CN1916784A - 成像装置的处理盒 - Google Patents

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Abstract

一种用于成像装置的处理盒，包括：用于将残留在光敏鼓表面上的废调色剂移走的清洁单元；和用于存储由清洁单元移走的废调色剂的清洁框架。清洁单元包括适于在与光敏鼓相反的方向上弯曲且布置在除了废调色剂聚集之外的位置处的弯曲部。清洁单元还包括：用于响应于光敏鼓的旋转而与光敏鼓的表面相接触以将残留在其上的废调色剂移走的清洁刮片；以及用于支撑清洁刮片的清洁支撑元件。

Description

成像装置的处理盒
技术领域
本发明涉及电子照相成像装置。更具体地，本发明涉及成像装置的处理盒(process cartridge)。
背景技术
电子照相成像装置使用处理盒。处理盒包括电子照相光敏鼓和相关的处理机构并且适于可分离地安装为电子照相成形装置的主体中的一个单元。处理盒是易于更换的并装有使用寿命基本上相等的部件(比如构成光敏鼓和显影单元的各种辊)以及预定量的调色剂。
处理盒B和使用处理盒B的电子照相成像装置100在图1至3中示出。图1示出了一种常规的成像装置100的构造。图2是示出图1所示处理盒B的外观的透视图。图3是示出处理盒B的内部构造的剖面图。参照图1至3，处理盒B可分离地安装在成像装置100的主体A中。在成像装置100中，光敏鼓111由充电辊112充电，并且通过来自激光扫描单元130的激光束L，静电潜像形成于光敏鼓111的表面上。响应于光敏鼓111的旋转，利用由供给辊115从调色剂腔118传输的调色剂，静电潜像被显影为所需的可视图像。显影的可视图像被转印到在光敏鼓111和转印辊140之间通过的记录纸张P上。
在处理盒B的盒框架110中，调色剂腔118设在光敏鼓111的一侧，并且废调色剂腔123设在光敏鼓111的另一侧。在调色剂腔118周围，显影辊114、供给辊115、刮片116和搅拌器117顺序地安装并由主框架119所支撑。在废调色剂腔123周围，充电辊112、清洁刮片121等顺序地安装并由清洁框架123所支撑。清洁刮片121附接至清洁支撑元件122。然而，在处理盒B中，因为清洁支撑元件122的弯曲部122a朝着光敏辊111弯曲，对于来自激光扫描单元130的激光束L而言，激光束入口131太窄。尤其，如图3所示，在具有清洁辊113和充电辊112的成像装置中，弯曲部122a的端部会接触充电辊112或清洁辊113。因此，为了给激光扫描单元130的激光束入口131分配足够的空间，显影辊114的尺寸必须增大，这就使处理盒B中空间分配问题复杂化。为了解决这种空间分配问题，美国专利No.6,836,639中公开了一种采用改进型处理盒B`的成像装置。
图4是示出美国专利No.6,836,639中所公开的处理盒B`的内部构造的剖面图，并且图5是示出图4中清洁框架124的放大视图。参照图4和5，在处理盒B`中，废调色剂腔123包括第一清洁框架124a和位于第一清洁框架124a上的第二清洁框架124b，并且第一清洁框架124a和第二清洁框架124b由增强元件125互连以防止清洁框架124变形。支撑清洁刮片121的清洁支撑元件122的弯曲部122a朝着清洁框架124背离光敏辊111地弯曲(在图4中向左)。在具有这种结构的处理盒B`中，因为增强元件125布置在弯曲部122a之上，所以改进了清洁框架124的总体强度，并且扩展了用来容纳废调色剂T的废调色剂空间。然而，在处理盒B`中，第二清洁框架124b分离地安装在第一清洁框架124a上，并且第一清洁框架124a和第二清洁框架124b被焊接起来，然后由增强元件125互连。即使增强元件125布置在清洁支撑元件122的弯曲部122a之上，弯曲部122a和增强元件125本身也会占据部分废调色剂空间。
发明内容
根据本发明的一个方面，一种处理盒，包括：用于将残留在光敏鼓表面上的废调色剂移走的清洁单元；和用于存储由清洁单元移走的废调色剂的清洁框架，其中清洁单元包括适于在与光敏鼓相反的方向上弯曲并且布置在除了废调色剂聚集之处以外的其它位置处的弯曲部。
根据本发明的一个方面，清洁单元包括用于响应于光敏鼓的旋转而与光敏鼓的表面相接触以将残留在其上的废调色剂移走的清洁刮片，以及用于支撑清洁刮片的清洁支撑元件。
根据本发明的一个方面，弯曲部形成于清洁支撑元件的上端。
根据本发明的一个方面，弯曲部布置在废调色剂聚集位置处之上。
根据本发明的一个方面，弯曲部布置在清洁框架的上表面之上，并且弯曲约90°。
根据本发明的一个方面，弯曲部通过模制形成。
根据本发明的一个方面，清洁刮片和清洁支撑元件构成为单体。
根据本发明的一个方面，清洁刮片由氨基甲酸酯、硅树脂和橡胶之一制成，并且适于具有1至5mm的厚度。
根据本发明的一个方面，清洁刮片具有约2mm的厚度。
根据本发明的一个方面，清洁支撑元件由金属材料制成。
根据本发明的一个方面，在清洁单元和清洁框架之间安装有密封元件。
根据本发明的一个方面，清洁框架包括第一清洁框架和布置在第一清洁框架上的第二清洁框架。
根据本发明的一个方面，在清洁框架的上侧表面中形成有开口，并且弯曲部插入该开口。
根据本发明的一个方面，弯曲部形成于清洁支撑元件的上端处并且弯曲部插入清洁框架的开口中。
根据本发明的一个方面，清洁支撑元件的弯曲部插入开口中以从该开口中突出。
根据本发明的一个方面，清洁支撑元件的弯曲部插入开口中以悬置于该开口中。
根据本发明的一个方面，弯曲部形成于清洁支撑元件的上端处并且从弯曲部延伸的突出部可插入清洁框架的开口中。
本发明的其它方面和/或优点部分地将在下述描述中进行阐述，并且一部分从描述中是显而易见的，或者通过实践本发明可以学习到。
附图说明
通过结合附图详细地描述其示例性实施例，本发明的以上方面和/或其它特点将会更加明显，在附图中：
图1示出了其中安装有常规处理盒的电子照相成像装置的构造；
图2是示出图1中处理盒的外观的透视图；
图3是图2中处理盒的剖面图；
图4是示出另一种常规处理盒的剖面图；
图5是图4的局部放大视图；
图6A至6C示出了根据本发明一个实施例的处理盒的内部构造，其中图6A和6C示出了作为一个整体的处理盒，而图6B示出了处理盒的放大部分；
图7A和7B示出了根据本发明一个实施例的处理盒的局部透视图，其中图7A示出了处于拆卸状态的处理盒，而图7B示出了处于装配状态的处理盒；
图8A和8B示出了根据本发明一个实施例的处理盒的局部透视图，其中图8A示出了处于拆卸状态的处理盒，而图8B示出了处于装配状态的处理盒；和
图9至12示出了根据本发明其它实施例的处理盒的局部的内部构造。
具体实施方式
下面，将结合附图详细地描述本发明的实施例。在下面的描述中，同样的附图标记用于相同或类似的元件，即使在不同的附图中也如此。说明书中限定的情况(比如详细的构造和元件)仅限于用来帮助综合理解本发明。因而，很显然本发明能在没有这些限定情况之下实施。而且，公知的功能或构造不再详细描述，因为这些会由于不必要地详细而导致本发明条理不清楚。
图6A和6B是示出根据本发明一个实施例的处理盒C的内部构造的视图。图6A示出了作为一个整体的处理盒C。图6B示出了处理盒C的放大部分。图6C是示出图6A所示处理盒的外观的透视图。参照图6A至6C，处理盒C包括盒框架210。在框架210中，调色剂腔218设在光敏鼓211的一侧，而废调色剂腔223设在光敏鼓211的另一侧。显影辊214、供给辊215、刮片216、搅拌器217等安装在调色剂腔218的周围并且由主框架219所支撑。充电辊212、清洁单元220等按顺序地安装在废调色剂腔223的周围并由清洁框架224所支撑。处理盒C的构造基本上与常规处理盒B的构造类似，并且因此在此省略对其的重复性描述，除了下面的不同点之外。
处理盒C的特征在于清洁单元220和清洁框架224的结构。清洁单元220适于将残留在光敏鼓211的表面上的废调色剂移走。清洁单元220包括清洁刮片221以及用于支撑清洁刮片221的清洁支撑元件222。清洁刮片221适于响应于光敏鼓211的旋转而与光敏鼓211的表面相接触以将残留在其上的废调色剂移走。虽然在本发明的各个方面中都没有要求，但是优选地用氨基甲酸酯(urethane)、硅树脂(silicone)或橡胶制造清洁刮片221以防止在移走废调色剂期间对光敏鼓211造成损伤。清洁刮片221可具有1至5mm的厚度，更优选地约为2mm。然而，应当理解到，清洁刮片221可具有其它的厚度和使用其它的材料。此外，能使用其它材料以防止损伤。另外，应当理解到，也能使用其它机构来防止这种表面损伤，其中可用的材料并不限于防止损伤的那些。
清洁支撑元件222适于支撑清洁刮片221，并且进一步构成侧壁或者连接至废调色剂腔223。清洁支撑元件222是在光敏鼓211的纵向上(垂直于图面)延伸的长元件。因而，必须在清洁支撑元件222的上端形成弯曲部222a以使得清洁支撑元件222不被弯曲或变形(即弯曲部222a增加了支撑元件222的结构刚度)。
弯曲部222a可通过模制形成，但是也能以其它方式形成。在所示实施例中，优选地但非必须地，将弯曲部222a弯曲约90°。然而，应当理解到，弯曲角度可以是足以使之具有足够刚度的其它角度。
在所示实施例中，弯曲部222a形成于清洁支撑元件222上除了废调色剂聚集的地方(即废调色剂腔223)之外的位置处，并且背离光敏鼓211。也就是说，弯曲部222a在与光敏鼓211相反的方向上弯曲并且形成于废调色剂聚集的地方之外的位置处。优选地但非必须地，将弯曲部222a布置在从清洁框架224的上表面224c水平延伸的平面之上。
根据本发明的一个方面，清洁支撑元件222和清洁刮片221构成为单体。然而，根据本发明，应当理解到，清洁支撑元件222和清洁刮片221也可以通过胶粘剂彼此粘附，或者利用热、超声或振动通过焊接而彼此粘附。
虽然在本发明中并非必须如此，但是清洁支撑元件222优选地由金属材料制成。清洁支撑元件222由固定元件226固定至清洁框架224的两个侧壁224h(参见图7A)。
根据本发明如图7A所示的方面，密封元件225安装在清洁支撑元件222和清洁框架224之间(参见图7A)。优选地但非必须地，将密封元件225安装在弯曲部222a的内侧表面和清洁框架224之间以防止废调色剂泄漏。密封元件225可由广泛使用的海绵材料制成，比如聚氨酯、硅树脂、三元乙丙橡胶(EPDM)、氯丁橡胶(CR)和泡沫材料、或者橡胶。密封元件225也可以用胶粘剂来替代。如果用胶粘剂来代替密封元件225，密封位置无需是清洁支撑元件222和清洁框架224之间的空间。也就是说，胶粘剂被粘着在清洁框架224上安装有清洁支撑元件222的区域的外围。如上所述，在弯曲清洁单元220被固定至清洁框架224时，清洁单元220和清洁框架224的多个位置由位于清洁框架224的两端之间或位于其下端和中间部分之间的胶粘剂或者固定元件226(比如螺钉)互连。
清洁框架224适于支撑清洁支撑元件222并构成用于存储由清洁刮片221移走的废调色剂的废调色剂腔223。如图6B和7B所示，清洁框架224可构造为包括第一清洁框架224a和布置在第一清洁框架224a上的第二清洁框架224b，但是在本发明的其它方面也能以其它方式构造或者利用一个单件构成以限定出废调色剂腔226的外表面，弯曲部222a在所述外表面周围弯曲。第一清洁框架224a和第二清洁框架224b通过热熔接、超声波化和粘接之一而彼此相连接。
在图3所示的常规处理盒B中，清洁支撑元件122的弯曲部122a所占据的空间使得其它部件(具体地，清洁辊113、充电辊112和激光扫描单元130的激光入口131)的空间分配问题复杂化。在根据本发明如图6A和6B所示实施例的处理盒C中，因为弯曲部222a在与光敏鼓211相反的方向上弯曲(即朝着清洁框架224弯曲)，与图2和3所示的常规情况相比而言，清洁辊213能进一步向附图中的左边移动。因此，用于入射激光束L的空间就变大，从而基本上防止了由于激光束L入射路径上的部件所导致的激光束L的重叠、屏蔽和漫反射。处理盒B的常规主框架是模制品，其尺寸变化具体取决于模制条件或使用条件。即使例如在低温环境下发生这种尺寸变化或收缩的情况下，本发明实施例的处理盒C适于事先给入射激光束分配足够的空间，从而防止了由于其它部件所导致的激光束入射路径的中断。
另外，在图6A和6B所示的处理盒C中，清洁支撑元件222的弯曲部222a在废调色剂腔223之上延伸。在如图4所示的常规处理盒B`中，弯曲部122a占用一部分废调色剂腔123从而导致其容积减小，然而在本实施例的处理盒C中，在不妨碍弯曲部222a的前提下能获得废调色剂腔223的最大容积，如图6B中虚线所示。尽管通过增大废调色剂腔223的上表面223c的高度就能增大废调色剂的存储量，但是其高度受限于成像装置的高度以及与其它部件之间的关系。因此，在具有与图2至4所示常规情况相同的构造之下，通过将清洁单元220的弯曲部222a升高至不超过清洁框架224的最上表面224d的高度，能有效地利用成像装置的有限空间。
虽然在图6A和6B中示出为限定出弯曲部222a的弯曲处于废调色剂腔223之上，但是应当理解到，根据本发明的其它方面，弯曲可以更加地渐进并且在废调色剂腔224之处或之下开始，只要所得到的弯曲部222a在不妨碍废调色剂腔223的前提下朝着废调色剂腔223弯曲或在其外部周围。
图7A和7B是示出根据本发明一个实施例的处理盒的局部透视图。图7A示出了处于拆卸状态的处理盒，图7B示出了处于装配状态的处理盒。因为除了下面所述的之外，图7A和图7B所示的处理盒具有与图6A和6B所示的处理盒基本上相同的构造，图7A和7B只是示出了包括废调色剂腔223的部分，并且在此省略对其余元件的重复性描述。
如同图6A和6B所示实施例那样，清洁单元220包括清洁刮片221和清洁支撑元件222。清洁支撑元件222包括形成于废调色剂聚集位置之外的其它位置处且适于在与光敏鼓211相反的方向上弯曲的弯曲部222a。开口224f形成于清洁框架224上的将最上表面224d与上表面224c互连的上侧面224e中。开口224f形成为在光敏鼓的纵向上延伸很长。具有这种开口224f，清洁支撑元件222的弯曲部222a能易于装配至清洁框架224。也就是说，当在部分装配步骤中将清洁支撑元件222的弯曲部222a插入开口224f之后，清洁支撑元件222通过与清洁框架224的侧壁224h准确对准而利用固定元件226或胶粘剂装配起来。在此情况下，如图7B所示，清洁支撑元件222的弯曲部222a可从开口224f突出或悬置在其中。
如图7A所示，多个分隔壁224g安装来增强清洁框架224的强度和帮助废调色剂在废调色剂腔223中有序地聚集。优选地在清洁支撑元件222和清洁框架224之间安装密封元件225。然而，应当理解到，在本发明中并不是必须使用壁224g和/或密封元件225。
作为参考，经由布置在清洁框架224的相对侧部的辊保持器212a和212b，可旋转地安装充电辊212和清洁辊213。
图8A和8B是示出根据本发明一个实施例的处理盒的局部透视图。图8A示出了处于拆卸状态的处理盒，图8B示出了处于装配状态的处理盒。因为图8A和图8B所示的处理盒具有与图7A和7B所示实施例基本上相同的构造，图8A和8B只是示出了包括废调色剂腔223的部分，并且在此省略对于其余元件的重复性描述。
如同图7A和7B所示实施例那样，清洁单元220包括清洁刮片221和清洁支撑元件222。清洁支撑元件222包括弯曲部222a，其形成于废调色剂聚集位置之外的其它位置处且适于在与光敏鼓211相反的方向上弯曲。图8A和8B所示实施例的处理盒设有从弯曲部222a延伸的突出部222b。
在图8A和8B所示实施例的处理盒中，开口224f也形成于清洁框架224上的将上表面224c与最上表面224d互连的上侧面224e中。然而，开口224f分段地形成(即形成为多个较小的开口224f)，并且与图7A和7B所示实施例中的开口224f不是同样长。在图7A和7B所示实施例的处理盒中，开口224f形成为在清洁支撑元件222的纵向上延伸很长，并且因而清洁框架224的两个无开口的自由端易于受到变形或收缩的损伤。特别是，辊保持器212a和212b被固定至清洁框架224的两端。如果清洁框架224的端部由于长开口224f的范围而变弱，那么辊保持器212a和212b的位置可能会不匹配。而且，在充电辊212旋转同时接触光敏鼓211时，在清洁框架224的端部处可能会由于充电辊212和光敏鼓211之间的接触所引起的连续压力而出现疲劳变形，并且因而不能形成适合的充电辊隙。因此，图8A和8B所示实施例的处理盒通过使用多个开口224f且在开口224f之间具有延伸的表面224e的部分，能避免由于如图7A和7B实施例所示的长开口224f所导致的弱点。
在图8A和8B所示实施例的处理盒中，在清洁支撑元件222的突出部222b插入相应的开口224f之后，清洁支撑元件222由固定元件226(比如螺钉)或胶粘剂牢固地装配至清洁框架224。
图9至12是示出根据本发明其它实施例的处理盒的各个局部构造的视图。类似于图6A至7B所示的实施例，在图9所示实施例中，清洁支撑元件222的弯曲部222a布置在废调色剂腔223之上并插入清洁框架224的开口224f中。如图9所示，弯曲部222a适于在不完全穿透或延伸通过开口224f的情况下悬置和/或布置在开口224f中。如所示，弯曲部222a为稍大于90°的角度。对于图6A至7B所示实施例中的那些处理盒，图9的处理盒在清洁框架224的密封或强度方面具有明显的结构优点。如果具有安装这种弯曲部222a的空间可用，就能实施图9的实施例。
图10所示处理盒的实施例具有与图7A和7B所示实施例相同的构造，不同之处是，弯曲部222a被形成为具有约90°的角并且穿过开口224f。
图11所示处理盒的实施例具有与图10所示实施例相同的构造，不同之处是，弯曲部222a适于在没有完全穿透开口224f的情况下悬置在图8A所示实施例中的开口224f中。
图12所示处理盒的实施例具有与图6A和6B所示实施例相同的构造，不同之处是，清洁框架224被构造为包括布置在第一清洁框架224a上的第二清洁框架224b。与其中第二清洁框架224b在清洁框架224的最上表面224d的下面延伸的图6A和6B相比，第二清洁框架224b依靠在清洁框架224的最上表面224d的延伸部224g上。
如上所述，本发明的构思是，处理盒的清洁单元的弯曲部被形成为朝着废调色剂腔弯曲而非朝着光敏鼓弯曲，且布置在废调色剂腔之外的位置处。例如，根据本发明的新处理盒可通过将图6A至12所示实施例组合起来而获得。虽然已经描述了不同的实施例，但是如果有安装空间可用，那么具有与图6A所示实施例相同的弯曲部的构造的无开口处理盒是最优选的。
从上述描述中很明显，本发明提供了一种新型的处理盒，其中能获得用于入射激光束的足够路径并且能显著地解决由于相邻部件(比如充电辊和清洁辊)的安装而引起的空间限制，从而方便为成像装置提供设计余量。
除了上述结构优点之外，在本处理盒中还不会出现与清洁框架的强度和密封相关的质量下降。而且，本处理盒允许更大容量的废调色剂腔，从而延长了处理盒的使用寿命。
虽然已经结合其一些实施例示出和描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解到，在不偏离本发明如所附权利要求所限定的精神和范围之下，能在形式和细节上作出不同的变化。

Claims (42)

1.一种处理盒，包括：
用于将残留在光敏鼓表面上的废调色剂移走的清洁单元，该清洁单元包括移走废调色剂的第一部分和连接至第一部分的弯曲部；和
清洁框架，其具有存储由清洁单元移走的废调色剂的废调色剂腔，
其中，所述弯曲部在远离光敏鼓的方向上弯曲并在废调色剂腔的外部周围延伸以便不处于废调色剂腔中。
2.如权利要求1的处理盒，其中，清洁单元的第一部分包括用于响应于光敏鼓的旋转而与光敏鼓的表面相接触以将残留在其上的废调色剂移走的清洁刮片，以及朝着弯曲部延伸以支撑清洁刮片的清洁支撑元件。
3.如权利要求2的处理盒，其中，弯曲部形成于清洁支撑元件的上端。
4.如权利要求1的处理盒，其中，弯曲部布置在废调色剂腔的上部外表面之上。
5.如权利要求4的处理盒，其中，弯曲部布置在清洁框架的上表面之上。
6.如权利要求3的处理盒，其中，弯曲部通过模制形成。
7.如权利要求3的处理盒，其中，弯曲部弯曲约90°。
8.如权利要求2的处理盒，其中，清洁刮片和清洁支撑元件构成为单体。
9.如权利要求2的处理盒，其中，清洁刮片由氨基甲酸酯、硅树脂和橡胶之一制成。
10.如权利要求2的处理盒，其中，清洁刮片具有1至5mm的厚度。
11.如权利要求10的处理盒，其中，清洁刮片具有约2mm的厚度。
12.如权利要求2的处理盒，其中，清洁支撑元件由金属材料制成。
13.如权利要求1的处理盒，其中，还包括位于清洁单元和清洁框架之间的密封元件。
14.如权利要求1的处理盒，其中，清洁框架包括第一清洁框架，和布置在第一清洁框架上的第二清洁框架。
15.如权利要求14的处理盒，其中，第一清洁框架和第二清洁框架通过热熔接、超声波熔接和粘接之一而彼此相连接。
16.一种处理盒，包括：
清洁单元，其具有将残留在光敏鼓表面上的废调色剂移走的第一部分和弯曲部；和
清洁框架，其具有上侧表面和用于存储由清洁单元移走的废调色剂的调色剂腔，所述上侧表面形成有供弯曲部插入的开口，
其中，弯曲部远离光敏鼓地弯曲并位于废调色剂腔的外表面周围以布置在除了废调色剂聚集之处以外的位置处。
17.如权利要求16的处理盒，其中，清洁单元的第一部分包括用于响应于光敏鼓的旋转而与光敏鼓的表面相接触以将残留在其上的废调色剂移走的清洁刮片，以及朝着弯曲部延伸以支撑清洁刮片的清洁支撑元件。
18.如权利要求17的处理盒，其中，弯曲部形成于清洁支撑元件的上端。
19.如权利要求18的处理盒，其中，弯曲部延伸穿过开口以从开口中突出。
20.如权利要求18的处理盒，其中，弯曲部插入开口以便在开口中悬置。
21.如权利要求16的处理盒，其中，清洁框架包括第一清洁框架和布置在第一清洁框架上的第二清洁框架。
22.如权利要求21的处理盒，其中，第一清洁框架和第二清洁框架通过热熔接、超声波熔接和粘接之一而彼此相连接。
23.如权利要求16的处理盒，其中，弯曲部布置在废调色剂腔的上部外表面之上。
24.如权利要求23的处理盒，其中，弯曲部布置在清洁框架的上表面之上，所述上侧表面在该上表面之上。
25.如权利要求16的处理盒，其中，还包括安装在清洁单元和清洁框架之间的密封元件。
26.如权利要求17的处理盒，其中，弯曲部处于清洁支撑元件的上端处并且包括从弯曲部延伸到清洁框架的开口中的突出部。
27.一种处理盒，包括：
光敏鼓，其上潜像由调色剂显影为所需可视图像；
清洁框架，其具有存储从光敏鼓上移走的废调色剂的废调色剂腔；和
清洁单元，其具有将废调色剂从光敏鼓上移走的第一部分和支撑该第一部分并在废调色剂腔的外表面周围弯曲的弯曲部。
28.如权利要求27的处理盒，其中，清洁框架包括第一清洁框架和布置在第一清洁框架上的第二清洁框架。
29.如权利要求28的处理盒，其中，第一清洁框架和第二清洁框架通过热熔接、超声波熔接和粘接之一而彼此相连接。
30.如权利要求27的处理盒，其中，清洁单元包括从弯曲部延伸至第一部分且附接至废调色剂腔的第一壁的连接部。
31.如权利要求30的处理盒，其中，
废调色剂腔包括连接到第一壁的第二壁，且
弯曲部包括在第一和第二壁周围延伸但并未穿过的延伸部以使得第二壁位于废调色剂腔和延伸部之间并且第一壁位于废调色剂腔和连接部之间。
32.如权利要求31的处理盒，其中，还包括壳体框架，该壳体框架限定了包括光敏鼓和清洁单元的内部，其中，壳体框架具有开口且延伸部伸入该开口中。
33.如权利要求32的处理盒，其中，延伸部延伸通过该开口。
34.如权利要求31的处理盒，其中，清洁框架具有从第二表面延伸且包括开口的第三表面，延伸部伸入该开口中。
35.如权利要求34的处理盒，其中，延伸部延伸通过该开口。
36.如权利要求27的处理盒，其中，清洁单元包括在远离光敏鼓的第一方向上从第一部分延伸至弯曲部的连接部，且弯曲部包括在除了第一方向之外的第二方向上延伸的延伸部。
37.如权利要求36的处理盒，其中，还包括壳体框架，该壳体框架限定了包括光敏鼓和清洁单元的内部，其中，壳体框架具有开口且延伸部伸入壳体框架的开口中。
38.如权利要求37的处理盒，其中，所述开口包括位于壳体框架中的多个开口，且所述延伸部包括伸入相应开口中的多个延伸部。
39.如权利要求36的处理盒，其中，第一方向基本上垂直于第二方向。
40.如权利要求36的处理盒，其中，还包括除了清洁框架之外的壳体框架，该壳体框架限定了包括光敏鼓和清洁单元的内部，其中，清洁框架具有开口，且延伸部伸入该开口中。
41.如权利要求40的处理盒，其中，所述开口包括位于清洁框架中的多个开口，且所述延伸部包括伸入相应开口中的多个延伸部。
42.一种成像装置，其利用由权利要求27所述的处理盒供给的调色剂在介质上形成图像。
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