CN1878887B - 用于涂覆细长基底的真空涂覆系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于涂覆细长基底的真空涂覆系统，所述涂覆系统具有一个或数个涂覆部件和一个或数个泵部件，至少一个磁控管在所述涂覆系统中作为基底上方的向下溅射物体，所述物体具有与基底上侧相对的靶表面和/或包括作为基底下方的向上溅射物体的配置，所述物体具有与基底下侧相对的靶表面，所述涂覆系统还具有输送装置。本发明的目的是形成一种用于细长基底双侧涂覆的串接的涂覆系统，其中，结构成本和空间需要降低。通过这样的事实实现本发明的目的，即，输送装置(9)以分开的方式布置在驱动平台(10)和输送平台(11)上，以这种方式设置驱动平台(10)，在向上溅射物体内，包括磁控管(4)的磁控管主体的下侧位于驱动平台(10)的上方。

Description

用于涂覆细长基底的真空涂覆系统

技术领域

本发明涉及一种用于对细长基底施加涂层的真空涂覆系统，所述涂覆系统具有一个或数个涂覆部件和一个或数个泵部件，在所述系统中至少一个磁控管作为基底上方的向下溅射物体(variant)，所述物体具有与基底上侧相对的靶表面和/或包括作为基底下方的向上溅射物体的配置，所述向上溅射物体具有与基底下侧相对的靶表面和输送装置。

背景技术

所述双测涂覆原理具有工业实用性，例如，串接的多腔室玻璃涂层系统。利用输送系统将要涂覆的平的细长玻璃片水平地输送通过连续布置的涂覆部件和泵部件，并且按照需要从上方和/或下方向玻璃施加涂层。为此，在所述的系统内相对于基底在上方安装磁控管，该磁控管或者安装在同一个涂覆部件内或者安装在另一个单独的涂覆部件内。包括驱动部件和输送部件的输送系统用于输送基底，该系统位于与向下溅射磁控管和向上溅射磁控管基本等距离的平面内，因此在结构上将两个涂覆区域分成上侧和下侧。因而，在真空涂覆腔的上侧部分和下侧部分上设有分开的安装结构和开口，以便于安装和拆卸用于向下溅射模式和向上溅射模式的磁控管和泵。

这种类型涂覆系统的基本设计在公开文本EP 1179516A1中是已知的，其中描述了对于玻璃基底两侧进行涂层的装置和方法，所述玻璃基底经过位于恒定位置的涂覆系统。

所述这种类型涂覆系统的一个显著缺点是，涂覆部件的上侧和下侧的磁控管和泵的分开配置需要在涂覆系统下或者在涂覆系统侧面提供相应的组装和维修空间，这与实际的建造成本有关。如果磁控管和泵从下方安装，这就要求将整个的涂覆系统抬高。磁控管和泵的侧面安装导致与通向涂覆系统内的特殊拉出台车有关的高成本。

而且，为防止涂覆过程的中断，不能将输送部件和驱动部件设置在向上溅射模式中的溅射源附近，结果在这个区域的输送部件和驱动部件的更大范围要求涂覆部件比单侧基底涂覆情况下的涂覆部件，总体更长并且更宽。

发明内容

因此，本发明的一个目的是形成一种用于对细长基底的两侧进行涂覆的串接的涂覆系统，其中，建造成本及空间需求减小。

通过这样的事实实现本发明的目的，以分开的方式将输送装置布置在驱动平台和输送平台上。驱动平台这样布置，在向上溅射物体内，包括磁控管的磁控管主体的下侧位于驱动平台的上方。

在输送装置的这种布置中，驱动部件不再位于用于向上溅射模式的磁控管与基底之间。从驱动平台向输送部件的输送平台传输动力，输送部件例如是输送辊，输送平台与驱动平台成直角，并且在涂覆部件和泵部件内的任何一点这都是可能的。

一方面，这种布置允许磁控管在向上溅射和向下溅射两种模式中都可自上方进行安装，简化了组装和维修过程中的操作，并且也避免将向上支撑件上的系统抬高的需要。另一方面，驱动部件保持不受影响并且在溅射室外部，这产生更大的操作安全性。现在，在驱动平台上有足够的空间容纳驱动部件，并且允许减小输送装置的外部尺寸，因此，真空室的宽度和长度缩短。

而且，输送装置的布置对于靠动力驱动的输送辊及其用于传输动力的水平连接件的位置，允许有多种灵活构造，这具有优点。这使得在受动力驱动的输送辊之间有更大的范围和空间。结果，用于向上溅射过程的磁控管和泵能够从顶部向下安装，而现在沿着整个输送平台可以接触到下部的涂覆室。现在，组装通道与用于向下溅射过程的磁控管和泵的通道是一样的，不再需要其它的组装路径。从构造成本和涂覆系统的空间需求上来看，这具有显著的节省。

在根据本发明的真空涂覆系统的有利结构中，输送平台的输送部件能够与驱动系统脱开连接，并且需要时将其移走。

从驱动平台经过最短路程向输送平台的输送辊传输平坦基底的驱动动力。输送路径包括多个具有不超过三个输送辊的最短路程，输送辊彼此相连。形成直线端接(line end)的输送辊容易从输送路径中除去，而不会阻碍向平坦基底的驱动动力传送路径。这一实施例还简化了安装磁控管和泵所需的组装工作，并且提高了输送辊之间范围和空间的结构的灵活性。

在根据本发明的真空涂覆系统的实际研发中，在作为向上溅射物体的一个布置中，磁控管与固定部件相连，该固定部件在侧面从真空涂覆系统的顶部沿着基底延伸到磁控管主体。

这样，用于向上溅射物体的磁控管能够从上方安装到下部的涂覆区域内。对于单独固定到下部涂覆区域的组装成本减小，并且不再需要相应的组装和维修空间。

另一个实施例提供了驱动平台的驱动部件，其能够以这种方式被包入壳体内，即，壳体用作流动阻挡。

当输送装置现在穿过两个平台的涂覆部件和泵部件，即，驱动平台和输送平台，其最好构成为经过驱动平台内的输送装置时作为流动阻挡，因此，在两个部件之间不会出现额外的压力均等化。驱动部件的壳体在这里用作流动阻挡。

在根据本发明的真空涂覆系统的优选实施例中，在输送平台的上方和下方的涂覆部件和泵部件内，分别设置彼此相应的抽吸口。

这使得能够根据需要，从向下溅射模式的相邻涂覆部件的上部涂覆区域向泵部件内进行抽吸，和/或从向上溅射模式的相邻涂覆部件的下部涂覆区域向泵部件内进行抽吸，以及从左侧和/或右侧的相邻涂覆部件向泵部件内进行抽吸。通过对应布置的流动孔，抽吸口能够进行调节，使得在向下溅射和向上溅射模式中的泵部件及其相邻的涂覆部件具有灵活的调节可能性。

对于抽吸口布置的补充，最好将另外的真空泵设置在泵部件内，在输送平台下方。

除了在泵部件的盖上设置真空泵，也可以将真空泵在侧面设置在下方的涂覆区域内，在输送平台下面，结果，通过一个泵部件能够在两个真空泵中的上部或下部选择其中一个真空抽吸，或选择并行抽吸操作。例如，也可以通过使用在仅一个泵部件内的两个真空泵并且借助对应的流动孔，来在不同的真空操作压力下操作相邻的涂覆部件。这进一步提高了应用灵活性，并且对于双侧涂覆系统，最优化了泵部件的空间需求。

而且，从驱动平台向输送平台的动力输送连接仅设置在涂覆部件内，这是有优势的。

借助这种布置，泵部件内在输送平台的下方区域没有垂直设置的输送部件。泵部件在其纵向范围具有非常小的尺寸，当使用额外的真空泵，该真空泵在输送平台下面的区域具有横向的抽吸口时，泵部件不能延展。相反，在涂覆部件能够获得用于从驱动平台到输送平台的连接空间，而不必扩大尺寸。通过一列彼此相连的输送辊，实现向泵部件的输送平台内的输送部件的动力输送，输送辊直线端接，延伸到泵部件内。以这种方式，可以保留先前使用的双侧涂覆系统中的标准长度尺寸的涂覆部件和泵部件。

附图说明

根据实施例，更详细地描述本发明。在附图中：

图1为示出穿过串接的涂覆系统的剖面图，该串接的涂覆系统具有双侧涂覆装置和以单独的方式布置在输送平台和驱动平台内的输送装置；和

图2示出串接的涂覆系统的示意性代表结构。

附图标号：

1真空涂覆系统

2泵部件

3向下溅射物体的涂覆部件

4磁控管

5基底

6基底平台

7靶表面

8向上溅射物体的涂覆部件

9输送装置

10驱动平台

11输送平台

12齿状传送带

13驱动辊

14输送辊

15用于驱动部件的子结构

16用于输送部件的子结构

17固定的腔部件

18可以移除的桥接件

19真空泵

具体实施方式

在串接的涂覆系统1的左侧部分，示出位于两个泵部件2之间的向下溅射模式的涂覆部件3；这意味着，用于从上方对基底5进行涂覆的磁控管4布置在基底平台6的上方，靶表面7与基底5的顶面相对。在真空涂覆系统1的右侧部分，布置了位于两个泵部件2之间的向上溅射模式的涂覆部件8。这里，从下方向基底5进行涂覆，其中磁控管4设置在基底平台6的下面，靶表面7与基底5的底面相对。

输送装置9位于两个平台内，即，驱动平台10和输送平台11。驱动平台10容纳驱动部件，例如，具有驱动轴的马达(未示出)，齿状传送带12和驱动辊13，其中，只有齿状传送带12和被提供动力或没有被提供动力的输送辊14布置在输送平台11内。

输送装置的功能特别在图2的示意代表图中给出。通过垂直于驱动平台10被引导的齿状传送带12的连接，驱动动力从驱动平台10被输送到输送平台11。在每个涂覆部件3和8中具有两个这样的连接，这样确保驱动平台10的驱动辊13驱动每个第二个及每个第三个输送辊14，最多可以有三个输送辊。结果，用于在输送平台11内进行动力传输的齿状传送带12的水平连接是最短路程，并且延伸穿过不多于三个的输送辊14。以平行的方式，或者在驱动平台10和输送平台11内交替的方式，通过这些部件内的分支可以进行输送装置9的动力传送。

用于安装驱动平台10内的驱动部件15的子结构固定到涂覆部件和泵部件2、3和8的底座上，其中，输送辊14安装在用于输送平台11内的输送部件16的子结构上。用于输送部件16的子结构由腔部件17和可拆除的桥接件18构成，腔部件17牢固连接到涂覆部件和泵部件2、3和8的侧壁。为了在向上溅射物体8的涂覆部件内插入并定位磁控管4，将齿状传送带12在输送平台11内的水平连接和具有一个或两个输送辊14的可拆除桥接件18去除，而不会削弱向基底5的驱动动力输送。通过作为磁控管4在向下溅射物体内维修和组装的相同可获得开口，可以获得用于组装磁控管4的输送辊14以及从上方在向上溅射物体内的其它特定过程所需的固定部件的足够大的范围。利用悬臂结构(未示出)固定用于向上溅射物体的固定部件，悬臂结构环绕输送平台11下方的基底5的外侧。对于泵部件的多种用途，将真空泵9以传统方式设置在泵部件2上，用于进行向上抽吸，或者位于输送平台11下面，用于横向抽吸。

Claims (7)

1.一种用于涂覆细长基底的真空涂覆系统，所述涂覆系统具有一个或数个涂覆部件和一个或数个泵部件，至少一个磁控管在作为基底上方的向下溅射物体的配置中，所述向下溅射物体具有与基底上侧相对的靶表面，并且所述涂覆系统包括作为基底下方的向上溅射物体的配置，所述向上溅射物体具有与基底下侧相对的靶表面，所述涂覆系统还具有输送装置，其特征在于，

输送装置(9)以分开的方式布置在驱动平台(10)和输送平台(11)上，以这种方式设置驱动平台(10)，使得在向上溅射物体的配置内，包括磁控管(4)的磁控管主体的下侧位于驱动平台(10)的上方。

2.根据权利要求1所述的真空涂覆系统，其特征在于，输送平台(11)的输送部件能够与输送装置脱离连接，并且被除去。

3.根据权利要求1或2所述的真空涂覆系统，其特征在于，在作为向上溅射物体的布置中，磁控管(4)与固定部件连接，所述固定部件在侧面沿着基底(5)从真空涂覆系统(1)的顶部一直延伸到磁控管主体。

4.根据权利要求1或2所述的真空涂覆系统，其特征在于，驱动平台(10)的驱动部件以使得壳体作为流动阻挡的方式被包围在壳体内。

5.根据权利要求1或2所述的真空涂覆系统，其特征在于，在输送平台(11)上方和下方，在涂覆部件(3，8)和泵部件(2)内，设置互相对应的抽吸口。

6.根据权利要求1或2所述的真空涂覆系统，其特征在于，在泵部件(2)内的输送平台(11)下方，设置真空泵(18)。

7.根据权利要求1或2所述的真空涂覆系统，其特征在于，仅在涂覆部件(3，8)内，设置从驱动平台(10)到输送平台(11)的用于动力输送的连接。