CN203760432U - 一种湿法刻蚀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，包括储液管、设置在储液管外壁上的若干喷射单元以及设置在所述喷射单元下方的传输部件；工作时，在吸液泵的作用下，设置在传输部件上方的吸液管通过设置在管壁上的吸液孔能够有效对积聚在基板上的刻蚀液进行吸除，以保证刻蚀的均匀性，提高产品的良率。而且，传输部件可选用水平传输部件，比在水平方向上设置倾斜角的传输部件设备精度要求低，能有效降低设备成本。

Description

一种湿法刻蚀设备

技术领域

本实用新型涉及平板显示装置制造领域，具体涉及一种用于基板刻蚀的湿法刻蚀设备。

背景技术

湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术，具体为通过刻蚀液与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的刻蚀物部分脱离基板表面，而把有光刻胶覆盖的刻蚀物区域保存下来，这样在基板上得到了所需要的刻蚀物图形。

湿法刻蚀设备一般是在湿法刻蚀槽内利用酸性液体通过喷嘴对待刻蚀基板进行喷淋，从而达到刻蚀目的。随着平板显示行业中基板尺寸的增大，在湿法刻蚀过程中，基板表面积聚的药液越来越多从而使得基板表面的药液置换性变差，从而导致设置在基板上的刻蚀物刻蚀的均一性变差，严重影响产品的良率。

中国专利文献CN101814424A公开了一种基板处理装置，所述基板处理装置包括基板输送路径，所述基板输送路径具有形成水平的输送路径的第1输送区间、形成与上述第1输送区间连续的向上倾斜的输送路径的第2输送区间、和形成与上述第2输送区间连续的向下倾斜的输送路径的第3输送区间；即，在基板的搬送过程中，基板会出现一定角度的倾斜，可便于积聚在基板上的刻蚀液或其他液体流出，以改善基板表面液体的置换率。但是，上述基板处理装置需要合理设计的不同传送轴之间的相对高度，在不影响基板搬运的前提下，能够使得基板在搬送过程中呈现一定的角度可以使得刻蚀液或其他液体流出，设备精度要求高。另外，若在湿法刻蚀设备中采用该技术，基板倾斜时，基板水平高度较低的一端相对水平高度较高的一端接触刻蚀液 的时间长，接触刻蚀液的量多，从而使得基板水平高度较低的一端刻蚀速率大，从而影响基板刻蚀的均匀性。

实用新型内容

为此，本实用新型所要解决的是现有湿法刻蚀设备中，基板表面刻蚀液置换率差，导致刻蚀不均匀，影响产品良率的问题，提供一种基板表面刻蚀液置换率高的湿法刻蚀设备。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案如下：

本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，包括储液管、设置在储液管外壁上的若干喷射单元以及设置在所述喷射单元下方的传输部件，待刻蚀的基板设置在所述传输部件上，所述喷射单元的喷射方向朝向所述基板的上平面，其特征在于，所述湿法刻蚀设备还包括与吸液管连接的储液箱，所述基板的上方设置有吸液管，所述吸液管的管壁上设置有若干吸液孔，所述吸液管与储液箱连接。

所述吸液管通过设置有第一吸液泵的管路连接到储液箱，所述储液箱通过设置有第二吸液泵的管路连接至储液管。

所述基板下方还设置有储液槽，所述储液槽通过管路连通至所述储液箱。

所有所述喷射单元设置在同一水平高度上。

所述吸液管的轴向与所述传输部件所在平面平行，所述吸液管的长度方向与所述基板的传输方向相垂直。

每个所述吸液管均设置在相邻两个所述喷射单元之间。

所述吸液管与所述基板之间的预留间隙为0.5～5毫米。

所述吸液孔的孔径为2～3mm。

所述吸液管的长度小于或等于所述基板的宽度。

所有所述吸液管处于同一水平高度上。

本实用新型的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：

1、本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，包括储液管、设置在储液管外壁上的若干喷射单元以及设置在所述喷射单元下方的传输部件；工作时，在第一吸液泵的作用下，设置在基板上方的吸液管通过设置在管壁上的吸液孔能够有效对积聚在基板上的刻蚀液进行吸除，以保证刻蚀的均匀性，提高产品的良率。

2、本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，传输部件可选用水平传输部件，比在水平方向上设置倾斜角的传输部件设备精度要求低，可以降低设备成本。

3、本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，吸液管与所述基板之间的预留间隙为0.5～5mm毫米，大致等于积聚在所述基板上方的刻蚀液的深度，即吸液管可以浸没于积聚在基板上的刻蚀液中，能有效吸除积聚的刻蚀液，提高刻蚀的均匀性。

4、本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，所述吸液管优选处于同一水平高度上，能够均匀除去积聚在基板上的刻蚀液，以保证刻蚀的均匀性。而且，每个所述吸液管均设置在相邻两个所述喷射单元之间，尽可能减少吸液管对所述喷射单元的喷射范围产生阻挡，使得刻蚀液均匀分布，以增加刻蚀的均匀性。

5、本实用新型所述的一种湿法刻蚀设备，基板下方设置有储液槽，从基板表面溢出的刻蚀液可以流到储液槽中，储液槽通过管路连接至储液箱，使得刻蚀液充分回收。储液槽通过设置有第二吸液泵的管路连接至储液管，这就使得被吸液管吸除的刻蚀液能够循环使用，降低了生产成本，提高了经济效益。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解，下面根据本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中

图1是本实用新型所述湿法刻蚀设备结构示意图；

图2是图1中吸液管的结构示意图。

图中附图标记表示为：1-储液管、2-喷射单元、3-传输装置、4-吸液管、41-吸液孔、5-基板、61-第一吸液泵、62-第二吸液泵、7-储液箱、8-储液槽。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型的实施方式作进一步地详细描述。

本实用新型可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本实用新型的构思充分传达给本领域技术人员，本实用新型将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当部件例如基板被称作“形成在”或“设置在”另一部件“上”时，该部件可以直接设置在所述另一部件上，或者也可以存在中间部件。相反，当部件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一部件上时，不存在中间部件。

本实施例提供一种湿法刻蚀设备，如图1所示，包括储液管1、设置在储液管1外壁上的若干喷射单元2以及设置在所述喷射单元2下方的传输部件3，所述喷射单元2的喷射方向与所述基板5的上平面之间的夹角α为0°<α<180°，优选80°-100°，且所有喷射单元2设置在同一水平高度上，待刻蚀的基板5设置在所述传输部件3上。工作时，贮存在所述储液管1中的刻蚀液通过设置在所述储液管1中的喷射单元2垂直喷射到设置在所述传输部件3上的基板5上，对所述基板5进行湿法刻蚀。

作为本实用新型的其他实施例，各所述喷射单元2也可以设置在不同水平高度上，均可以实现本实用新型的目的，属于本实用新型的保护范围。

本实施例中，所述传输部件3优选为水平传输部件，即，在基板5的传输过程中，所述基板5始终处于同一水平面上，所述传输部件3选用水平传输部件，比在水平方向上设置倾斜角的传输部件设备精度要求低，可以降低设备成本。

所述传输部件3上方水平设置若干吸液管4，所述吸液管4的轴向与所述传输部件3所在平面平行；如图2所示，所述吸液管4的管壁上设置有若干吸液孔41，所述吸液管4通过设置有第一吸液泵61的管路连接到储液箱7。

所述吸液管4的长度方向与所述基板5的传输方向相垂直。

所述吸液管4与所述传输部件3的垂直间距比所述基板5的厚度大0.5～5毫米，即在所述吸液管4与所述基板5之间预留0.5～5毫米的间隙。本实施例中所述基板5优选厚度为0.5mm的玻璃基板，所述吸液管4设置在所述基板5上，所述吸液管4与所述基板5所在平面的垂直间距为2mm。

所述吸液孔41的孔径为2～3mm。

所述吸液管4的长度小于等于所述基板5的宽度，本实施例中，待刻蚀的所述基板5的宽度为1500mm，所述吸液管4的长度优选为1500mm。

工作时，所述喷射单元2喷射的刻蚀液会在基板5上积聚，形成3～5mm深的刻蚀液，在第一吸液泵61的作用下，浸没在刻蚀液液面下的所述吸液管4通过设置在管壁上的吸液孔41对积聚的刻蚀液进行吸除，并通过管道贮存于储液箱7中。

本实施例中，所有所述吸液管4优选处于同一水平高度上，可以均匀除去积聚在所述基板5上的刻蚀液，以保证刻蚀的均匀性。而且，每个所述吸液管4均设置在相邻两个所述喷射单元2之间，尽可能减少吸液管4对所述喷射单元2的喷射范围产生阻挡，使得刻蚀液均匀分布，以增加刻蚀的均匀性。

另外，所述基板5下方还设置有储液槽8，工作时，从基板5表面溢出的刻蚀液可以流到储液槽8中，储液槽8通过管路连接至储液箱7，使得刻蚀液充分回收。

本实施例中，所述储液箱7通过设置有第二吸液泵62的管路连接至储液管1，这就使得被所述吸液管4吸除的刻蚀液以及从所述基板5表面溢出的刻蚀液能够循环使用，降低了生产成本，提高了经济效益。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种湿法刻蚀设备，包括储液管(1)、设置在储液管(1)外壁上的若干喷射单元(2)以及设置在所述喷射单元(2)下方的传输部件(3)，待刻蚀的基板(5)设置在所述传输部件(3)上，所述喷射单元(2)的喷射方向朝向所述基板(5)的上平面，其特征在于，所述湿法刻蚀设备还包括与吸液管(4)连接的储液箱(7)，所述基板(5)的上方设置有吸液管(4)，所述吸液管(4)的管壁上设置有若干吸液孔(41)，所述吸液管(4)与储液箱(7)连接。

2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述吸液管(4)通过设置有第一吸液泵(61)的管路连接到储液箱(7)，所述储液箱(7)通过设置有第二吸液泵(62)的管路连接至储液管(1)。

3.根据权利要求1或2所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述基板(5)下方还设置有储液槽(8)，所述储液槽(8)通过管路连通至所述储液箱(7)。

4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所有所述喷射单元(2)设置在同一水平高度上。

5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述吸液管(4)的轴向与所述传输部件(3)所在平面平行，所述吸液管(4)的长度方向与所述基板(5)的传输方向相垂直。

6.根据权利要求5所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，每个所述吸液管(4)均设置在相邻两个所述喷射单元(2)之间。

7.根据权利要求6所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述吸液管(4)与所述基板(5)之间的预留间隙为0.5～5毫米。

8.根据权利要求7所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述吸液孔(41)的孔径为2～3mm。

9.根据权利要求8所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述吸液管(4) 的长度小于或等于所述基板(5)的宽度。

10.根据权利要求9所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所有所述吸液管(4)处于同一水平高度上。