CN1892842A - 光学信息记录介质及光学信息再现装置 - Google Patents

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Abstract

在一种通过照射激光束在其上执行信息的记录操作或再现操作的光学信息记录介质中，具有通过间隔层提供的两个记录层。对于沿圆周方向的每一个单位长度，间隔层的膜厚度变化Δd的绝对值等于或小于预定值，其中，根据激光束的波长、在波长λ中间隔层的折射系数、以及激光束的直线速率与在每一个所述记录层中记录的凹坑序列的最短凹坑长度的之一来确定所述预定值。

Description

光学信息记录介质及光学信息再现装置
技术领域
本发明涉及一种光学信息记录介质以及一种光学信息再现装置，更具体地，涉及一种光学信息记录介质，其中，通过激光束的照射来实现来自多个记录层的数据的记录和再现操作；以及涉及一种用于多层光学信息记录介质的光学信息再现装置。
背景技术
在诸如磁光盘及相变光盘之类的可重写光学信息记录介质中，激光束照射到记录膜上。通过利用激光束来改变记录膜的光学特性，如磁光特性、反射率和光学相位，来记录数据，以及从按照记录膜的光学特性进行调制的激光束中再现数据。
为了提高光学信息记录介质的记录容量，近来尝试了许多技术，如，信号处理技术；平台和凹槽(land and groove)记录技术，其中，数据被记录在与形成在基板上的轨道引导凹槽(tracking guidegroove)相对应的部分以及引导凹槽之间的部分之上；以及超分辨法(super resolution)再现，允许再现小于光衍射范围的标记。在这些技术中，具有多个记录层的多层记录介质，尤其是使用两个记录层的2层介质，能够极大地提高记录容量。因此，它的研究和发展蓬勃地向前推进。与单层记录介质相比，2层介质的容量最多可能简单地提高至两倍。实际上，在使用红色半导体激光束的DVD-ROM中，商业上可用的是单层具有4.7GB容量的盘以及具有大约两倍的9GB容量的盘。
图2是示出了多层光学信息记录介质的剖面的剖面图。在图2的配置示例中，在基板上，通过间隔层(space layer)对多个记录层(在图2的示例中总数为N+1层)进行层叠。在本说明书中，假设按照以下方式顺序标识各个记录层：最靠近激光束的输入平面的记录层被称为L0、从激光束输入平面起的第二记录层被称为L1、以及后续的记录层被称为L2。间隔层的作用是粘合两个记录层、以及减少记录层之间的串扰。这里，记录层之间的串扰暗示在来自预定记录层的再现信号中不同层的反射光线分量，如图3所示。记录层之间的串扰成为降低再现信号调制度、以及使再现信号的质量恶化的因素。随着间隔层的变厚，能够降低记录层之间的串扰。另一方面，随着间隔层的变厚，用于记录或再现数据的聚焦光束的球面相差增加，从而使再现信号的质量恶化。因此，需要通过考虑记录层之间串扰的减少与球面相差的增加的折中来使间隔层厚度最优化。
结合上面的描述，在日本待审专利公开(JP-P2003-77191A)中公开了一种制造多层光学记录介质的方法。在该多层光学介质的传统制造方法中，在基板上形成第一光记录平面。通过至少两个层叠步骤在第一光学记录平面上形成光透射中间层。然后，在光透射中间层上形成第二光记录平面。
同样，结合上面的描述，在日本待审专利公开(JP-P2003-296978A)中公开了一种制造光学记录介质的方法。在该光学记录介质的传统制造方法中，生产基板，以使其具有第一轻微不均匀度(unevenness)。在基板上形成第一光记录层，在第一光记录层上形成紫外线硬化树脂层，并且通过照射紫外线硬化树脂层。然后，将具有轻微不均匀度的压模(stamper)推向硬化树脂层的表面，以便将第二不均匀形状复制到硬化树脂层的表面上。随后，在硬化树脂层的第二不均匀形状上形成第二光记录层，以及在第二光记录层上形成保护层。
同样，在日本待审公开专利公开(JP-P2004-220750A)中公开了一种制造光学信息记录介质的方法。在这种光学记录介质的传统制造方法中，准备在主表面上具有中心孔及具有记录层的基板，并且中心孔被孔阻塞(hole stoppage)件阻塞。通过旋转涂层方法，当围绕中心孔旋转基板以将树脂材料涂敷在记录层上时，树脂材料从上面的中心孔中滴下。从中心孔去除孔阻塞件，准备具有沟槽(ditch)或不均匀凹坑的压模，并且压膜与基板上树脂材料相反配合。通过硬化树脂材料，由树脂材料形成中间层，并且将压模从基板处去除。这样，在中间层的表面形成记录层，从而与压模的沟槽或不均匀凹坑相对应。
发明内容
本发明的目的是提供一种多层光学信息记录介质，能够从中获取具有优良质量的再现信号，以及一种用于这种记录介质的信息再现装置。
在本发明的一方面中，提供了一种光学信息记录介质，通过照射激光束，对这种介质执行信息的记录操作或再现操作。光学信息记录介质包括通过间隔层提供的两个记录层。对于沿圆周方向的每一个单位长度，间隔层的膜厚度的变化Δd的绝对值等于或小于预定值，根据激光束的波长、在波长λ中间隔层的折射系数、以及激光束直线速率与每一记录层内记录的凹坑(pit)序列的最短凹坑长度的之一来确定该预定值。
这里，当激光束的波长是λ、波长λ(μm)中间隔层的折射系数是n、以及光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化Δd是|Δd |≤(10λ/n/v)。
同样，当激光束的波长是λ(μm)、波长λ(μm)中间隔层的折射系数是n、以及在光学信息记录介质的每一记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化Δd是|Δd|≤(0.309λ/n/L)。
此外，间隔层的膜厚度在20μm到40μm的范围内。
在本发明的另一方面中，提供了一种光学信息记录介质，通过照射激光束，对这种介质执行信息的记录操作或再现操作。光学信息记录介质包括N个记录层(N是大于2的自然数)；以及(N-1)个间隔层，在N个记录层的每两个相邻记录层之间提供每一个间隔层。对于沿圆周方向的每一单位长度，N个间隔层的膜厚度的变化Δd的绝对值等于或小于预定值，根据激光束的波长λ、在波长λ中间隔层的折射系数、以及激光束直线速率与每一记录层内记录的凹坑序列的最短凹坑长度的之一来确定该预定值。
这里，当激光束的波长是λ(μm)、波长λ(μm)中间隔层的折射系数是n、以及光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化Δd是|Δd|≤(5λ/n/v)。
同样，当激光束的波长是λ(μm)、波长λ(μm)中间隔层的折射系数是n、以及在光学信息记录介质的每一记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化Δd是|Δd|≤(0.154λ/n/L)。
在本发明的另一方面中，提供了一种光学信息记录介质，通过照射激光束，对这种介质执行信息的记录操作或再现操作。光学信息记录介质包括M个记录层(M是大于2的自然数)；以及(M-1)个间隔层，在M个记录层的每两个相邻记录层之间提供每一个间隔层。当来自激光入射平面的(M-1)间隔层的第N(1≤N≤M-2)层膜厚度是dN、(M-1)间隔层的第(N+1)层膜厚度是dN+1、以及间隔层膜厚度差是DS＝|dN-dN+1|时，对于沿圆周方向的每一单位长度，空间膜厚度差DS的变化ΔDS的绝对值等于或小于预定值。
这里，当激光束波长是λ(μm)、波长λ(μm)中第N和第N+1间隔层中的每一个的折射系数是n、以及光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化Δd是|Δd|≤(5λ/n/v)。
同样，当激光束波长是λ(μm)、波长λ(μm)中第N和第N+1间隔层中每一个的折射系数是n、以及在光学信息记录介质的每一记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm间隔层的膜厚度的变化ΔDS是|ΔDS|≤(0.154λ/n/L)。
此外，激光束的波长在380到430nm的范围内，以及将由具有0.6至0.7孔径的物镜采集的激光束照射到光学信息记录介质上。
此外，将被ETM(八到十二调制)调制的信息记录在光学信息记录介质上。
此外，在本发明的另一方面中，提供了一种光学信息再现装置，通过使用上述光学信息记录介质，来执行信息再现。光学信息再现装置包括光头部分，被配置成将激光束照射到光学信息记录介质，并且从反射自光学信息记录介质的光线中生成再现信号；放大器部分，被配置成放大再现信号；以及抑制部分，被配置成在KHz波段内抑制再现信号的变化。
这里，抑制部分包括高通滤波器，被配置成对从放大器部分输出的信号进行滤波，并且高通滤波器的截止频率等于或高于3KHz以及等于或低于20KHz。
附图说明
图1A和1B是示出了根据本发明光学信息记录介质的再现信号的图示；
图2是示出了多层光学信息记录介质配置的示例的图示；
图3是说明多层光学信息记录介质中层间串扰的图示；
图4是根据本发明，示意性地示出了光学信息再现装置配置的结构框图；
图5A和5B是示出了间隔层膜厚度分布示例以及每一单位长度间隔层厚度变化示例的图示；以及
图6是示出了在来自具有三个或多个记录层的光学信息记录介质的数据的再现中生成的光干扰的图示。
具体实施方式
下面，将参照附图来详细描述根据本发明使用光学信息记录介质的光学信息再现装置。本申请的发明人发现，来自多层介质的再现信号的质量不但极大地依赖于间隔层的厚度，还极大地依靠间隔层厚度的变化。本发明基于此发现。
图4是示出了光学信息再现装置10的配置的结构框图。参照图4，光学信息再现装置10包括光头部分12、预放大器14、高通滤波器(HPF)16、以及解码电路18。图4中，省略了本领域的技术人员所熟知的其它配置，如用于旋转光学信息记录介质2的旋转系统、伺服控制系统。
光头部分12具有本领域技术人员所熟知的配置，包括激光二极管(未示出)和物镜12-1(图3)。将从激光二极管输出并聚焦的激光束照射到多层光学信息记录介质2上。光头部分12从来自多层光学信息记录介质2的反射激光束中生成再现信号。通过用于增大信号幅度的预放大器14以及用于抑制再现信号中包含的低频分量的噪声的高通滤波器16，将来自光学信息记录介质的再现信号发送至解码电路18。解码电路18是用于将再现信号转换为二进制数值的电路。解码电路18包括：用于保持信号幅度恒定的AGC(自动增益控制)电路、以及用于时钟信号提取的PLL电路及其它(均未示出)。如本领域技术人员所熟知的，当使用电平分割(level slice)方法执行二进制数值转换时，解码电路18包括比较器(未示出)，以及当使用PRML方法执行二进制数值转换时，包括PR均衡电路和维特比检测器(未示出)。
作为从作为多层光学信息记录介质2的二层光学信息记录介质中再现数据的示例，将参照图1A和1B，详细描述来自L0记录层的数据信号的再现。当应当在图1A中所示距离圆心半径r的位置处，从L0记录层的再现数据时，如图1B所示，从光头部分照射聚焦的激光束，反射到L0记录层上、并作为光学再现信号I0输出。此外，聚焦的激光束通过L0记录层，然后在再次通过L0记录层之后，作为光学再现信号I1输出。反射到L1记录层上的光学再现信号I1用作层间串扰。通过光头部分12的光检测器(未示出)检测到包含信号I0和I1的光学再现信号It。光学再现信号I0和I1是具有发散的光束。然而，出于简单说明的目的，在图1B中，它们被表示为直线。
本申请的发明人发现，光学再现信号I0和I1之间的光学干扰导致了光学再现信号质量的严重恶化。光检测器上的光学再现信号I0的电场幅度被定义为R0eiθ，以及光学再现信号I1的电场幅度被定义为R1ei(θ+ΔΦ)。于是，当在光学再现信号I0和I1之间引起光学干扰时，干扰之后的光学再现信号It被表示为
        It＝R02+R12+2R0R1cos(ΔΦ)。
其中，用于再现数据的激光束的波长被定义为λ、间隔层的折射系数被定义为n、以及间隔层的厚度被定义为d。此时，将ΔΦ表示为ΔΦ＝2π×2nd/λ。间隔层厚度的变化致使ΔΦ的变化并且导致光学再现信号It的变化。通常沿形成于同心圆中的凹坑串或引导凹槽或形成在光学信息记录介质上的螺旋形状来执行来自光学信息记录介质2的数据的再现。这样，当在图1A所示半径r的圆上沿圆周方向存在膜厚度分布时，来自光学信息记录介质2的再现信号发生光量的变化。这样，沿圆周方向的膜厚度分布成为再现数据时错误率增加的因素之一。间隔层通常由紫外硬化树脂制成，该树脂的折射系数(在波长400nm附近)大约为1.5到1.6。应当注意，再现信号I0和I1的光束面积不同，并且反射光束的光学相位不完全一致。因此，实际上并未生成由上述等式表示的干扰。然而，本申请的发明人发现，由间隔层中膜厚度的变化引起的光学干扰导致了关于总接收光反射光量的大约5到15％的光量的变化，并且信号质量下降。
可以如下估计沿圆周方向的容许厚度变化。假设激光束的波长为λ(μm)，间隔层在波长λ中的折射系数为n，当数据再现时激光束的直线速率为v(m/s)、以及沿圆周方向每1mm间隔层膜厚度的变化为Δd。在这种情况下，如果Δd＝0.5λ/n/v，则沿圆周方向在v(mm)的范围内ΔΦ改变2π，并且引起了1KHz的光量的变化(光束以v(m/s)的速度移动v(mm)的长度所需的时间为1ms，并且以1ms为一个周期的光量变化的频率为1KHz)。类似地，如果Δd＝2.5λ/n/v，则引起5KHz的变化，以及如果Δd＝10λ/n/v，则引起20KHz的变化。这里，注意到每1mm的膜厚度的变化(与膜厚度变化的斜率相对应)。然而，在通常的间隔层形成方法中，例如通过旋转涂层以及使用粘合剂粘贴透明片的紫外硬化树脂层形成中，在绝大多数情况下，膜厚度在小于1mm的范围内较大改变。这样，考虑每1mm的膜厚度变化斜率是适合的。
能够通过高通滤波器16来抑制KHz波段的变化。然而，在光学信息记录介质2上记录的信号也包括KHz波段内的信号分量。因此，如果将高通滤波器16的截止频率设置过高，则再现信号本身恶化。如下面的示例所述，当将高通滤波器16的截止频率设置为高于20KHz时，则检测性能降低。此外，沿圆周方向每1mm长度的膜厚度变化Δd的绝对值必须为10λ/n/v或更小。此外，优选地，20KHz截止频率的高通滤波器16不能将变化分量移至20KHz。因此，优选地，与变化10KHz相对应，沿圆周方向每1mm长度的膜厚度变化Δd的绝对值等于或小于5λ/n/v，更优选地，与5KHz或更低的截止频率相对应，Δd等于或小于2.5λ/n/v。为了抑制KHz波段的变化，除了高通滤波器16之外，还可以通过将平均光接收等级设置为误差信号、以及通过闭环抑制变化，使用偏置抵消器。此外，可以同时使用高通滤波器和偏置抵消器。
[第一实施例]
将具有0.6mm厚度的聚碳酸酯(PC)用作基板。然后，将ZnS-SiO2、GeCrN、GeSbTe、GeCrN、ZnS-SiO2、Ag合金以及ZnS-SiO2依次层叠在PC基板上，并完成L0记录层。将其上已经形成了用于跟踪服务的引导凹槽的基板用于PC基板。引导凹槽的间距是0.4μm，深度为30nm。将Ag合金层、ZnS-SiO2层、GeSbTe层、以及ZnS-SiO2层依次层叠在PC基板上，并且完成L1记录层。通过使用作为间隔层的紫外硬化树脂，将L0记录层和L1记录层彼此粘合以形成2层介质，其中，紫外硬化树脂在大约400nm的波长上具有n＝1.58的折射系数。作为平均值，间隔层的厚度大约为28μm。形成具有相同配置的五个二层介质，并检查间隔层内的膜厚度变化与记录/再现特性之间的关系。当形成五个介质时，有意地改变粘合条件，以使盘沿圆周方向上的膜厚度分布很大。
图5A和5B示出了沿圆周方向的间隔层的膜厚度分布的示例。在此测量示例中，在半径39.5mm(一周为248.1mm)处，使用膜厚度干扰指示器沿圆周方向测量每两度(每一度为1.379mm)的间隔层厚度。基于这些测试结果，计算沿圆周方向每1mm的膜厚度变化和膜厚度变化斜率。
使用具有0.65孔径(NA)的物镜的光头来执行记录/再现评估。此时，在L0记录层的侧面上设置激光束的输入表面。将记录/再现时的直线速率设置为661m/s，以及以64.8MHz的时钟频率(最短标记(mark)2T：0.204[μm])记录已经进行了ETM(八到十二调制)调制(“用于高密度光盘的8到12调制”，再现信号ISOM’03技术摘要P.160-161)的数据。通过将高通滤波器的截止频率设置为16到3kHz、以及将PR(1，2，2，2，1)均衡与维特比检测相结合，来执行再现。
下面的表1示出了间隔层圆周方向上的每1mm的膜厚度变化(膜厚度变化倾度)、以及在记录到L0记录层及从L0记录层再现时的误码率。表1中示出的膜厚度变化是被限定在一个周期内膜厚度变化绝对值的最大值之内的值。表1示出了所形成的五个二层介质的结果。
                      表1
  再现信号ID   膜厚度变化(μm/mm)   误码率
  1   0.02   8×10-6
  2   0.03   8.5×10-6
  3   0.1   3.1×10-5
  4   0.2   7×10-5
  5   0.4   3×10-4
从表1中能够看到，在每1mm膜厚度变化很大的介质4或介质5处的误码率极大地增加。当该实施例的评估条件中的信号变化频率是1KHz时，每1mm的膜厚度变化Δd＝0.5×0.405/1.59/6.61＝0.02μm。这样，在介质4或5中，引起了10KHz和20KHz之间的信号变化(信号变化由L0记录层反射光线和L1记录层反射光线之间的光学干扰引起)。认为该变化引起了误码率的增加。在与20KHz的变化频率相对应的介质5中，误码率达到3×10-4，这是装置稳定操作的允许极限。因此，可以理解，需要将变化频率设置为20KHz或更小。此外，优选地，如果能够将变化频率设置为10KHz或更小，更优选地，将变化频率设置为5KHz或更小，则能够以足够低的误码率再现数据。
[第二实施例]
通过使用在第一实施例中形成的介质1，来检查高通滤波器16与误码率之间的关系。将除高通滤波器16之外的记录/再现条件设置于第一实施例。此外，通过改变高通滤波器16的截止频率来测量误码率。下面的表2示出了测试结果。从表2中能够看出，当将高通滤波器16的截止频率设置为高于20KHz时，误码率逐渐增加。可以认为，由高通滤波器恶化ETM调制信号中所包含的高频(20KHz或更高)分量这一事实导致了误码率的增加。按照这种方式，高通滤波器有效地进行操作以便抑制由光学干扰引起的信号变化。然而，希望将截止频率的上限设置为20KHz。
                 表2
 高通滤波器截止频率(KHz)   误码率
 1   9×10-6
 3   8×10-6
 10   7.3×10-6
 20   9.3×10-6
 30   2×10-5
通过使用直线速率作为参数来定义Δd的上限。然而，在光学信息记录介质上记录的凹坑的凹坑长度能够用来定义Δd的上限。当再现时直线速率被定义为v(m/s)、激光束的波长被定义为λ(μm)、波长λ中间隔层的折射系数被定义为n、以及沿圆周方向的每1mm的间隔层膜厚度变化定义为Δd(μm)时，由间隔层的膜厚度变化引起的信号变化频率f(KHz)被表示为f＝2vnΔd/λ。当波束以直线速率v(m/s)前进1ms(与周期1KHz相对应)时的长度为v(mm)。由于沿圆周方向每1mm的膜厚度变化为Δd(μm)，所以在v(mm)范围内生成的膜厚度变化量为vΔd(μm)。光路差为2vΔd，是二倍的vΔd。该光路差与波长倍数λ/n的比值等于信号变化频率。
另一方面，当直线速率被定义为v(m/s)、记录在光学信息记录介质上的凹坑串中的最短凹坑长度被定义为L(μm)时，最短凹坑长度的频率fs为fs＝0.5v/L(MHz)。在第一实施例中，fs(MHz)＝16.2MHz。当容许变化频率fc(KHz)被设置为20KHz时，fs/fc＝16.2/20。此外，fc＝20fs/16.2＝10v/(16.2L)。这样，为了满足f≤fc，应充分满足2vnΔd/λ≤(10v/16.2/L)的条件。也就是说，如果Δd≤0.309λ/n/L，则变化的频率为20KHz或更小，以及如果Δd≤0.154λ/n/L，则变化的频率为10KHz或更小。
[第三实施例]
在第一和第二实施例中，已经描述了具有两层记录介质的情况。然而，当记录介质具有三个或更多个记录层时，光学干扰不是由单个间隔层的变化引起，而是由两个间隔层的变化引起。也就是说，如图6所示，与两个记录层的情况相似，在记录介质具有三个或更多记录层的情况下，除了由彼此靠近的层之间的反射光束引起的干扰之外，还引起了新的干扰。当在目标记录介质(在其上记录数据或从中再现数据)的输入侧上存在两个或更多个记录层时，由于以下原因引起干扰：激光束反射在一层之前的记录层上被反射，在两层之前的记录层的后部上被反射，在一层之前的上述层上再次被反射，以及返回到光头部分12。
如果各个间隔层的厚度实质上相等，则对于干扰光线，从输入表面的光路长度实质上等于目标记录层表面的光路长度。因此，即使在小光线量的情况下，来自目标记录层、与要再现的信息相对应的信号光线的干扰变得很严重。因而不能忽略干扰的影响。在这种情况下，引起干扰的两条光路长度之间的差与|dN-dN+1|成正比，其中，当从光输入侧计数时第N个间隔层的膜厚度被定义为dN、以及第(N+1)间隔层的膜厚度被定义为dN+1。实际上，这一实现非常困难。然而，优选地，如果沿各个间隔层的圆周方向的膜厚度变化量相等，即使膜厚度本身暂时地变化，也决不会产生干扰的变化。实际上，由于对于每一个间隔层来说，沿圆周方向的膜厚度变化是不同的，所以需要第N间隔层和第(N+1)间隔层之间的厚度差DS为DS＝|dN-dN+1|，以及需要DS沿圆周方向每1mm的变化ΔDS为10λ/n/v或更小，优选地，为5λ/n/v，以及更优选地，为2.5λ/n/v。如果将每一个间隔层本身的膜厚度变化抑制为原先的一半，则如上面所提及的，自动满足变化的上限。
该实施例中，已经描述了28μm的间隔层厚度的情况。然而，间隔层的厚度可以在20μm到40μm的范围之内。这是由于，如果比20μm薄，则不能忽略由层间串扰引起的信号质量的恶化，以及如果比40μm薄，则球面相差变大、并且信号质量恶化。
此外，本实施例中只对作为光学信息记录介质的相变记录介质进行了描述。然而，本发明的效果与在一次写入多次读取型的光学信息记录介质、以及用于再现的光学信息记录介质中的效果相似。
此外，在本说明书中，作为光头部分12中物镜孔径NA，只对0.65NA进行了描述，。然而，能够使用0.6至0.7范围内的光头。在小于0.6的孔径NA中，不能降低光束直径。因而很难执行高密度记录。此外，在大于0.7的孔径NA中，当输入来自基板侧面的激光束以执行记录/再现操作时，对于盘倾斜度的容许余度非常窄，并且不现实。
如果孔径NA大于0.7，则光线收集光束的聚焦深度变浅。如果间隔层大于或等于20μm，则光学干扰的影响实质上处于可忽略的水平。因而，在本发明有效作用的情况是当使用波长在380到430nm之间的光头、以及物镜的孔径为NA＝0.6至0.7来执行多层光学信息记录介质的记录或再现时的情况。
通过使用本发明，能够从多层介质中获得具有优良质量的再现信号。因此，能够提供更大容量的光学信息记录介质。

Claims (16)

1、一种光学信息记录介质，通过照射激光束，在所述光学信息记录介质上执行信息的记录操作或再现操作，所述光学信息记录介质包括：
通过间隔层提供的两个记录层，
其中，对于沿圆周方向的每一个单位长度，所述间隔层膜厚度变化的绝对值等于或小于预定值，其中，根据所述激光束的波长、在所述波长λ中所述间隔层的折射系数、以及所述激光束直线速率与在每一个所述记录层内记录的凹坑序列的最短凹坑长度的之一来确定所述预定值。
2、如权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束的波长是λ、波长λ(μm)中所述间隔层的折射系数是n、以及所述光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm所述间隔层的膜厚度的所述变化Δd是|Δd|≤(10λ/n/v)。
3、如权利要求1所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束的波长是λ、波长λ(μm)中所述间隔层的折射系数是n、以及在所述光学信息记录介质的每一层所述记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm所述间隔层的膜厚度的所述变化Δd是|Δd|≤0.309λ/n/L。
4、如权利要求1至3之一所述的光学信息记录介质，其中，所述间隔层的膜厚度在20μm到40μm的范围内。
5、一种光学信息记录介质，通过照射激光束，在所述光学信息记录介质上执行信息的记录操作或再现操作，所述光学信息记录介质包括：
M个记录层(M是大于2的自然数)；以及
(M-1)个间隔层，在所述M个记录层的每两个相邻记录层之间设置每一个所述间隔层，
其中，对于沿圆周方向的每一单位长度，每一个所述(M-1)间隔层膜厚度变化的绝对值等于或小于预定值，其中，根据所述激光束的波长、在所述波长中所述(M-1)个间隔层的折射系数、以及所述激光束直线速率与在每一个所述记录层内记录的凹坑序列的最短凹坑长度的之一来确定所述预定值。
6、如权利要求5所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束的波长是λ、波长λ(μm)中所述间隔层的折射系数是n、以及所述光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm所述n个间隔层中每一层的膜厚度的所述变化Δd是|Δd|≤(5λ/n/v)。
7、如权利要求5所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束的波长是λ、波长λ(μm)中所述间隔层的折射系数是n、以及在所述光学信息记录介质的每一层所述记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm所述间隔层膜厚度的所述变化Δd是|Δd|≤0.154λ/n/L。
8、如权利要求5至7之一所述的光学信息记录介质，其中，所述激光束的波长在380到430nm的范围内，以及将由具有0.6至0.7孔径的物镜采集的激光束照射到所述光学信息记录介质上。
9、如权利要求5至7之一所述的光学信息记录介质，其中，将被ETM调制的所述信息记录在所述光学信息记录介质上。
10、一种光学信息记录介质，通过照射激光束，在所述光学信息记录介质上执行信息的记录操作或再现操作，所述光学信息记录介质包括：
M个记录层(M是大于2的自然数)；以及
(M-1)个间隔层，在所述M个记录层的每两个相邻记录层之间提供每一个所述间隔层，
其中，当从激光入射平面的所述(M-1)间隔层的第N(1≤N≤M-2)层的膜厚度是dN、所述(M-1)个间隔层的第(N+1)层的膜厚度是dN+1、以及间隔层的膜厚度差是DS＝|dN-dN+1|时，对于沿圆周方向的每一单位长度，所述空间膜厚度差DS的所述变化ΔDS的绝对值等于或小于预定值。
11、如权利要求10所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束的波长是λ、波长λ(μm)中所述第N和第N+1间隔层中每一层的折射系数是n、以及所述光学信息记录介质的标准直线速率是v(m/s)时，沿圆周方向每1mm所述间隔层膜厚度的所述变化Δd是|Δd|≤(5λ/n/v)。
12、如权利要求10所述的光学信息记录介质，其中，当所述激光束波长是λ、波长λ(μm)中所述第N和第N+1间隔层中每一层的折射系数是n、以及在所述光学信息记录介质的每一记录层上记录的凹坑序列的最短凹坑长度是L(μm)时，沿圆周方向每1mm所述间隔层的膜厚度的所述变化ΔDS是|ΔDS|≤0.154λ/n/L。
13、如权利要求10至12之一所述的光学信息记录介质，其中，所述激光束的波长在380到430nm的范围内，以及将由具有0.6至0.7孔径的物镜采集的所述激光束照射到所述光学信息记录介质上。
14、如权利要求10至12之一所述的光学信息记录介质，其中，将被ETM调制的所述信息记录在所述光学信息记录介质上。
15、一种光学信息再现装置，通过使用光学信息记录介质来执行信息的再现，包括：
光头部分，被配置成将所述激光束照射到所述光学信息记录介质，并且从反射自所述光学信息记录介质的光线中生成再现信号；
放大器部分，被配置成放大所述再现信号；以及
抑制装置，用于在KHz波段内抑制所述再现信号的变化。
16、如权利要求15所述的光学信息再现装置，其中，所述抑制装置包括高通滤波器，被配置成对从所述放大器部分输出的信号进行滤波，以及
所述高通滤波器的截止频率等于或高于3KHz以及等于或低于20KHz。
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