CN1931446A - 涂膜形成方法 - Google Patents

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CN1931446A CN 200610127551 CN200610127551A CN1931446A CN 1931446 A CN1931446 A CN 1931446A CN 200610127551 CN200610127551 CN 200610127551 CN 200610127551 A CN200610127551 A CN 200610127551A CN 1931446 A CN1931446 A CN 1931446A
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Abstract

本发明提供一种涂膜形成方法,该方法在对基板涂敷例如显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等涂敷液时,可以降低涂敷开始点周边的涂膜凸起,并能降低涂膜整体的起伏。本发明利用在被涂物(1)表面之上相对移动的狭缝喷嘴(2)所提供的涂敷液,在被涂物(1)表面形成均匀的涂膜,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴(2)的涂敷液排出口(2b)接近被涂物(1)表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵(3),使涂敷液排出口(2b)与被涂物(1)表面之间以涂敷液连接,接着,在将涂敷液的连接状态维持规定时间后,开始进行涂敷。

Description

涂膜形成方法
技术领域
本发明涉及一种对玻璃基板、半导体晶片等基板涂敷显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂时的涂膜形成方法。
背景技术
在液晶(LCD)、PDP(等离子体显示器)、半导体元件等的制造过程中,为在基板上形成各种覆层、或者涂敷清洗液或显影液,通常使用涂敷装置。
专利文献1提供了一种非旋转式的涂敷装置,近年来伴随基板尺寸的大型化倾向,该涂敷装置取代了边使基板旋转边进行涂敷的以往的旋转涂敷,而使宽幅的狭缝喷嘴相对于基板向一个方向相对地移动的同时,进行涂敷。
具有这样的狭缝喷嘴的涂敷装置,其优点在于,即使是大型基板也可在其表面形成均匀的厚膜。但是,也具有其它一些问题。例如,其一就是在涂敷开始时会产生涂膜不合格区域。即,虽然通过定量泵向狭缝喷嘴提供涂敷液,但是在涂敷开始时,为了防止因液量不足而引起的涂膜不均,而需要在狭缝喷嘴下端和基板表面之间形成充分的涂敷液滞留(以下称作“液珠”)。
但是,如果涂敷开始时的液珠过大,则即使狭缝喷嘴因涂敷作业而开始移动,涂敷开始点周边也会呈现比其它部分凸出的状态,由此形成涂膜不合格区域。为解决该问题,例如在专利文献2中,对应涂敷器和被涂敷部件的相对移动量来分段增减涂敷供给量。
【专利文献1】美国专利第4938994号公报
【专利文献2】JP特开2002-86044号公报
然而,在专利文献1所公开的早期的非旋转式的涂敷装置中,液珠的控制较为困难,容易发生涂敷液的不足或过量。另外,在专利文献2所公开的涂敷装置中,由于需要对来自于泵的供给量进行控制,且还必须对涂敷器的移动速度进行控制,因此操作繁杂,控制本身也较为困难。
发明内容
鉴于上述问题,本发明提供一种涂膜形成方法,该方法在对基板涂敷例如显影液、清洗液、SOG溶液及抗蚀剂等涂敷液时,可以降低涂敷开始点周边的涂膜凸起,并能降低涂膜整体的起伏。
本发明涉及的涂膜形成方法,利用在被涂物表面之上相对移动的狭缝喷嘴所提供的涂敷液,在被涂物表面形成均匀的涂膜,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵,使涂敷液排出口与被涂物表面之间以涂敷液连接,接着,在将涂敷液的连接状态维持规定时间后,开始进行涂敷。
根据本发明涉及的涂膜形成方法,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵使涂敷液排出口与被涂物表面之间以涂敷液来连接,接着,将涂敷液的连接状态保持规定时间后,开始进行涂敷,因此通过使涂敷液的连接状态,即、使涂敷液排出口与被涂物表面之间形成的充分的涂敷液滞留(液珠)维持规定时间,而使该液珠稳定下来。也就是,被涂物表面及狭缝喷嘴喷出口周边因涂敷液而被充分地润湿,由此液珠的大小得到稳定。从而,涂敷开始后,在维持大小稳定的液珠的状态下,对被涂物进行涂敷,因此可以降低涂敷开始点周边的涂敷液的凸起。
并且,由于可以在整个涂敷面形成稳定的涂膜,因此可以降低涂膜的起伏。
并且,优选在维持连接状态的期间,使涂敷液送液泵停止。
并且,本发明涉及的涂膜形成方法,利用在被涂物表面之上相对移动的狭缝喷嘴所提供的涂敷液,在被涂物表面形成均匀的涂膜,涂敷开始时,使狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵,使涂敷液排出口与被涂物表面之间以涂敷液连接,接着,在维持涂敷液连接状态的状态下,使狭缝喷嘴向上方稍微拉大与被涂物表面的距离,在使该状态维持规定时间后,开始涂敷。
根据上述本发明涉及的涂膜形成方法,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵,使涂敷液排出口与被涂物表面之间以涂敷液连接,接着,在维持涂敷液的连接状态的状态下,使狭缝喷嘴向上方稍微拉大与被涂物表面的距离,在使该状态维持规定时间后,开始涂敷,由此,除了上述涂膜形成方法的作用之外,涂敷液排出到被涂物表面时对狭缝喷嘴的反作用,因使狭缝喷嘴拉大距离而减弱,从而可以进一步降低涂膜的起伏。
并且,此时,也优选在维持连接状态的期间,使涂敷液送液泵停止。
根据本发明,可以提供一种涂膜形成方法,该方法在对基板进行涂敷液的涂敷时,可以降低涂敷开始点周边的涂膜的凸起,并且降低涂膜整体的起伏。
因此,在可提高制造过程中涂膜的可靠性的同时,可以实现适于形成具有良好特性的涂膜的涂膜形成方法。
附图说明
图1是表示本发明的涂膜形成方法的一例的剖视图。
图2是表示本发明的涂膜形成方法的又一例的剖视图。
图3是例示实施本发明的涂膜形成方法时的玻璃基板1的膜厚(Y轴:单位μm)与涂膜测量点(X轴:单位mm)的相关关系的曲线图。
附图符号说明:
1玻璃基板,2狭缝喷嘴,2a涂敷液供给通道,2b排出口,3送液泵,4涂膜,A涂敷开始位置,B涂膜结束位置
具体实施方式
以下参照附图说明本发明的实施方式。
图1是表示本发明涉及的涂膜形成方式的一个实施方式的剖视图。
本发明涉及的涂膜形成方法是用于涂敷基板等被涂物的一般的涂敷装置,只要是具有隔膜泵等普通定量泵的装置,均可使用而没有限制。
在图1中,玻璃基板1等板状被处理物被放置在基板放置平台上。并且,狭缝喷嘴2被可自由升降地安装在沿基板1的长边方向移动且未图示的移动体上。另一方面,狭缝喷嘴2的涂敷液供给通道2a构成为从作为隔膜泵等定量泵的送液泵3来提供涂敷液。
接下来,对在该状态下,实际在基板1上形成涂膜的情况进行说明。
首先,如图1(a)所示,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴2在其排出口2b与玻璃基板1表面拉开几十μm~几百μm、优选30μm~150μm的间隔的状态下,停在玻璃基板1的涂敷开始位置A之上。
其次,如图1(b)所示,由送液泵3向狭缝喷嘴2的涂敷液供给通道2a提供涂敷液,并从排出口2b排出。通过该操作,使液珠充满排出口2b与玻璃基板1的间隙,从而排出口2b与玻璃基板1表面之间成为由涂敷液连接的状态。
接着,在这样充满液珠后,使该状态维持规定时间。该时间为几秒,优选2秒~10秒。
如后述的图3所示,在规定时间少于2秒时,可能发生不能发挥本发明的效果而使涂膜变得不均匀的情况。另外,即使规定时间超过10秒也可能形成均匀的涂膜,但是难以兼顾处理速度。因此,优选上述的2秒~10秒。
并且,在将液珠维持规定时间的期间,在该规定时间较短时,也可使送液泵3保持运转状态。但是,在规定时间较长时,优选使其停止。虽然也可使送液泵3减速运转,但由于泵的控制较为复杂,因此不是理想的操作。
经过上述规定时间后,如图1(c)所示,在已停止了送液泵3的情况下,重新开始送液,边使狭缝喷嘴2在水平方向移动,边在被涂物1上形成涂膜4。然后,在到达玻璃基板1上的涂膜结束位置B的时刻,使送液泵3停止,并使狭缝喷嘴2与玻璃基板1拉大距离。
根据本实施方式的涂膜形成方法所示,由于使狭缝喷嘴2的排出口2b接近基板1表面,其次,通过驱动送液泵3,使排出口2b与基板1表面之间以涂敷液连接,接着,在将涂敷液的连接状态维持规定时间后,开始进行涂敷,因此,通过使涂敷液的连接状态,即、涂敷液排出口与被涂物表面之间形成的充分的涂敷液滞留(液珠)维持规定时间,可使该液珠稳定。也就是,被涂物表面及狭缝喷嘴喷出口周边因涂敷液而被充分润湿,从而液珠的大小得到稳定。由此,涂敷开始后,在维持大小稳定的液珠的状态下,对被涂物进行涂敷,因此可以降低涂敷开始点周边的涂敷液的凸起。
并且,由于可以在整个涂敷面形成稳定的涂膜,因此可以降低涂膜的起伏。
接下来,说明本发明涉及的涂膜形成方法的其它实施方式。
图2是表示本发明的涂膜形成方法的其它实施方式的剖视图。
图2(a)及图2(b)表示分别与图1(a)及图1(b)所示情况相同的状态。即,如图2(a)所示,在涂敷开始时,使狭缝喷嘴2在其排出口2b与玻璃基板1表面拉开几十μm~几百μm、优选30μm~150μm的间隔的状态下,停在玻璃基板1的涂敷开始位置A之上。
其次,如图2(b)所示,由送液泵3向狭缝喷嘴2的涂敷液供给通道2a提供涂敷液,并从排出口2b排出,由此使液珠填满排出口2b与玻璃基板1的间隙,形成连接状态。
在本实施方式中,如图2(c)所示,其特征在于,在使液珠不断裂的范围内使狭缝喷嘴2向上方稍微拉大距离。拉大距离为100~300μm,优选120~200μm。
接着,与图1所述的情况同样地,使该状态维持规定时间。另外,关于使液珠维持规定时间的期间内的送液泵3的运转,与图1所述相同。
其次,在经过规定时间后,如图2(d)所示,在已使送液泵3停止的情况下,重新开始送液,并使狭缝喷嘴2在水平方向边移动,边在被涂物1上形成涂膜4。然后,在到达被涂物1上的涂膜结束位置B的时刻,使送液泵3停止,并使狭缝喷嘴2拉大与被涂物1的距离,结束涂敷作业。
根据本实施方式涉及的涂膜形成方法,由于使狭缝喷嘴2拉大与基板1表面的距离,因此除了上述实施方式的涂膜形成方法的作用之外,涂敷液排出到基板1表面时对狭缝喷嘴2的反作用,因拉大距离而减弱,从而可以进一步降低涂膜的起伏。
图3是例示实施本发明的涂膜形成方法时的玻璃基板1的膜厚(Y轴:单位μm)与涂膜测量点(X轴:单位mm)的相关关系的曲线图。在本图中,进行从涂敷开始位置(测量点为0mm点)进行超过1800mm的长度的涂敷,对填满液珠后的规定时间(本图中表示为等待时间)为1.5秒〔线段(1)〕、5.0秒〔线段(2)〕及9.0秒〔线段(3)〕的三种情况进行了测量。
其结果是,线段(2)及线段(3),其开始(Start)的10mm的均匀性分别稳定在了±2.98%、±2.34%。另一方面,线段(1)由于规定时间为1.5秒,较短,因此其均匀性为±11.81%而不稳定。由此可知,等待时间对涂敷开始端的凸起影响很大。
另外,本发明并不局限于上述的实施方式,在不脱离本发明的宗旨的范围内,可以是其它各种结构。

Claims (3)

1.一种涂膜形成方法,利用在被涂物表面之上相对移动的狭缝喷嘴所提供的涂敷液,在前述被涂物表面形成均匀的涂膜,该涂膜形成方法的特征在于,
在涂敷开始时,使前述狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵,使前述涂敷液排出口与前述被涂物表面之间以涂敷液连接,接着,在将前述涂敷液的连接状态维持规定时间后,开始进行涂敷。
2.一种涂膜形成方法,利用在被涂物表面之上相对移动的狭缝喷嘴所提供的涂敷液,在前述被涂物表面形成均匀的涂膜,该涂膜形成方法的特征在于,
在涂敷开始时,使前述狭缝喷嘴的涂敷液排出口接近被涂物表面,其次,通过驱动涂敷液送液泵,使前述涂敷液排出口与前述被涂物表面之间以涂敷液连接,接着,在维持前述涂敷液连接状态的状态下,使前述狭缝喷嘴向上方稍微拉大与前述被涂物表面的距离,在使该状态维持规定时间后,开始涂敷。
3.如权利要求1或权利要求2所述的涂膜形成方法,其特征在于,在维持前述连接状态的期间,使前述涂敷液送液泵停止。
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