CN1920095A - 成膜装置及成膜方法 - Google Patents

Abstract

本发明的成膜装置包括：成膜室，用于进行成膜；排气装置，与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部；支架，设在所述成膜室内并保持被处理材料；喷嘴，设在所述成膜室内，具有形成狭缝状的喷出口，并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶，从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜；和遮蔽部件，设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方，因此，可抑制排气流引起的气溶胶流的紊乱，可均匀地形成膜。

Description

成膜装置及成膜方法

本申请基于在2005年8月24日申请的日本专利申请2005-243020主张优先权，参照其公开的全部内容在此作为援引。

技术领域

本发明涉及成膜装置及成膜方法。

背景技术

气胶生长法(aerosol deposition method，AD法)可作为喷墨打印机的喷墨头等中使用的压电致动器的压电膜的制造方法。该方法是向基板表面喷射气溶胶，所述气溶胶是使锆钛酸铅(PZT)等压电材料的微粒分散在气体中形成的，使微粒冲撞、堆积在基板上，以形成压电膜。该方法不仅限于压电材料的成膜，也可用于陶瓷材料和金属材料的成膜。

例如特开2003-293159号公报中公开了用于按照上述AD法进行成膜的装置。该装置具有产生气溶胶的气溶胶形成室、向基板喷涂产生的气溶胶(aerosol)的成膜室、设在成膜室内部的喷嘴。启动与成膜室连接的排气泵时，在气溶胶形成室与成膜室之间的压差的作用下，在气溶胶形成室内产生的气溶胶被加速至高速，并从喷嘴中喷出。喷出的气溶胶中包含的材料颗粒冲撞、堆积在基板上，在该基板上形成膜。

但上述装置中，从喷嘴中喷出的气溶胶流受到排气泵的排气流的牵引，偏向排气方向。在这种情况下，材料颗粒在排气方向上较厚地堆积，难以形成均匀的膜。

发明内容

本发明的目的在于提供一种采用AD法进行成膜的成膜装置，无论排气口的位置如何，都能使气溶胶流保持稳定，形成均匀的膜。

本发明的第一方式提供了一种成膜装置，包括：成膜室，用于进行成膜；排气装置，与上述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部；支架，设在上述成膜室内并保持被处理材料；喷嘴，设在上述成膜室内，具有形成狭缝状的喷出口，并且从上述喷出口向上述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶，从而在上述被处理材料上形成由上述材料颗粒构成的膜；和遮蔽部件，设在上述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向上述被处理材料喷射的上述气溶胶的喷射流的侧方。

本发明的第二方式提供一种成膜方法，包括：制备包含材料颗粒的气溶胶；在成膜室从喷嘴中喷出上述气溶胶；由引导部件引导从上述喷嘴喷出的气溶胶喷射流，并导向保持在上述成膜室的支架上的被处理材料。

由于本发明的成膜装置及成膜方法中，遮蔽部件或引导部件可抑制排气流引起的气溶胶流的紊乱，因而无论排气口的位置如何，均可均匀地形成膜。特别是，由于气溶胶的喷射流在沿狭缝长度方向(长边方向)的方向比沿狭缝宽度方向(短边方向)，具有较大流动的倾向，因此设置遮蔽部件或引导部件以在该长度方向的侧方遮住气流是很有效的。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件可以相对设置一对。此时，在一对遮蔽部件所夹持的区域内喷射气溶胶，气溶胶的喷射流可更加稳定，形成均匀的膜。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述成膜室可以设有与上述排气装置连接的排气口，上述遮蔽部件及引导部件设在与朝向上述排气口的上述气溶胶的排气流交叉的方向上。此时，由于遮住了从喷出口朝向排气口的气流，可有效地抑制排气流引起的喷射流的紊乱。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件的面对上述喷射流的内侧面可以为圆弧面，该圆弧面向沿上述喷射流的喷射方向的方向上的中心位置远离上述喷射流的一侧凹下。而且，本发明的成膜方法可以包括下述步骤：将上述气溶胶喷射流导向上述被处理材料后，使冲撞在被处理材料上而弹回的气溶胶沿上述引导部件的内侧面汇入上述气溶胶喷射流，产生循环流。此时，冲撞在被处理材料上而弹回的气溶胶沿该圆弧面弯曲，汇入从喷出口朝向被处理材料的气溶胶喷射流。通过这样的气溶胶循环，弹回的气溶胶中包含的未粘固在被处理材料上的材料颗粒得以再利用，可提高成膜效率。而且，在气溶胶汇合位置，循环流相对于喷射流从侧方撞入，向喷射流施加剪切力，由此，使凝集的材料颗粒破碎，形成微粒。从而可形成薄的均匀的性能良好的膜。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件可设在上述支架的被处理材料安装区域的侧方。此时，与遮蔽部件或引导部件安装在喷嘴上时相比，容易在支架上确保安装余量，可稳定地安装遮蔽部件。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件可安装在喷嘴的喷出口的侧方。此时，只要遮蔽部件或引导部件为可覆盖从喷出口喷出的气溶胶的喷射流宽度的大小即可，因此遮蔽部件可以为小型。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件可拆卸地安装。此时，当遮蔽部件或引导部件污损或破损时，可从成膜装置上卸下该遮蔽部件或引导部件进行维护，很方便。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件的上述内侧面的硬度可以在HV450以上。如上所述，使其硬度为当气溶胶中包含的材料颗粒冲撞时不会陷入而弹回的程度，可防止材料颗粒粘固在遮蔽部件或引导部件上。

本发明的成膜装置及成膜方法中，上述遮蔽部件及引导部件可开闭地安装。此时，遮蔽部件或引导部件在打开的状态下，可安装及拆卸被处理材料，遮蔽部件或引导部件在关闭状态下，可进行成膜，很方便。

本发明的成膜装置中，上述排气口可以形成在上述成膜室内相对上述喷嘴处于与上述一对遮蔽部件中的一个同侧的侧壁上。此时，从喷嘴喷出气溶胶的喷射流与排气口之间被遮蔽部件遮蔽，因此可有效地抑制排气流引起的喷射流的紊乱。

附图说明

图1是第一实施方式的成膜装置的概略图。

图2是第一实施方式的平台和遮蔽板的侧视图。

图3是在第一实施方式中，从喷嘴长边侧的侧方看从喷嘴向基板喷涂气溶胶的状态的图。

图4是在第一实施方式中，从喷嘴短边侧的侧方看从喷嘴向基板喷涂气溶胶的状态的图。

图5是在第一实施方式中，从下面侧看从喷嘴向基板喷涂气溶胶的状态的图。

图6是在第二实施方式中，从喷嘴长边侧的侧方看从喷嘴向基板喷涂气溶胶的状态的图。

图7是在第二实施方式中，从喷嘴短边侧的侧方看从喷嘴向基板喷涂气溶胶的状态的图。

具体实施方式

(第一实施方式)

下面参照图1～图5详细说明将本发明具体化的第一实施方式。以下说明中，将沿着从喷嘴24向基板B喷涂的气溶胶的喷射流E1的方向(图1中纸面的上下方向)定为Z轴方向，将与该Z轴垂直的方向中的沿喷嘴24的喷出口25的长边方向的方向(图5中纸面的左右方向)定为X轴方向，将沿短边方向的方向(图5中纸面的上下方向)定为Y轴方向。

图1示出了将本发明具体化的成膜装置1的概略图。该成膜装置1具有将材料颗粒M分散在载气中以形成气溶胶的气溶胶产生器10、及从喷嘴24喷出气溶胶并使其附着在基板上的成膜腔20(成膜室)。

气溶胶产生器10中具有内部可容纳材料颗粒M的气溶胶室11、安装在该气溶胶室11上并振动气溶胶室11的加振装置12。用于导入载气的储气瓶G通过导入管13与气溶胶室11连接。导入管13的前端在气溶胶室11内部位于底面附近，埋在材料颗粒M中。载气可采用例如氦气、氩气、氮气等不活泼气体及空气、氧气等。

成膜腔20形成为矩形箱状，在其侧壁部20A形成排气口21。用于使成膜腔20内减压的真空泵P(排气装置)通过从成膜后的气溶胶中回收材料颗粒M的粉末回收装置30与该排气口21连接。

该成膜腔20的内部具有用于支撑基板B(被处理材料)的平台22(支架)、和设在该平台22下方的喷嘴24。

喷嘴24整体上形成沿上下方向(Z轴方向)延伸的圆筒状，如图5所示，上侧的开口部构成狭缝状的喷出口25。下侧的开口部通过气溶胶供给管14与气溶胶室11连接，气溶胶室11内的气溶胶通过气溶胶供给管14供至喷嘴24。

如图2所示，平台22呈矩形板状，被平台移动机构23以水平姿态从顶板上悬下，可将基板B保持在下面侧。该平台22形成为比基板B大一圈，由此，可确保平台22的从安装的基板B的端缘向侧方伸出的部分作为用于安装后述遮蔽板26的安装余量，此处设有向下面侧开口的螺孔29。

平台移动机构23根据图中未示出的控制装置发出的指令而驱动，使该平台22在与平台22的板面平行的平面内，向沿喷嘴24中喷出口25的长边方向(X轴方向)及短边方向(Y轴方向)的方向移动。由此，喷嘴24可相对基板B作相对移动。即，如果使基板B向沿喷嘴24中喷出口25的短边方向(扫描方向)的方向直线移动，则喷嘴24在基板B的表面上扫描，如果使基板B向沿喷出口25的长边方向的方向直线移动，则扫描路径发生改变。这样，使喷嘴24相对基板B的相对位置一点一点错开，并多次往复扫描，从而可向基板B的整个表面喷涂气溶胶。

如图3所示，一对遮蔽板26(遮蔽部件)夹着基板B且在沿喷出口25长边方向的方向上并列装在平台22上，该一对遮蔽板26遮蔽从喷出口25向基板B朝上喷涂的气溶胶的喷射流E1的侧方。遮蔽板26由矩形的不锈钢板制成，从侧面(XZ平面)看呈圆弧状地弯曲。2个遮蔽板26以下述姿态从平台22的端缘部垂下：凹面26A侧相互朝向内侧，且其宽度方向(与圆弧的周向交叉的方向)沿着喷嘴24中喷出口25的短边方向(Y轴方向)。即，设置一对遮蔽板26，使圆弧状的凹面26A相对并将气溶胶的喷射流E1夹在其间。上述凹面26A通过形成圆弧状，从而以使喷射流E1的喷射方向(Z轴方向)上处于大致中心的位置离喷射流E1最远的方式凹陷。

如图2所示，对遮蔽板26外周面的上端部进行切口，使其与平台22中安装该遮蔽板26的端缘角部的形状相配合，在该切口部27下侧的壁部，沿上下方向(Z轴方向)贯通地设置用于装螺钉S的通孔28。接着，使该切口部27紧贴平台22的端缘，将螺钉S穿过通孔28拧入平台22的螺孔29中，则遮蔽板26可拆卸地固定在平台22上。

图2所示的安装在平台22上的基板B的端缘与遮蔽板26内侧端缘之间的距离D1可以约在3mm以下，图3所示的喷嘴24的上端缘与遮蔽板26的下端缘之间的距离D2在上下方向(Z轴方向)上优选为约±2mm的范围，图4所示的遮蔽板26的宽度D3优选在喷嘴24所决定的成膜范围(材料颗粒M在基板B上的附着范围)的宽度D4+5mm以内。另外，作为构成该遮蔽板26的不锈钢板，为了使气溶胶中的材料颗粒M难以附着在其上，可使用例如表面的维氏硬度在HV450以上的钢板。

如图1所示，在成膜腔20中，上述排气口21位于侧壁部20A上，该侧壁部20A从喷嘴24看位于设有一对遮蔽板26中任意一个的一侧的同侧。因此，从喷嘴24喷出气溶胶的喷射流E1与排气口21之间被遮蔽板26遮蔽。

下面说明用上述构成的成膜装置1在基板B上形成膜的顺序。

用成膜装置1形成材料颗粒M的膜时，首先将基板B置于平台22上。接着向气溶胶室11内加入材料颗粒M。材料颗粒M可采用例如压电材料锆钛酸铅(PZT)。

此后，从储气瓶G导入载气，其气压使材料颗粒M飞起。与之同时通过加振装置12振动气溶胶室11，使材料颗粒M与载气混合，产生气溶胶。接着，用真空泵P对成膜腔20内减压，利用气溶胶室11与成膜腔20之间的压差将气溶胶室11内的气溶胶加速至高速，并使其从喷嘴24喷出。喷出的气溶胶中包含的材料颗粒M冲撞、粘固在基板B上，形成压电膜。此时，平台移动机构23移动平台22，使喷嘴24相对于基板B的相对位置一点点错开，同时喷涂气溶胶，从而在基板B的整个表面上形成膜。冲撞于基板B后的气溶胶被真空泵P的吸引力通过排气口21排出至粉末回收装置30一侧。

此时，担心如果从喷嘴24喷出的气溶胶喷射流E1受到由真空泵P的吸引力产生的朝向排气口21的排气流F的牵引，向排气口21一侧流动，在基板B上，材料颗粒M会在靠近排气口21一侧较厚地堆积，阻碍形成均匀的膜。但是本实施方式中，在平台22上装有遮蔽板26，遮住从喷出口25喷出气溶胶的喷射流E1的侧方。由此可抑制受到排气流F影响导致气溶胶流紊乱的情况。特别是，气溶胶容易在沿喷出口25的长边方向(X轴方向)的方向上较大流动，但本实施方式中在该长边方向的侧方遮住了气流，即，遮蔽板26以板面方向沿喷出口25的短边方向(Y轴方向)的姿势设置，由此可有效地抑制喷射流E1的紊乱。另外，遮蔽板26还可被视为用于将气溶胶的喷射流导向被处理材料的引导部件。

进而，在成膜腔20中，排气口21位于侧壁部20A上，该侧壁部20A从喷嘴24看处于设有一对遮蔽板26中任意一个的一侧的同侧。即，遮蔽板26设在相对在成膜腔20内产生的朝向排气口21的排气流F交叉的方向上。由此，从喷嘴24向排气口21的气流被遮蔽板26遮蔽，从而可有效地抑制排气流引起的喷射流E1的紊乱。

而且，相对设置一对遮蔽板26。由此，在一对遮蔽板26夹持的区域内喷涂气溶胶，喷射流E1可更加稳定，可以形成均匀的膜。

如图3所示，遮蔽板26从侧面看成圆弧状地弯曲，其内侧面形成圆弧状的凹面26A。因此，冲撞在基板B上而弹回的气溶胶沿该凹面26A变向，产生循环流E2，该循环流E2汇入从喷出口25朝向基板B的气溶胶喷射流E1。通过这样的气溶胶循环，从基板B弹回的气溶胶中包含的未粘固在基板B上的材料颗粒M得到再利用，可提高材料颗粒M的利用率，提高成膜效率。而且，在汇合位置，循环流E2相对于喷射流E1从侧方撞入，向喷射流E1施加剪切力。由此，使喷射流E1中包含的凝集的材料颗粒M破碎，形成微粒。从而可形成薄的均匀的性能良好的膜。

采用上述本实施方式，成膜装置1具有设在喷出口25长边方向侧方的遮蔽板26，该遮蔽板26覆盖从该喷出口25喷出气溶胶的喷射流E1的侧方。由此，可有效地抑制因排气流F导致气溶胶流紊乱的情况，均匀地形成膜。特别是，由于喷射流E1在沿狭缝长度方向(喷出口25的长边方向)的方向相比沿狭缝宽度方向(喷出口25的短边方向)具有较大流动的倾向，因此设置遮蔽板26以在该长度方向的侧方遮住气流，可有效地抑制喷射流E1的紊乱。而且，遮蔽板26设在相对于从喷嘴24朝向成膜室的排气口21的排气流F交叉的方向上。由此，从喷出口25向排气口21的气流被遮蔽，从而可有效地降低排气流F引起喷射流E1的紊乱。

而且，夹着来自喷嘴24的气溶胶喷射流E1相对设置一对遮蔽板26。由此，在一对遮蔽板26夹持的区域内喷涂气溶胶，喷射流E1可更加稳定，可以形成均匀的膜。

遮蔽板26从侧面看成圆弧状地弯曲，与气溶胶喷射流E1相对的内侧面形成凹面26A。由此，冲撞在基板B上而弹回的气溶胶沿该凹面26A弯曲，汇入从喷出口25朝向基板B的气溶胶喷射流E1。通过这样的气溶胶循环，弹回的气溶胶中包含的未粘固在基板B上的材料颗粒M得到再利用，可提高成膜效率。而且，在气溶胶汇合位置，循环流E2相对于喷射流E1从侧方撞入，向喷射流E1施加剪切力，由此，使凝集的材料颗粒M破碎，形成微粒。从而可形成薄的均匀的性能良好的膜。

遮蔽板26安装在平台22上。根据上述结构，通过使平台22的宽度比基板B较大形成，可容易地确保安装余量，可稳定地安装遮蔽板26。而且，遮蔽板26可拆卸地安装，因此当遮蔽板26污损或破损时，可从成膜装置1上卸下该遮蔽板26进行维护，很方便。

构成遮蔽板26的不锈钢板的硬度为HV450以上。由于硬度达到当气溶胶中包含的材料颗粒M冲撞遮蔽板26时不会陷入而弹回的程度，可防止材料颗粒M粘固在遮蔽板26上，减少维护工时。

(第二实施方式)

下面参照图6和图7说明本发明的第二实施方式。本实施方式与第一实施方式主要的不同点在于遮蔽板41不在平台22侧，而是安装在喷嘴24侧。本实施方式也与第一实施方式相同，将沿从喷嘴24向基板B喷涂的气溶胶的喷射流E1的方向(图6中纸面的上下方向)定为Z轴方向，将与该Z轴垂直的方向中的沿喷嘴24的喷出口25的长边方向的方向(图6中纸面的左右方向)定为X轴方向，将沿短边方向的方向(图6中与纸面垂直的方向)定为Y轴方向。

本实施方式的遮蔽板41是从侧面(XZ平面)看使矩形的不锈钢板呈圆弧状弯曲而构成的。另一方面，在喷嘴24的上端位置设有沿喷出口25的长边方向(X轴方向)向两个外侧伸出的支撑板42。此后，在该支撑板42的两个伸出端上以下述姿态立起设置2个遮蔽板41：凹面41A侧朝向内侧，且其短边方向(与圆弧的周向交叉的方向)沿着喷嘴24中喷出口25的短边方向(Y轴方向)。由此，遮蔽板41遮住从喷出口25喷出气溶胶的喷射流E1的侧方。

如图6所示，该遮蔽板41的上端部与平台22的下面之间的距离D5优选在0.5mm以下。遮蔽板41的厚度在上下方向的中央位置处最厚，向上端部侧和下端侧越来越薄。本实施方式的遮蔽板41安装在喷嘴24处，并位于平台22的下方，特别是减小上端部的厚度，凹面的上端位置尽可能地接近平台22的表面，但要在遮蔽板41不刮擦到平台22或安装在该平台22上的基板B的限度内。如图7所示，遮蔽板41的宽度D6优选在喷嘴24的开口宽度+5mm以内。由于其它结构与第一实施方式相同，因此用同一标号表示，并不再赘述。

如上所述，本实施方式中，由于遮蔽板41遮住了从喷出口25喷出气溶胶的喷射流E1的侧方，因此可起到与第一实施方式相同的作用和效果。此外，遮蔽板41安装在喷嘴24侧。采用该结构，只要使遮蔽板41的宽度可覆盖从喷出口25喷出气溶胶的喷射流E1宽度即可，因此遮蔽板41可以为小型。由于喷嘴24位于被遮蔽板41围起来的区域的中央，因此不论平台如何移动，仍然可确保总处于稳定状态的循环流E2。

(其它实施方式)

本发明的技术范围不由上述实施方式限定，例如下述内容也包含在本发明的技术范围内。此外，本发明的技术范围也覆盖等同方案的范围。

上述实施方式中，一对遮蔽板26、41夹着来自喷嘴24的气溶胶的喷射流E1地相对设置，但遮蔽部件也可以只有1个。

上述实施方式中，遮蔽板26、41从侧面看形成弯曲的形状，但也可以是平板状，也可以只有内侧面形成凹面。

上述实施方式中，遮蔽板26、41使用不锈钢板，但也可以例如将表面硬度较大的金属材料涂敷在由树脂等形成的板的表面上。

上述实施方式中，遮蔽板26可拆卸地设置，但遮蔽部件也可以不能拆卸地固定。

上述实施方式中，遮蔽板26、41安装在平台22或喷嘴24的支撑板42上，但不限于该部分，只要能抑制排气流所导致的气溶胶喷射流的紊乱，例如也可以安装在成膜室的上壁。

在本发明的成膜装置及成膜方法中，可开闭安装遮蔽板26、41。此时，在打开遮蔽板26、41的状态时，可安装及拆卸基板B，在关闭遮蔽板26、41状态时，可进行成膜，很方便。

Claims (20)

1.一种成膜装置，包括：

成膜室，用于进行成膜；

排气装置，与所述成膜室连接并将该成膜室内的气体排到外部；

支架，设在所述成膜室内并保持被处理材料；

喷嘴，设在所述成膜室内，具有形成狭缝状的喷出口，并且从所述喷出口向所述被处理材料喷射包含材料颗粒的气溶胶，从而在所述被处理材料上形成由所述材料颗粒构成的膜；和

遮蔽部件，设在所述喷出口的长度方向的侧方并覆盖从该喷出口向所述被处理材料喷射的所述气溶胶的喷射流的侧方。

2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件相对设置一对。

3.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述成膜室中设有与所述排气装置连接的排气口，所述遮蔽部件设在与朝向所述排气口的所述气溶胶的排气流交叉的方向上。

4.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件中面对所述喷射流的内侧面为圆弧面，该圆弧面向沿所述喷射流的喷射方向的方向上的中心位置远离所述喷射流的一侧凹下。

5.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件设在所述支架的被处理材料安装区域的侧方。

6.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件安装在所述喷嘴的喷出口的侧方。

7.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件可拆卸地安装。

8.如权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件的所述内侧面的硬度在HV450以上。

9.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述遮蔽部件可开闭地安装。

10.如权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，所述排气口形成在所述成膜室内相对所述喷嘴处于与所述一对遮蔽部件中的一个同侧的侧壁上。

11.一种成膜方法，包括：制备包含材料颗粒的气溶胶；

在成膜室从喷嘴中喷出所述气溶胶；

由引导部件引导从所述喷嘴喷出的气溶胶喷射流，并导向保持在所述成膜室的支架上的被处理材料。

12.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件相对设置一对。

13.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述成膜室中设有与所述排气装置连接的排气口，所述引导部件设在与朝向所述排气口的所述气溶胶的排气流交叉的方向上。

14.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件中面对所述喷射流的内侧面为圆弧面，该圆弧面向沿所述喷射流的喷射方向的方向上的中心位置远离所述喷射流的一侧凹下。

15.如权利要求14所述的成膜方法，其特征在于，将所述气溶胶喷射流导向所述被处理材料后，冲撞在被处理材料上而弹回的气溶胶沿所述引导部件的内侧面汇入所述气溶胶喷射流，产生循环流。

16.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件设在所述支架的被处理材料安装区域的侧方。

17.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件安装在所述喷嘴的喷出口的侧方。

18.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件可拆卸地安装。

19.如权利要求14所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件的所述内侧面的硬度在HV450以上。

20.如权利要求11所述的成膜方法，其特征在于，所述引导部件可开闭地安装。

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