CN203480455U - 触控用电极结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种触控用电极结构,包括一可挠性基板以及多个电极线,其中电极线包括一第一接着层、一第二接着层、一导电层、一第一抗蚀层以及一第二抗蚀层。借此上述配置,本实用新型触控用电极结构可利用第一接着层与可挠性基板产生强力附着,加上第二接着层强化第一接着层与导电层的粘着性,进而使导电层可稳固附着于可挠性基板上,即使基板形状改变也不易脱落。本实用新型也提供可将反射的金属光泽散射至不同角度使人眼不易于观察到及降低背光干涉的电极结构。
Description
技术领域
本实用新型是关于一种触控用电极结构,特别是指一种用于可挠性触控面板的电极结构。
背景技术
现有触控面板为了让电极不易被视认,所以普遍使用氧化铟锡(ITO)来形成电极。但随着触控面板逐渐往大尺寸发展,使用氧化铟锡的电极具有一些不利的因素,例如电阻大、触控回应速度慢等。因此,已有从业人员尝试以金属细线来构成电极。
一般以金属导体形成电极的触控面板,由于金属导体与一般常用基板之间附着力不佳,因此常常发生电极脱落的现象,进而影响触控面板表现,若是应用于可挠式触控面板上,更会因为基板的形状在环境条件变化下常常改变而加剧电极脱落现象的发生。
此外,金属导体极易产生金属光泽反光,使人眼易观察到金属导体的存在。因此,发展一种于可挠式触控面板上形成电极时可避免脱落的电极结构,同时具有不易被看见的特性,实乃为本领域亟需努力的目标。
发明内容
本实用新型的目的在提供一种触控用电极结构,能提供一种可稳固附着于可挠性基板,同时降低金属反光的触控用电极结构。
本实用新型提供一种触控用电极结构,包括一可挠性基板以及多个电极线,而电极线乃设置于可挠性基板上,其中电极线包括一第一接着层,设置于该可挠性基板上;一第二接着层,设置于该第一接着层上;一导电层,设置于该第二接着层上;以及一第一抗蚀层,设置于该导电层上。
上述的触控用电极结构,其中该第一接着层、该第二接着层、该导电层及该第一抗蚀层在该可挠性基板上形成一阶梯状表面。
本实用新型的一较佳实施例,其中电极线可还包含一第二抗蚀层,第二抗蚀层至少覆盖导电层的侧边,也可完整地覆盖第一抗蚀层、导电层、第二接着层以及第一接着层于可挠性基板上。第二抗蚀层可将光线反射至不同角度,使人眼无法接触到反射光,借此达到抗反射的效果。
上述的触控用电极结构,其中该第二抗蚀层为具有阶梯状表面的薄层。
上述的触控用电极结构,其中该第二抗蚀层具有颗粒状表面,且所形成的颗粒直径范围介于300至800nm之间。
上述的触控用电极结构,其中该第二抗蚀层为具有曲面的薄层。
上述的触控用电极结构,其中该第一接着层、该第二接着层、该导电层及该第一抗蚀层具有不平整表面。
上述的触控用电极结构,其中形成该可挠性基板的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亚胺、聚亚苯基砜、聚酰亚胺及其复合材料所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中形成该第一接着层的材料包括高分子材料、氧化物材料、金属材料及其复合材料所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该高分子材料包含压克力、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亚胺、聚亚苯基砜、聚酰亚胺及其复合材料所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该氧化物材料包含氧化钛、氧化钽、氧化硅、氧化铝及其复合材料所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该金属材料包含铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中形成该第二接着层的材料包括铜、银、钼、镍、铬、钛、锡、锌、铝、铁及其合金所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中形成该导电层的材料包括铜、金、银、铝、钨、铁、镍、铬、钛、钼、锡、锌及其合金所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中形成该第一抗蚀层的材料包括铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中形成该第二抗蚀层的材料包括氧化物材料、高分子材料、碳及其复合物所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝及其复合物所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该高分子材料包括压克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚对苯二甲酸乙二酯及其复合物所组成的群组其中之一。
上述的触控用电极结构,其中该第一接着层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该第二接着层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该导电层的厚度为0.001μm至5μm之间,及该第一抗蚀层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该第二抗蚀层的厚度为0.001μm至1μm之间。
上述的触控用电极结构,其中该第一接着层的反射率系介于1%至50%之间,及该第二接着层的反射率介于1%至50%之间,及该第一抗蚀层的反射率介于1%至50%之间,及该第二抗蚀层的反射率介于1%至50%之间,及该第一接着层与该第二接着层的总反射率在30%以下,及该第一抗蚀层与该第二抗蚀层的总反射率在30%以下。
上述的触控用电极结构,其中该导电层为一种纯金属材料,且该第二接着层的材料成分中具有50%以上的该纯金属材料,且该第一接着层的材料成分中具有50%以下的该纯金属材料。
在本实用新型触控用电极结构的电极线中,第一接着层用于提高对可挠性基板的附着性,第二接着层用于提高导电层与第一接着层的粘着性。
借助于上述配置,本实用新型触控用电极结构可利用第一接着层与可挠性基板产生强力附着,加上第二接着层强化第一接着层与导电层的粘着性,进而使导电层可稳固附着于可挠性基板上,即使基板形状改变也不易脱落。再者,借助于控制各层蚀刻率以产生阶梯状表面的电极结构,可进一步将光线散射,降低被看见的可能性。
为了能更进一步了解本实用新型所采取的技术、方法及功效,请参阅以下有关本实用新型的详细说明、附图,相信本实用新型的目的、特征与特点,当可由此得以深入且具体的了解,然而附图与说明仅提供参考与说明用,并非用来对本实用新型的保护范围加以限制。
附图说明
图1是本实用新型较佳实施例1的触控用电极结构的剖面图;
图2是本实用新型较佳实施例2的触控用电极结构的剖面图;
图3是本实用新型较佳实施例3的触控用电极结构的剖面图;
图4是本实用新型较佳实施例4的触控用电极结构的剖面图;
图5是本实用新型较佳实施例5的触控用电极结构的剖面图;
图6是应用本实用新型触控用电极结构的触控装置示意图。
【主要元件附图标记说明】
11 可挠性基板
12 第一接着层
13 第二接着层
14 导电层
15 第一抗蚀层
19 电极线
26 第二抗蚀层
36 第二抗蚀层
46 第二抗蚀层
52 第一接着层
53 第二接着层
54 导电层
55 第一抗蚀层
56 第二抗蚀层
具体实施方式
以下将通过实施例来解释本实用新型的一种触控用电极结构。需要说明的是,本实用新型的实施例并非用以限制本实用新型需在如下所述的任何特定的环境、应用或特殊方式才能实施。因此,关于实施例的说明仅为阐释本实用新型的目的,而非用以限制本实用新型的保护范围。
请参考图1,为本实用新型较佳实施例1的触控用电极结构的剖面图。在此实施例中,本实用新型触控用电极结构包含一可挠性基板11以及多条电极线19(图1仅示出一条),于实际应用中电极线19可并列设置于可挠性基板11上。其中电极线19包括一第一接着层12,设置于可挠性基板11上;一第二接着层13,设置于第一接着层12上;一导电层14,设置于第二接着层13上;以及一第一抗蚀层15,设置于导电层14上。
详细而言,第一接着层12被覆于可挠性基板11上,用于提高对可挠性基板11的附着性,并具有抗反射、抗干涉、抗彩虹纹、耐磨、抗刮痕以及提高人眼观察舒适度等效用;第二接着层13被覆于第一接着层12上,用于提高导电层14与第一接着层12之间的粘着性,并维持电极线19整体的导电率;导电层14被覆于第二接着层13上,主要用于导电;第一抗蚀层15被覆于导电层14上,其抗蚀性较导电层14为佳,可避免导电层14于制作时(蚀刻)被严重侧蚀,以使电极线19可保有正常线宽。
整体而言,第一接着层12能够与可挠性基板11形成强附着力,加上第二接着层13可促进第一接着层12与导电层14之间的附着力,此双层接着结构可让导电层14稳固附着于可挠性基板11上,不易脱落,并具有抗反射、抗干涉、抗彩虹纹、耐磨、抗刮痕以及提高人眼观察舒适度等效用;而第一抗蚀层15可以延缓金属电极的氧化或腐蚀。
为了达到上述功效,形成可挠性基板11的材料可包括聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯亚胺(PEI)、聚亚苯基砜(PPSU)、聚酰亚胺(PI)等及其复合材料所组成的群组其中之一。
再者,形成第一接着层12的材料包括高分子材料、氧化物材料、金属材料及其复合材料所组成的群组其中之一,详细而论,高分子材料用以提高第一接着层12与可挠性基板11的附着性,氧化物材料用以抗反射、抗干涉、抗彩虹纹、耐磨以及抗刮痕,金属材料则用以提高第一接着层12与第二接着层13的附着性。高分子材料可包含压克力、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亚胺、聚亚苯基砜、聚酰亚胺及其复合材料所组成的群组其中之一;氧化物材料可为非晶型或多晶型的氧化物薄膜或粉末,可包含氧化钛、氧化钽、氧化硅、氧化铝及其复合材料所组成的群组其中之一;金属材料则可包含铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一。需要强调的是,上述高分子材料、氧化物材料及金属材料三者皆可单独使用或是以两/三种材料而形成混合或多层的复合材料,例如:高分子与氧化物材料的复合材料、高分子与金属的复合材料、氧化物与金属的复合材料、高分子与氧化物与金属的复合材料等,若使用复合材料,其比例范围为高分子材料10-90%、氧化物材料10-90%、金属材料10-90%。其中氧化物材料也可为一多层的复合材料,于一较佳实施例中,可选用氧化硅厚度900nm、氧化钛厚度100nm的多层氧化物。此外,整体而言,第一接着层12的厚度较佳在0.001μm至1μm的范围之间,而且第一接着层12具有一反射率范围为介于1%至50%之间,较佳反射率则在30%以下。
在本实用新型中,形成第二接着层13的材料可包括铜、银、钼、镍、铬、钛、锡、锌、铝、铁及其合金所组成的群组其中之一,其厚度较佳在0.001μm至1μm的范围之间。第二接着层13具有一反射率范围为介于1%至50%之间,较佳反射率则在30%以下。此外,以整体来看,第一接着层12与第二接着层13的总反射率须在30%以下为佳。
在本实用新型中,形成导电层14的材料可包括铜、金、银、铝、钨、铁、镍、铬、钛、钼、锡、锌及其合金所组成的群组其中之一,其厚度较佳在0.001μm至5μm的范围之间。
为达到接着性与导电性的最佳化,若导电层14为一种纯金属材料,则第二接着层13的材料成分中具有50%以上的该纯金属材料,且第一接着层12的材料成分中具有50%以下的该纯金属材料。于一较佳实施例中,导电层14可为纯铜导线,第一接着层12可为镍铜铬铁合金,其中镍、铜、铬、铁的成分比例约为60:30:10:0或80:10:5:5,第一接着层12也可包含其他微量元素如硅、磷等;另外,第二接着层13则为铜镍铬合金,第二接着层13中铜、镍、铬的成分比例为60:30:10,然而第二接着层13也可包含其他微量元素如硅、磷等。
在本实用新型中,形成第一抗蚀层15的材料可包括铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一,于一较佳实施例中,其厚度较佳在0.001μm至1μm的范围之间。第一抗蚀层15具有一反射率范围为介于1%至50%之间,较佳反射率则在30%以下。
于制造本实用新型电极结构的过程中,借此控制各层蚀刻率可将第一接着层12、第二接着层13、导电层14、第一抗蚀层15于可挠性基板11上形成一阶梯状表面(如图1所示),由于此阶梯状表面为一不规则形状,所以当光线自电极表面反射,反射光线会散射至不同角度,使人眼不易观察到电极结构的存在。
图2是本实用新型较佳实施例2的触控用电极结构的剖面图。于本实用新型中,电极线19可还包含一第二抗蚀层26,设置于第一抗蚀层15上,第二抗蚀层26至少需包覆到导电层14的侧边,也可视情况需要,完整包覆第一抗蚀层15、导电层14、第二接着层13以及第一接着层12于可挠性基板11上。第二抗蚀层26包覆于第一抗蚀层15上,目的在于提高导电层14的抗腐蚀性、减少金属电极受异物摩擦损坏的机会并降低金属电极正面和侧面的反光。
在本实用新型中,形成第二抗蚀层26的材料可包括氧化物材料、高分子材料及其复合物所组成的群组其中之一。氧化物材料可包含氧化硅、氧化钛、氧化铝及其复合物所组成的群组其中之一;而高分子材料可包括压克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚对苯二甲酸乙二酯、碳及其复合物所组成的群组其中之一。若使用复合材料,其比例范围为高分子材料10-90%、氧化物材料10-90%。此外,整体而言,第二抗蚀层26的厚度较佳在0.001μm至1μm的范围之间。第二抗蚀层26具有一反射率范围为介于1%至50%之间,较佳反射率则在30%以下。此外,以整体来看,第一抗蚀层15与第二抗蚀层26的总反射率须在30%以下为佳。
图3是本实用新型较佳实施例3的触控用电极结构的剖面图。图4是本实用新型较佳实施例4的触控用电极结构的剖面图。图3、图4与图2的差异点在于,图3的第二抗蚀层36为具有阶梯状表面的薄层。图4的第二抗蚀层46具有颗粒状表面,其形成的颗粒直径小于900nm,且较佳直径范围介于300至800nm的间。图2的第二抗蚀层26则为具有曲面的薄层。第二抗蚀层26、36、46除了可防止电极腐蚀外,还具有降低金属电极反光的效果。图5是本实用新型较佳实施例5的触控用电极结构的剖面图。比对图5与图2,二者电极结构皆有曲面薄层的第二抗蚀层26、56,但是图5与图2不同之处在于,第一接着层52、第二接着层53、导电层54、第一抗蚀层55,皆具有不平整表面,如此可进一步降低金属电极反光的效果。
需说明的是,上述各元件所使用的材料以及较佳厚度仅为详述各元件欲达到的功效而举例说明,并非用以限制本实用新型的保护范围,只要可达到相同功效,材料及厚度皆不以此为限。
接下来请参考图6,是应用本实用新型触控用电极结构的触控装置示意图。由图可见本实用新型触控用电极结构的可挠式基板11及多个电极线19于实际应用时的概况,图6中可挠式基板11上、下表面的电极线19彼此绝缘重叠,当电极线19导电后,可进行电容值侦测。需强调的是,图6中电极线19突出可挠性基板11仅为方便示意,并非实际情况。
综上所述,本实用新型可提供一种触控用电极结构,利用第一接着层12与可挠性基板11产生强力附着,加上第二接着层13强化第一接着层12与导电层14的粘着性,使电极线19可稳固粘着于可挠性基板11上,再配合第一抗蚀层15延缓导电层14的氧化或腐蚀,第二抗蚀层26、36、46、56则至少包覆导电层14的侧边,此双重保护机制可有效防止电极氧化或接触水气而腐蚀,延长寿命。由于本实用新型的电极结构具有一阶梯状表面,所以可降低金属电极的反光,若加上利用氧化物材料形成第二接着层13及第二抗蚀层26、36、46、56,更可抗反射、抗干涉、抗彩虹纹,达到视觉舒适的需求。
以上所述仅为本实用新型的较佳可行实施例,凡依本实用新型所做的均等变化与修饰,皆应属本实用新型的涵盖范围。
Claims (21)
1.一种触控用电极结构,其特征在于,包括:
一可挠性基板;以及
多个电极线,设置于该可挠性基板上,其中该多个电极线至少其中之一包括:
一第一接着层,设置于该可挠性基板上;
一第二接着层,设置于该第一接着层上;
一导电层,设置于该第二接着层上;以及
一第一抗蚀层,设置于该导电层上。
2.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第一接着层、该第二接着层、该导电层及该第一抗蚀层在该可挠性基板上形成一阶梯状表面。
3.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该多个电极线至少其中之一还包含一第二抗蚀层,该第二抗蚀层至少覆盖该导电层的侧边。
4.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第二抗蚀层为具有阶梯状表面的薄层。
5.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第二抗蚀层具有颗粒状表面,且所形成的颗粒直径范围介于300至800nm之间。
6.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第二抗蚀层为具有曲面的薄层。
7.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第一接着层、该第二接着层、该导电层及该第一抗蚀层具有不平整表面。
8.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该可挠性基板的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亚胺、聚亚苯基砜、聚酰亚胺及其复合材料所组成的群组其中之一。
9.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该第一接着层的材料包括高分子材料、氧化物材料、金属材料及其复合材料所组成的群组其中之一。
10.根据权利要求9所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该高分子材料包含压克力、聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯亚胺、聚亚苯基砜、聚酰亚胺及其复合材料所组成的群组其中之一。
11.根据权利要求9所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该氧化物材料包含氧化钛、氧化钽、氧化硅、氧化铝及其复合材料所组成的群组其中之一。
12.根据权利要求9所述的触控用电极结构,其中该金属材料包含铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一。
13.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该第二接着层的材料包括铜、银、钼、镍、铬、钛、锡、锌、铝、铁及其合金所组成的群组其中之一。
14.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该导电层的材料包括铜、金、银、铝、钨、铁、镍、铬、钛、钼、锡、锌及其合金所组成的群组其中之一。
15.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该第一抗蚀层的材料包括铜、银、铝、钼、镍、铬、钛、硅、锡、锌、铁及其合金所组成的群组其中之一。
16.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中形成该第二抗蚀层的材料包括氧化物材料、高分子材料、碳及其复合物所组成的群组其中之一。
17.根据权利要求16所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该氧化物材料包括氧化硅、氧化钛、氧化铝及其复合物所组成的群组其中之一。
18.根据权利要求16所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该高分子材料包括压克力、烷基苯并咪唑混合物、烷基苯并咪唑化合物、聚对苯二甲酸乙二酯及其复合物所组成的群组其中之一。
19.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第一接着层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该第二接着层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该导电层的厚度为0.001μm至5μm之间,及该第一抗蚀层的厚度为0.001μm至1μm之间,及该第二抗蚀层的厚度为0.001μm至1μm之间。
20.根据权利要求3所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该第一接着层的反射率介于1%至50%之间,及该第二接着层的反射率介于1%至50%之间,及该第一抗蚀层的反射率介于1%至50%之间,及该第二抗蚀层的反射率介于1%至50%之间,及该第一接着层与该第二接着层的总反射率在30%以下,及该第一抗蚀层与该第二抗蚀层的总反射率在30%以下。
21.根据权利要求1所述的触控用电极结构,其特征在于,其中该导电层为一种纯金属材料,且该第二接着层的材料成分中具有50%以上的该纯金属材料,且该第一接着层的材料成分中具有50%以下的该纯金属材料。
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CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20140312 Termination date: 20180730 |
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