CN202390537U - 真空蚀刻机 - Google Patents

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Abstract

本实用新型实施例公开了一种真空蚀刻机，包括：机体、药水槽、设置于机体内部的相互配合输送板件的上输送滚轮和下输送滚轮以及分别设置于板件移动路径的上方和下方的上喷淋机构和下喷淋机构，蚀刻机还设置有多个用于吸取残留于板件上表面的药水的吸液机构。本实用新型的蚀刻机可通过吸液机构及时排出上板面的药水，提高上板面蚀刻的均匀性，提高上板面线路蚀刻因子，提高整体的蚀刻速度。

Description

真空蚀刻机
技术领域
本实用新型涉及电路板加工领域，尤其涉及一种真空蚀刻机。
背景技术
现有的蚀刻机包括：机身、上喷淋架、下喷淋架及输送滚轮等组件。其工作原理如下：生产板放在输送滚轮上经过上、下喷淋架，喷淋架喷洒的药水蚀刻掉生产板上、下表面的未用抗蚀层遮挡的材料，得到所需的生产板线路。现有的蚀刻机存在以下缺点：在蚀刻过程中喷洒到上板面的药水因不能及时排走，会在生产板的中间越积越多，影响蚀刻速度，每个位置的积水存在不同，对上喷淋的阻挡程度也会存在差异，导致整个生产板上板面蚀刻不均匀；上喷淋架喷洒在生产板面的药水因不能及时排走，会导致喷淋的药水不能直接喷洒在生产板线路上，会增加线路侧蚀量，降低线路的蚀刻因子。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种真空蚀刻机，可及时吸走生产板的上板面的药液。
为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种真空蚀刻机，包括：机体、药水槽、设置于机体内部的相互配合输送板件的上输送滚轮和下输送滚轮以及分别设置于板件移动路径的上方和下方的上喷淋机构和下喷淋机构，所述蚀刻机还包括多个用于吸取残留于板件上表面的药水的吸液机构。
进一步地，所述吸液机构包括：泵体、多个与泵体的出口端相连接的射流器以及多个分别与对应的射流器的导气管相连接的通过射流产生的真空负压吸取上板面的药水的吸液刀。
进一步地，所述泵体的进口端和所述射流器的射流管均与所述药水槽连通。
进一步地，所述吸液刀的两端分别通过连接件安装在所述上输送滚轮的两根滚轮轴上且随所述滚轮轴上、下移动。
本实用新型的真空蚀刻机通过设置吸液机构可及时地吸走排出板件上表面的药水，提高上板面蚀刻的均匀性，提高上板面线路蚀刻因子，提高整体的蚀刻速度。
附图说明
图1是本实用新型实施例的真空蚀刻机的主视图。
图2是本实用新型实施例的真空蚀刻机的侧视图。
具体实施方式
参照图1和图2对本实用新型的真空蚀刻机进行说明。
如图所示本实用新型的真空蚀刻机包括：机体2、药水槽3、上输送滚轮4、下输送滚轮5、上喷淋机构6、下喷淋机构7以及多个吸液机构。其中，药水槽3、上输送滚轮4、下输送滚轮5、上喷淋机构6、下喷淋机构7以及吸液机构均设置于机体2内部。上输送滚轮4和下输送滚轮5之间形成一输送面，将板件放置于上输送滚轮4和下输送滚轮5之间，通过上输送滚轮4和下输送滚轮5相互配合可将板件从机体2的一端输送到另一端。上输送滚轮4和下输送滚轮5均由滚轮轴和与滚轮轴转动连接的多根滚轮组成。上喷淋机构6和下喷淋机构7分别设置于板件移动路径的上方和下方，均由喷淋管和设置于喷淋管上的多个喷嘴组成。当板件放置在上输送滚轮4和下输送滚轮5之间进行输送时，上喷淋机构6和下喷淋机构7的喷淋头喷洒出的药水将板件上、下表面未用抗蚀层遮挡的材料蚀刻掉，进而得到所需的线路图形。喷洒出的药水流入药水槽3后经处理可循环使用。
吸液机构用于吸取板件的上表面汇聚的药水并将药水排入药水槽3。吸液机构包括：泵体11、多个射流器12以及多个分别与对应的射流器12相连接的吸液刀13。泵体11的进口端111与药水槽3相连通，泵体11的出口端112分别与多个射流器12的进水口相连接。射流器12的射流管122与药水槽3相连通，射流器12的导气管121通过导管与对应的吸液刀13相连接，导管包括可随吸液刀13上、下移动的软导管。具体实施时，泵体11将药水从药水槽3中抽出，并以高速从射流器12的射流管122射入药水槽3，高速流动的药液通过射流器12时会在其内部的混气室内形成真空，此时射流器12的混气室与外部形成负压，吸液刀13将外部板件上的药水吸入导气管121并通过射流管122射入药水槽3，进而实现了板件上表面药水的吸取、排出再利用。吸液刀13的两端分别通过连接件8安装在上输送滚轮4的两根滚轮轴上且随滚轮轴上、下移动，以保持吸液刀13与板件的上板面的距离，达到最佳的吸水效果。
本实用新型的真空蚀刻机通过设置吸液机构可及时地排出上板面的药水，提高上板面蚀刻的均匀性，提高上板面线路蚀刻因子，提高整体的蚀刻速度。同时吸取的药水通过射流器12喷入药水槽3内，进行处理后可循环使用。
以上所述是本实用新型的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种真空蚀刻机，包括：机体、药水槽、设置于机体内部的相互配合输送板件的上输送滚轮和下输送滚轮以及分别设置于板件移动路径的上方和下方的上喷淋机构和下喷淋机构，其特征在于，所述蚀刻机还包括多个用于吸取残留于板件上表面的药水的吸液机构。
2.如权利要求1所述的真空蚀刻机，其特征在于，所述吸液机构包括：泵体、多个与泵体的出口端相连接的射流器以及多个分别与对应的射流器的导气管相连接的通过射流产生的真空负压吸取上板面的药水的吸液刀。
3.如权利要求2所述的真空蚀刻机，其特征在于，所述泵体的进口端和所述射流器的射流管均与所述药水槽连通。
4.如权利要求2所述的真空蚀刻机，其特征在于，所述吸液刀的两端分别通过连接件安装在所述上输送滚轮的两根滚轮轴上且随所述滚轮轴上、下移动。
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