,所述抽气装置10由阀门101和气泵102组成,所述阀门两端通过导管分别与气泵和石英管输出端连接。所述加热装置5 内放置有若干加热石英51。通过抽气装置还能够有效的抽走微细颗粒,有效改善石英管内的颗粒状况,减少管内污染,方便清洁,增强石英管的使用寿命。
为了均匀加热,石英管1的中部设有限位凸环13,所述第一加热装置51设置在限位凸环13的左侧,所述第二加热装置52设置在限位凸环13的右侧,且所述第一加热装置51和第二加热装置52均为管式加热装置,所述石英管1的输入端外露出所述第一加热装置51的左侧,所述石英管1的输出端外露出所述第二加热装置52的右侧。所述石英管1的限位凸环13上开设有配气环14,所述配气环通过送气管道与充气系统连接,所述配气环14上均匀设置有多个喷嘴141。通过设置配气环14,能够在加热过程中在石英管中部均匀补充反应气体,进一步地使得气体沉积速率在石英管内均匀,从而使得石墨烯均匀沉积。
所述充气系统2 包括依次连接的反应气体源、气体流量控制器、由管道和阀门构成的气体输送装置,所述反应气体源包括保护气源26、甲烷气源27 和氢气气源28,分别通过保护气体流量控制器21、甲烷气体流量控制器22 和氢气体流量控制器23 连接至三个阀门24,再由管道25 连接至法兰11。所述保护气源26 为氩气。
所述石英管1 输出端通过法兰12 连接一不锈钢导管6 一端,所述气压调节器3 连接在不锈钢导管6 中部,所述气压调节器3 包括一单向阀,参考图2 所示,所述单向阀由密封法兰31、过压阀32、弹簧33 和橡皮圈34 组成,所述密封法兰31 连接不锈钢导管6,所述弹簧33 连接密封法31 和过压阀32,所述过压阀32 和密封法兰31 连接处设有橡皮圈34,过压阀32 在弹簧33 张力下紧压密封法兰31,橡皮圈34 起到进一步密封的作用,所述单向阀输出端连接有一橡胶导管9,所述橡胶导管9 输出口浸没在一锥形瓶内。在石英管1 内气压大于设定值时,气压调节器3 中的单向阀中的弹簧33 在气压作用下施张,过压阀32 自动打开排气;在石英管1 内气压低于设定值时单向阀中的弹簧33 在张力作用下将过压阀32自动关闭。
本实施例中,所述不锈钢导管6 上设有真空质量流量计8,所述不锈钢导管6 另一端连接至所述真空系统4。所述真空系统4 包括以串联方式相连的真空机械泵43 和罗茨泵42,该罗茨泵42 通过一气动阀41 连接至不锈钢导管6。
参考图3 所示,所述装置还包括一计算机控制系统,所述计算机控制系统包括一中央处理器、I/O 接口模块、A/D 转换器、存储器、液晶显示器和若干传感器,所述若干传感器分别设置在加热装置、石英管、充气系统、真空系统和气压调节器上,并经A/D 转换器转换后再通过I/O 接口模块与中央处理器输入端相连接,所述存储器通过地址总线与中央处理器的输入端和输出端连接,所述液晶显示器通过并行接口连接中央处理器的输出端。
下面利用本实施例的装置实现在不同气氛中制备石墨烯。
一、在真空环境中制备石墨烯,首先制作衬底,取一定尺寸的铜箔,用酒精、丙酮等有机溶剂清洗压焊后残留的污染物。其制备步骤包括:
步骤1. 将处理好的衬底置于石英管中;
步骤2、往锥形瓶中加入适量的水,将橡胶导管浸没在水面以下,隔绝空气。由于单向阀具有防止水倒灌的功能,因此烧瓶中的水不会流入石英管;
步骤3、打开真空系统中的真空机械泵、罗茨泵和气动阀将石英管的气压抽至极限真空状态4 ~ 8×10-2 托(Torr)形成真空腔;
步骤4、保护气体流量控制器设定为5sccm,将氩气注入到真空腔中;
步骤5、5 分钟后,关闭保护气体流量控制器的阀门,将管式加热装置的气压抽至极限4 ~ 8×10-2 托(Torr);
步骤6、重复步骤3 和步骤4 的操作步骤2 ~ 3 次;直到将石英管的残余氧气驱赶干净;
步骤7、氢气体流量控制器设定5sccm,将氢气注入到石英管中;
步骤8、用加热石英将管式加热装置的温度升高到1000℃ ;
步骤9、甲烷气体流量控制器设定5sccm,将甲烷注入到真空腔中,时间为50 分钟;
步骤10、将管式加热装置的温度降至室温;
步骤11、关闭氢气体流量控制器和甲烷气体流量控制器的阀门以及真空机械泵、罗茨泵和气动阀,保护气体流量控制器设定为5sccm,用氩气将石英管气压充满到一个大气压状态;
步骤12、打开石英管真空接口(即法兰连接处),取出已沉积石墨烯的铜箔衬底。
二、在标准大气压下制备石墨烯,首先制作衬底,取一定尺寸的铜箔,用酒精、丙酮等有机溶剂清洗压焊后残留的污染物。其制备步骤包括:
步骤1、将处理好的衬底置于石英管中;
步骤2、往锥形瓶中加入适量的水,将橡胶导管浸没在水面以下,隔绝空气;
步骤3、打开真空系统中的真空机械泵、罗茨泵和气动阀将石英管的气压抽至极限真空状态4 ~ 8×10-2 托(Torr);
步骤4、保护气体流量控制器设定为5sccm,将氩气注入到真空腔中;
步骤5、5 分钟后,关闭保护气体流量控制器的阀门,将管式加热装置的气压抽至极限4 ~ 8×10-2 托(Torr);
步骤6、重复步骤3 和步骤4 的操作步骤2 ~ 3 次;直到将石英管的残余氧气驱赶干净;
步骤7、氢气体流量控制器设定5sccm,将氢气注入到石英管中;
步骤8、关闭空系统中的真空机械泵、罗茨泵和气动阀,停止抽真空。由于单向阀具有防止倒灌的作用,烧瓶中的水暂时不会流入石英管。几分钟后,烧瓶中开始有气泡冒出,表明石英管中的气压已达到1 个atm ;
步骤9、将管式加热装置的温度升高到1000℃ ;
步骤10、甲烷气体流量控制器设定5sccm,将甲烷注入到真空腔中,时间为50 分钟;
步骤11、将管式加热装置的温度降至室温;
步骤12、关闭氢气体流量控制器和甲烷气体流量控制器的阀门。保护气体流量控制器设定为5sccm,用氩气将石英管气压充满到一个大气压状态;
步骤13、打开石英管真空接口(即法兰连接处),取出已沉积石墨烯的铜箔衬底。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本实用新型,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本实用新型的精神和范围内,在形式上和细节上可以对本实用新型做出各种变化,均为本实用新型的保护范围。 

Claims (9)

1.一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:包括一石英管,所述石英管输入端通过第一法兰连接有充气系统,所述石英管输出端通过法兰分别连接有气压调节器和真空系统,所述石英管外包围有分段加热装置,所述分段加热装置包括第一加热装置和第二加热装置,所述第一加热装置和第二加热装置下方设有滑轨,滑轨上设有可以在该滑轨上滑动的第一滑块和第二滑块,所述第一滑块和第二滑块分别固定连接有第一电机和第二电机,第一电机和第二电机输出转轴均固定有锥齿轮,所述第一加热装置和第二加热装置上设有与该锥齿轮的齿纹啮合的斜齿圈,该锥齿轮转动时通过与斜齿圈啮合带动所述第一加热装置和第二加热装置绕石英管轴向旋转,所述滑轨两端设有两伸缩气缸,所述两伸缩气缸分别推动滑块第一滑块和第二滑块在滑轨上滑动,进而推动所述第一加热装置和第二加热装置相对所述石英管水平移动。
2.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述石英管输出端还连接有抽气装置,所述抽气装置由阀门和气泵组成,所述阀门两端通过导管分别与气泵和石英管输出端连接。
3.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:石英管的中部设有限位凸环,所述第一加热装置设置在限位凸环的左侧,所述第二加热装置设置在限位凸环的右侧,且所述第一加热装置和第二加热装置均为管式加热炉膛,所述石英管的输入端外露出所述第一加热装置的左侧,所述石英管的输出端外露出所述第二加热装置的右侧。
4.根据权利要求3所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述石英管的限位凸环上开设有配气环,所述配气环通过送气管道与充气系统连接,所述配气环上均匀设置有多个喷嘴。
5.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述的第一加热装置和第二加热装置均为气氛炉。
6.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述石英管输出端通过法兰连接一不锈钢导管一端,所述不锈钢导管上设有真空质量流量计,所述不锈钢导管另一端连接至所述真空系统。
7.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述气压调节器连接在不锈钢导管中部,所述气压调节器包括一单向阀,所述单向阀输入端连接该不锈钢导管,所述单向阀输出端连接有一橡胶导管,所述橡胶导管输出口浸没在一锥形瓶内。
8.根据权利要求7所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:所述单向阀由密封法兰、过压阀、弹簧和橡皮圈组成,所述密封法兰连接不锈钢导管,所述弹簧连接密封法兰和过压阀,所述过压阀和密封法兰连接处设有橡皮圈,过压阀在弹簧张力下紧压密封法兰。
9.根据权利要求1所述的一种带滑轨的用于制备石墨烯的化学气相沉积装置,其特征在于:还包括一计算机控制系统,所述计算机控制系统包括一中央处理器、I/O 接口模块、A/D 转换器、存储器、液晶显示器和若干传感器,所述若干传感器分别设置在加热装置、石英管、充气系统、真空系统和气压调节器上,并经A/D 转换器转换后再通过I/O 接口模块与中央处理器输入端相连接,所述存储器通过地址总线与中央处理器的输入端连接,所述液晶显示器通过并行接口连接中央处理器的输出端。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104773724A (zh) * 2015-04-09 2015-07-15 玉林师范学院 基于气相动力学平衡的石墨烯化学气相沉积法制备方法
RU2704691C1 (ru) * 2018-07-18 2019-10-30 Общество с ограниченной ответственностью "КАРСИ" (ООО "КАРСИ") Система химического осаждения из газовой фазы для роста графена
CN110184585A (zh) * 2019-06-25 2019-08-30 福建闽烯科技有限公司 一种石墨烯铜粉的制备方法及装置
CN110184585B (zh) * 2019-06-25 2023-04-18 福建闽烯科技有限公司 一种石墨烯铜粉的制备方法及装置
CN112050621A (zh) * 2020-08-21 2020-12-08 深圳前海石墨烯产业有限公司 管式炉及其控制方法
CN113061876A (zh) * 2021-02-24 2021-07-02 厦门仝希科技有限公司 一种cvd法制备石墨烯用基底金属薄片加热装置
CN113061876B (zh) * 2021-02-24 2022-07-01 株洲瑞德尔智能装备有限公司 一种cvd法制备石墨烯用基底金属薄片加热装置

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