CN201211562Y - 一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模 - Google Patents
一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型涉及一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模，本实用新型包括上凸模基体、强导磁块和弱导磁块，其特征在于：上凸模基体工作面的中心部位内侧镶嵌有强导磁块，上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有弱导磁块，在上凸模基体的工作表面镶嵌有一薄膜层。本实用新型了改善成型磁场分布的合理性，有效降低干压磁瓦在装配使用中的磁扭矩力，提高中心场磁性能，较老式弓形结构模具生产的磁瓦，磁扭矩力降低50－60％，中心场磁性能Br值提升5－15％。本实用新型尤其适用于成型型腔对角线长度小于10cm的干压磁瓦的生产。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模。
技术背景
永磁铁氧体干压磁瓦的成型过程，就是将已制备好的磁性料粉充填入模具型腔，在合模的同时开启磁场取向，一边使型腔内的粉料按外加磁场的走向有序排列，一边施加压力将松散的粉体挤压成结实毛坯的过程。目前，公知的模具多采用简单的弓形结构，在该模具结构下，成型磁场的磁力线是呈铅直状穿过模具型腔。由此结构生产出的磁瓦存在着随该结构磁瓦在装配使用中存在磁扭矩力大，中心场强损耗大的缺陷。
本实用新型内容
本实用新型的目的是针对现存的问题，给人们提供一种可有效降低干压磁瓦在装配使用中的磁扭矩力，提高中心场磁性能的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模。
本实用新型包括上凸模基体、强导磁块和弱导磁块，其特征在于：上凸模基体工作面的中心部位内侧镶嵌有强导磁块，上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有弱导磁块，在上凸模基体的工作表面镶嵌有一薄膜层。
强导磁块呈长方形，其长为上凸模基体工作面轴高的0.55～0.65倍，宽为上凸模基体工作面弦长长度的0.35～0.45倍，深度为25～30mm，强导磁块朝向工作面的一面与上凸模基体弧面平行。
弱导磁块的长度与上凸模基体轴高等长，宽度为上凸模基体弦长的0.2～0.25倍，深度为强导磁块深度的0.45～0.5倍，弱导磁块的末端为1/4的圆面，其半径与弱导磁块宽度等长。
薄膜层采用高光洁度、耐磨、耐腐蚀的薄膜，薄膜层厚度为3～6mm。
本实用新型的效果
本实用新型由于在上凸模基体工作面的中心部位内侧镶嵌有强导磁块，上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有弱导磁块，在上凸模基体的工作表面镶嵌有一薄膜层，从而改善成型磁场分布的合理性，有效降低干压磁瓦在装配使用中的磁扭矩力，提高中心场磁性能，较老式弓形结构模具生产的磁瓦，磁扭矩力降低50-60％，中心场磁性能Br值提升5-15％。本实用新型尤其适用于成型型腔对角线长度小于10cm的干压磁瓦的生产。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
图2为A-A剖视图。
具体实施方式
实施例1：
参见图(1～2，)本实用新型包括上凸模基体1、强导磁块2和弱导磁块上凸模基体1工作面的中心部位内侧镶嵌有呈长方形，其长为上凸模基体工作面轴高的0.55～0.65倍，宽为上凸模基体工作面弦长长度的0.35～0.45倍，深度为25～30mm的强导磁块，强导磁块朝向工作面的一面与上凸模基体弧面平行。上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有长度与上凸模基体轴高等长，宽度为上凸模基体弦长的0.2～0.25倍，深度为强导磁块深度的0.45～0.5倍，弱导磁块的末端为1/4的圆面，其半径与弱导磁块宽度等长的弱导磁块3，在上凸模基体的工作表面镶嵌有一高光洁度、耐磨、耐腐蚀、厚度为3～6mm的薄膜层4。
在成型过程中，先由中模、下凸模形成半封闭，此时将预先制备好的铁氧体粉料注入。之后，上凸模开始下降，当上凸模、中模、下凸模合模成封闭空间时，导通充磁线圈产生强磁场。在本新结构的导磁材质的作用下，聚拢在强导磁块竖直方向穿越的磁力线在朝向工作面的一端发散开来，以近似垂直与上凸模工作弧面的角度穿越型腔。促使型腔中磁化后的磁性粉料沿朝向或反向工作弧面圆心的方向有序排列。最后将上、下模具继续施加的作用力依照此结构排列的磁性粉料压制成致密的生坯。
Claims (4)
1、一种水磁铁氧体十压礠瓦的上凸模，包括上凸模基体、强导磁块和弱导磁块，其特征在于：上凸模基体工作面的中心部位内侧镶嵌有强导磁块，上凸模基体工作面的两轴高部的内侧分别镶嵌有弱导磁块，在上凸模基体的工作表面镶嵌有一薄膜层。
2、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模，其特征在于：强导磁块呈长方形，其长为上凸模基体工作面轴高的0.55～0.65倍，宽为上凸模基体工作面弦长长度的0.35～0.45倍，深度为25～30mm，强导磁块朝向工作面的一面与上凸模基体弧面平行。
3、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模，其特征在于：弱导磁块的长度与上凸模基体轴高等长，宽度为上凸模基体弦长的0.2～0.25倍，深度为强导磁块深度的0.45～0.5倍，弱导磁块的末端为1/4的圆面，其半径与弱导磁块宽度等长。
4、根据权利要求1所述的永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模，其特征在于：薄膜层采用高光洁度、耐磨、耐腐蚀的薄膜，薄膜层厚度为3～6mm。
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| CNU2008200379431U CN201211562Y (zh) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | 一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模 |
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| CNU2008200379431U CN201211562Y (zh) | 2008-06-06 | 2008-06-06 | 一种永磁铁氧体干压磁瓦的上凸模 |
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| CN201211562Y true CN201211562Y (zh) | 2009-03-25 |
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| CN (1) | CN201211562Y (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105946098A (zh) * | 2016-03-10 | 2016-09-21 | 安徽金寨将军磁业有限公司 | 多极充磁永磁铁氧体磁瓦模具 |
-
2008
- 2008-06-06 CN CNU2008200379431U patent/CN201211562Y/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN105946098A (zh) * | 2016-03-10 | 2016-09-21 | 安徽金寨将军磁业有限公司 | 多极充磁永磁铁氧体磁瓦模具 |
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