CN1839035B - 具有光催化功能的构件及多层玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明提供光催化活性高的构件以及应用此构件的多层玻璃。在基材(玻璃板)表面上形成光催化剂层(TiO2)，使结晶性底涂层(Zr02)介于其间，在此光催化剂层和底涂层之间基本上不存在死层。并且通过在基材和底涂层之间设置非晶质层，未观察到光催化剂层和基体间的膜剥离和缺陷。特别通过将各层的膜厚设定在特殊区域内，能够提供具有能综合地平衡光学上反射色的特征、反射率的偏差小、光催化功能的膜构成的物品。

Description

具有光催化功能的构件及多层玻璃
技术领域
本发明涉及在表面形成有光催化剂层的构件以及组装有此构件的多层玻璃。
背景技术
众所周知，锐钛矿型的氧化钛等光催化剂通过紫外线的照射发挥分解有机物的防污染效果、抗菌性和亲水性。另外，最近通过可见光发挥催化功能的光催化剂也受到注目。
在玻璃等构件表面形成上述光催化剂层时，多通过溅射、蒸镀等真空成膜法或者减压成膜法进行。
专利文献1、专利文献2、专利文献3和专利文献4中提出了在玻璃等的基材表面形成光催化剂层时，在基材和光催化剂层之间设置底涂层的方案。
专利文献1中公开了在玻璃基材表面形成由光催化剂组合物构成的介质时，为了防止从玻璃中溶出的碱导致的介质功能下降，在玻璃基材和光催化剂组合物(介质)之间设置阻挡层，作为阻挡层提出了使用氧化锆、特别是非晶质氧化锆的方案。
专利文献2中公开了如下内容：使底涂层介于中间，在基材上形成光催化剂层，特别是作为底涂层使用氧化锆、作为光催化剂层使用氧化钛。
专利文献3中公开了如下内容：使氧化锆等金属氧化物层介于基材(铝)和光催化剂层之间，通过此金属氧化物层抑制氧从光催化剂层向基材扩散。
专利文献4中公开了如下内容：作为光催化剂物质为氧化锆、在此氧化锆的外侧形成氧化钛层。
专利文献5和专利文献6是作为涉及了层压有氧化锆和氧化钛的膜的膜厚与光学特性的关系的现有技术。
专利文献5中记载了以下内容：作为碱扩散防止层列举了厚度在10nm以下的SnO2和ZrO2，作为TiO2为20nm以下，并且当使物品具有透明性时，需要使被膜的厚度更薄。
专利文献6中公开了在基板和氧化钛层之间，形成高温稳定型的立方晶系或正交晶系的氧化锆层，还记载了在汽车用途中光催化剂层的厚度必须达到可看透的程度。
专利文献1：特开平9-227167号公报
专利文献2：特开平10-66878号公报
专利文献3：特开2000-312830号公报
专利文献4：特开2001-205094号公报
专利文献5：特开2000-513696号公报、第12页8行
专利文献6：PCT国际公开公报(WO 02/40417)、第10页9行
发明内容
当利用文献1～5所述方法形成光催化剂层时，有时不能发挥作为光催化剂的功能，或光催化剂层的厚度不加厚的话，有时不能发挥作为光催化剂的功能，物品的反射率变大出现干涉色，难以将优选的反射率、色调与光催化活性兼顾。
另外，如果按照专利文献6公开的那样，作为光催化剂层(TiO2)的底涂层设置结晶性氧化锆层时，则能够形成光催化活性优异的光催化剂层，在有必要形成高温稳定型的立方晶系或者正交晶系的氧化锆层时，作为基板不能使用耐热性低的树脂等。由于均匀地加热大尺寸的基板在技术上是困难的，因此有难以得到建筑用等的大尺寸光催化性构件等问题，除此之外也有产生色调不均的问题。
众所周知，多层玻璃中屋外侧玻璃板的屋内侧表面设有热射线反射膜(低放射率膜：Low-E膜)的构成，但设有这种热射线反射膜的玻璃板具有带绿色的色调，在色调的自由度上存在问题。
为了解决上述问题，本发明涉及具有光催化功能的构件，在透明基材表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成光催化剂层，使结晶性底涂层介于其间，上述结晶性底涂层的厚度为2nm以上～4 0nm以下、优选为3nm以上～20nm以下，上述光催化剂层的厚度为2nm以上～15nm以下、优选为3nm以上～10nm以下。
作为上述剥离防止层可举出非晶质的氧化硅、作为上述结晶性底涂层可举出氧化锆、作为上述光催化剂层可举出结晶性的氧化钛。结晶性底涂层特别优选单斜晶系氧化锆结晶。
即，当用电子显微镜观察发挥和不发挥光催化功能的具有相同成膜厚度的光催化剂层(TiO2)的剖面结构时，可知其差别在于光催化剂层的结晶性。也就是说，从与基材的界面到层表面明确地连续形成柱状粒子结构的光催化剂层(TiO2)，发挥显著的光催化效果，而在与基材的界面附近未发现柱状粒子结构，存在非晶质层(以下称为死层)的光催化剂层未发挥充分的光催化效果。
这里，死层是指非晶质的特征很强的层，可观测到电子衍射图像为晕圈图样(ハロ一バタ一ン)。而不是死层时，观测到的是衍射斑。
当是上述死层基本上不存在的构成时，由于形成了从底涂层到光催化剂层连续的粒子结构，因此氯离子等半径小的离子、水分有时会通过这些粒子结构(柱状结构)的空隙从表面向玻璃基板(基材)方向扩散。这样的扩散分子到达玻璃基板时，氯离子等阴离子有时会与玻璃基板中存在的钠等碱离子发生反应而生成盐，膜会剥离或者产生缺陷。
本发明人以下述见解为基础完成了本发明。即，如果通过促进光催化剂的结晶粒子生长的底涂层成膜光催化剂层时，则可抑制上述死层的出现；并且如果在底涂层和玻璃基板之间设置剥离防止层，则能够抑制膜从玻璃基板上的剥离、抑制缺陷的发生，且能抑制光催化性能的下降；而且作为底涂层通过使用含有单斜晶系氧化锆结晶的层，促进光催化剂结晶粒子生长的效果更加增强；进一步通过将结晶性底涂层的厚度和光催化剂层的厚度分别限定在特定范围内，反射率低、反射色调为浅蓝，没有反射率不均和色调不均，因此可优选应用于重视清爽感等特定设计的大面积建筑用玻璃。
建筑用玻璃中，特别作为多层玻璃的屋外侧玻璃板应用上述的具有光催化功能的构件。此时，在屋外侧玻璃板的屋外侧表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成厚度2nm以上～15nm以下、优选为3nm以上～5nm以下的光催化剂层，使厚度2nm以上～25nm以下、优选为3nm以上～5nm以下的结晶性底涂层介于其间，在屋外侧玻璃板的屋内侧表面形成热射线反射膜。
上述具有光催化功能的构件或者多层玻璃，玻璃防止层的厚度为2nm～200nm、优选为5nm～100nm。剥离防止层的厚度小于2nm，则对膜剥离、缺陷发生的抑制效果不充分，不优选。而剥离防止层的厚度即便大于200nm，由于对上述膜剥离、缺陷发生的抑制效果没有大幅度提高，从经济的观点考虑，剥离防止层厚度的上限优选为200nm。剥离防止层的厚度大于5nm，则水分的阻断效果提高，完全抑制了在基板和膜的界面上水溶性盐的产生，更加优选。由于此效果在上述剥离防止层的厚度为100nm以下就能充分发挥，因此更优选的剥离防止层厚度的上限为100nm。但是，当作为剥离防止层选择与基板折射率大不相同的物质时，优选尽可能薄层化，使得在色调上不产生变化。
上述剥离防止层，由于阻断来自于表面的氯离子等粒子半径小的离子、水分，防止这些离子、分子到达玻璃基板(基材)、防止水溶性反应盐的产生，因此能够抑制由于其溶于水而引起的底涂层从基板上的剥离。
当选择通过浮法制作而成的玻璃基板作为基材时，可将在与玻璃基板锡浴的接触面上形成的锡改性层或者非晶质氧化锡层作为剥离防止层。
在本发明中，优选上述底涂层和光催化剂层由结晶性金属氧化物或者金属氧氮化物构成，构成上述底涂层的结晶中的氧原子间距离的至少一个与构成光催化剂层的结晶中的氧原子间距离的一个相近。如果组合满足此条件的底涂层和光催化剂层时，则在底涂层上形上光催化剂层时，以氧原子作为共同部分，结晶性的光催化剂层立即并容易生长。
关注氧原子的间隔时，单斜晶氧化锆和锐钛矿型氧化钛在某部分近似(90～110％范围)，可认为作为底涂层选择单斜晶系的结晶性氧化锆化合物时，则在其上易形成锐钛矿型氧化钛的结晶。
作为底涂层，除了上述单斜晶氧化锆之外，还优选使用添加有微量氮、锡、碳的氧化锆、氧氮化锆。
作为光催化剂层，除了上述锐钛矿型氧化钛之外，还优选使用添加有微量氮、锡、碳的氧化钛、氧氮化钛。
从作为底涂层优选的氧化锆单斜晶层剖面的正交方向上照射所得到的电子衍射图像，为来自(111)面或者(-111)面的衍射图像，(111)取向面的面间隔为2.6～3.0
Figure 048237276_0
、(-111)取向面的面间隔为3.0～3.4
Figure 048237276_1
。
此范围外的面间隔的氧化锆，由于在结晶中发生变形，因此膜应力变大，易引起膜剥离。另外，由于结晶面的氧位置由于变形而错位，氧化钛等构成光催化剂层的氧化物与氧位置整合性下降，因此不能看到光催化剂层优选的结晶生长。
从作为光催化剂层优选的锐钛矿型氧化钛层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像，为来自(101)面的衍射图像，(101)取向面的面间隔为3.3～3.7
Figure 048237276_2
。
此范围外的面间隔的氧化钛，由于在结晶中发生变形，因此膜应力变大，易引起膜剥离。另外，由于结晶面的氧位置由于变形而错位，氧化锆等构成底涂层的氧化物与氧位置匹配性下降，因此不能看到光催化剂层优选的结晶生长。
上述底涂层和光催化剂层的形成方法，可以是液相法(溶胶-凝胶法、液相析出法)、气相法(溅射法、真空蒸镀法、CVD法)等任何方法，可确认底涂层导致的光催化剂层结晶性提高的效果，但由于伴随着结晶生长，因此在本发明中能够确认特别效果显著的溅射法、蒸镀法等气相法更加适合。
另外，通过在上述光催化剂层中掺杂金属，可以促进载体的产生、提高光催化剂效果。
作为掺杂金属，Zn、Mo、Fe等是适合的，其光催化活性提高效果高。Zn和Mo添加量优选为0.1质量％以上～1质量％以下，更优选为0.2质量％以上～0.5质量％以下。Fe在光催化剂层中的含量为0.001质量％以上～0.5质量％以下。限定于这些范围内的原因在于，添加量少则效果过小；过多则导致光催化剂的结晶结构无序、生成复合中心，光催化活性下降。
通过在上述光催化剂层的表面形成具有亲水性的薄膜，能够提高亲水效果。具有亲水性的薄膜优选为选自氧化硅、氧化锆、氧化锗、氧化铝中的至少一种氧化物。从亲水性的提高效果和耐久性的观点考虑，其中更优选使用氧化硅。具有亲水性的薄膜优选为多孔状。通过为多孔状，不仅仅保水效果增高、亲水性的维持性能提高，而且通过紫外线照射在光催化剂层表面产生的活性氧等活性种能够到达物品表面，因此不会严重损害光催化剂层的光催化活性。
形成多孔状亲水性薄膜的方法可使用液相法(溶胶-凝胶法、液相析出法)、气相法(溅射法、真空蒸镀法、CVD法)。使用通常所知的溶胶-凝胶法时，则能够简单地制作多孔状薄膜，但通过在溶胶-凝胶法的原料液中添加有机高分子、高级醇，能够更加容易地得到多孔薄膜。在溅射法等气相法中，通过调整成膜条件，以提高溅射时的气压、减少气体中氧的量等使氧化物的悬空键增加，能够制作多孔状的薄膜。
具有上述亲水性的薄膜的厚度优选为1nm以上～30nm以下。比1nm薄时，则不能赋予充分的亲水性；比30nm厚时，则损害光催化剂层的光催化活性，因此不优选。此厚度更加优选的范围为1nm以上～20nm以下。在此范围，不照射光时的亲水性维持性能高。
如上说明，根据本发明，由于在基材表面形成光催化剂层时，设置了结晶性的底涂层，通过直接在表面使光催化剂的结晶连续地生长而在此底涂层上形成光催化剂层，进一步在基材和底涂层之间设置剥离防止层从而抑制膜剥离、缺陷等的发生，因此对于建筑用窗玻璃、显示器用玻璃板、DNA分析用玻璃基板、便携信息仪器、卫生设备、医疗设备、电子仪器、生物体·医疗用的检查芯片、氢·氧发生装置用材料等所有的构件，都能提供具有高的光催化活性的材料。特别能够提供具有能综合地平衡光学上某种特性、其偏差小、光催化功能的膜构成的物品。
并且，本发明通过将结晶性底涂层和光催化剂层的厚度限定在规定的厚度，则能够使反射色调为蓝色，能够提高商品价值，可期待用于多层玻璃中。
附图说明
图1是本发明涉及的具有光催化功能的构件的剖面图。
图2是本发明涉及的多层玻璃的剖面图。
图3是在使ZrO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将SiO2层的膜厚以间距10nm进行变化时，透射光的色调变化的示意图。
图4是在使ZrO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将SiO2层的膜厚以间距10nm进行变化时，反射光的色调变化的示意图。
图5是在使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，可见光反射率的示意图。
图6是在使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，可见光反射率的示意图。
图7是在使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，多层玻璃(有Low-E膜)的可见光反射率的示意图。
图8是在使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，多层玻璃(有Low-E膜)的可见光反射率的示意图。
图9是在使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，色度坐标间距离(D)变化的示意图。
图10是对应图9显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的示意图。
图11是在使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，色度坐标间距离(D)变化的示意图。
图12是对应图11显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的示意图。
图13是在使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，多层玻璃的色度坐标间距离(D)变化的示意图。
图14是对应图13显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的示意图。
图15是在使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时，多层玻璃的色度坐标间距离(D)变化的示意图。
图16是对应图15显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的示意图。
图17是使用膜厚全部相等的SiO2层、ZrO2层、TiO2层的玻璃板，制得多层玻璃时的色调变化的示意图。
具体实施方式
以下，以附图为基础说明本发明的实施方式。这里，图1是本发明所涉及的具有光催化功能的构件的典型剖面图，图2是将具有光催化功能的构件作为屋外侧玻璃板的多层玻璃的剖面图。
图1所示的具有光催化功能的构件中，在玻璃板等透明基板1的表面设置作为剥离防止层1的SiO2层，在此剥离防止层1上设置作为结晶性底涂层2的ZrO2层，通过此结晶性底涂层2设置作为光催化剂层3的TiO2层。各层的厚度是：SiO2层为2nm以上～200nm以下，ZrO2层为2nm以上～40nm以下，TiO2层为2nm以上～15nm以下。
图2所示的多层玻璃将屋外侧玻璃板10和屋内侧玻璃板20通过衬垫30对置，使得其间形成密闭空间。然后，在屋外侧玻璃板10的屋外侧表面设置作为剥离防止层1的SiO2层，在此剥离防止层1上设置作为结晶性底涂层2的ZrO2层，通过此结晶性底涂层2设置作为光催化剂层3的TiO2层。另外，在外侧玻璃板10的屋内侧表面形成低放射率膜4(Low-E膜)。
图3和图4是在使ZrO2和TiO2的膜厚为10nm、将SiO2的膜厚以间距10nm进行变化时，透射光和反射光的色调的变化的示意图。由这些图可知，即使对与玻璃折射率大致相等的SiO2进行膜厚变化，色调也几乎不会改变，色调的变化随着与玻璃折射率的差的增大而增大，而且膜越厚则变化率越大。
这里，色调(a*、b*)是基于CIE1976UCS，通过由分光光度计得到的谱图计算出来的。
图5至图8为显示各层膜厚与可见光反射率(R)的关系的图，图5显示使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的可见光反射率，图6显示使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的可见光反射率，图7显示使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的多层玻璃(有Low-E膜)的可见光反射率，图8显示使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的多层玻璃(有Low-E膜)的可见光反射率。
这里，可见光反射率是基于JIS R3106，由用分光光度计测定的结果中计算出来的。
从这些图可知，可见光反射率在TiO2层和ZrO2层的膜厚在50～60nm时变高，小于此范围时可见光反射率下降。可见光反射率(R)为20％以下，优选为15％以下。
图9至图16显示色度坐标间距离(D)和与此相对应的反射色调的变化，图9是显示使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的色度坐标间距离(D)的变化的图，图1 0是显示对应图9显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的图，图11显示使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的色度坐标间距离(D)的变化，图1 2是显示对应图11显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的图，图13显示使SiO2层和ZrO2层的膜厚为10nm、将TiO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的多层玻璃的色度坐标间距离(D)的变化，图14是显示对应图13显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的图，图15显示使SiO2层和TiO2层的膜厚为10nm、将ZrO2层的膜厚以间距5nm进行变化时的多层玻璃的色度坐标间距离(D)的变化，图16是显示对应图15显示色度坐标间距离(D)在3.5以下范围的反射色调的变化的图。D在3.5以下，则即便在制造时有膜厚的变动，颜色不均也不会很大，在品质管理上优选。这里，D值的大小显示颜色变化的容易性，但本发明发现了使得D值被抑制在某种范围内的各层的膜厚范围。
这里，色度坐标间距离表示膜厚变化前与将膜厚变化5nm时的色度坐标间的距离。计算式如下所示。
数1
D＝{(a*n-a*n-1)2+(b*n-b*n-1)2}0.5
将以上综合于下述(表1)中，由此(表1)可知，从色变化率、反射色(蓝色范围)、可见光反射率、亲水性考虑时，对于单膜单板(仅在玻璃板的一面形成光催化剂层的)，ZrO2层为2nm～40nm、优选为3nm～20nm，TiO2层为2nm～15nm、优选为3nm～10nm；对于使用了上述单板玻璃的多层玻璃(带有Low-E膜)，ZrO2层为2nm～25m、优选为3nm～5nm，TiO2层为2nm～15nm、优选为3nm～5nm。
光催化活性(亲水性)的评价方法按下述进行，使用黑光灯(中心波长365nm)作为光源，照度为1mW/cm2，测定UV照射60分钟后的水的接触角，进行亲水化评价。
表1
  色变化率小的区域 反射色浅蓝的范围 -5＜a*＜5， -10≤b*≤0 R为20％以下的范围 R为15％以下的范围 θ20度以下的范围 θ15度以下的范围 优选范围(接触角20度下，R＜20％) 更优选范围(接触角15度下，R＜15％)
  D≤3.5时的膜厚
单膜单板 ZrO2膜厚   100nm以下  0～55nm 0～40nm 0～20nm 2nm以上 3nm以上 2nm～40nm 3nm～20nm
TiO2膜厚   55nm以下  0～15nm、35～50nm 0～20nm 0～10nm 2nm以上 3nm以上 2nm～15nm 3nm～10nm
多层+LOWE ZrO2膜厚   0～105nm  0～60nm 0～25nm 0～5nm 2nm以上 3nm以上 2nm～25nm 3nm～5nm
TiO2膜厚   0～55nm  0～20nm、30～50nm 0～15nm 0～5nm 2nm以上 3nm以上 2nm～15nm 3nm～5nm
[0080]图17是显示使用膜厚全部相等的SiO2层、ZrO2层、TiO2层的玻璃板，制得多层玻璃时的色调的变化的图。在图17中，G表示玻璃、/表示层被层压。
AKM5为G/SiO2(5nm)/ZrO2(5nm)/TiO2(5nm)
AKM10为G/SiO2(10nm)/ZrO2(10nm)/TiO2(10nm)
AKM15为G/SiO2(15nm)/ZrO2(15nm)/TiO2(15nm)
AKM20为G/SiO2(20nm)/ZrO2(20nm)/TiO2(20nm)
另外，低放射率膜4的构成为
Low-E＝G/ZnO(35.2nm)/Ag(6.3nm)/ZnO(85.2nm)/Ag(12.1nm)/ZnO(35.2nm)。
由图17可知，仅与Low-E膜相比，在屋外侧玻璃板的第1面(屋外侧面)形成有本发明的光催化剂层的多层玻璃中，从屋外侧观察的反射色从绿色向蓝色的色调变化。

Claims (10)

1.一种具有光催化功能的构件，其在透明基材表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成光催化剂层，使结晶性底涂层介于其间，其特征在于，上述结晶性底涂层的厚度在2nm以上～40nm以下，上述光催化剂层的厚度在2nm以上～15nm以下，上述结晶性底涂层由单斜晶氧化锆构成，上述光催化剂层由锐钛矿型氧化钛构成，从上述结晶性底涂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(111)面或者(-111)面的衍射图像，(111)取向面的面间隔为2.6～
Figure FSB00000019463000011
(-111)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000012
从上述光催化剂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(101)面的衍射图像，(101)取向面的面间隔为
Figure 4
2.一种具有光催化功能的构件，其在透明基材表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成光催化剂层，使结晶性底涂层介于其间，其特征在于，上述结晶性底涂层的厚度为3nm以上～20nm以下，上述光催化剂层的厚度为3nm以上～10nm以下，上述结晶性底涂层由单斜晶氧化锆构成，上述光催化剂层由锐钛矿型氧化钛构成，从上述结晶性底涂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(111)面或者(-111)面的衍射图像，(111)取向面的面间隔为2.6～
Figure FSB00000019463000014
(-111)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000015
从上述光催化剂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(101)面的衍射图像，(101)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000016
3.如权利要求1或2所述的具有光催化功能的构件，其特征在于，上述剥离防止层由非晶质的氧化硅构成。
4.如权利要求1或2所述的具有光催化功能的构件，其特征在于，在上述底涂层和上述光催化剂层之间基本上不存在死层，所述死层在电子衍射图像中被观测到为晕圈图样。
5.如权利要求3所述的具有光催化功能的构件，其特征在于，在上述底涂层和上述光催化剂层之间基本上不存在死层，所述死层在电子衍射图像中被观测到为晕圈图样。
6.一种多层玻璃，其特征在于，在将屋外侧玻璃板和屋内侧玻璃板对置的多层玻璃中，在上述屋外侧玻璃板的屋外侧表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成厚度为2nm以上～15nm以下的光催化剂层，使厚度为2nm以上～25nm以下的结晶性底涂层介于其间，上述结晶性底涂层由单斜晶氧化锆构成，上述光催化剂层由锐钛矿型氧化钛构成，从上述结晶性底涂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(111)面或者(-111)面的衍射图像，(111)取向面的面间隔为(-111)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000022
从上述光催化剂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(101)面的衍射图像，(101)取向面的面间隔为另外，在屋外侧玻璃板的屋内侧表面形成热射线反射膜。
7.一种多层玻璃，其特征在于，在将屋外侧玻璃板和屋内侧玻璃板对置的多层玻璃中，在上述屋外侧玻璃板的屋外侧表面设置以含有硅、锡至少之一的氧化物、氧氮化物、和氮化物为主成分的剥离防止层，在此剥离防止层上形成厚度为3nm以上～5nm以下的光催化剂层，使厚度为3nm以上～5nm以下的结晶性底涂层介于其间，上述结晶性底涂层由单斜晶氧化锆构成，上述光催化剂层由锐钛矿型氧化钛构成，从上述结晶性底涂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(111)面或者(-111)面的衍射图像，(111)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000024
(-111)取向面的面间隔为
Figure FSB00000019463000025
从上述光催化剂层层剖面的垂直方向上照射所得到的电子衍射图像中，为来自(101)面的衍射图像，(101)取向面的面间隔为另外，在屋外侧玻璃板的屋内侧表面形成热射线反射膜。
8.如权利要求6或7所述的多层玻璃，其特征在于，上述剥离防止层由非晶质的氧化硅构成，上述热射线反射膜从玻璃板表面顺次层压有氧化锌、银、氧化锌、银、氧化锌。
9.如权利要求6或7所述的多层玻璃，其特征在于，在上述底涂层和上述光催化剂层之间基本上不存在死层，所述死层在电子衍射图像中被观察到为晕圈图样。
10.如权利要求8所述的多层玻璃，其特征在于，在上述底涂层和上述光催化剂层之间基本上不存在死层，所述死层在电子衍射图像中被观察到为晕圈图样。
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