CN1834757A - 液体材料的稀释方法、液晶装置的制造方法及电子设备 - Google Patents

Abstract

一种在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，通过在所述液体材料中添加具有规定溶解参数的稀释液，将所述液体材料稀释，所述稀释液是具有与所述液体材料的溶解参数大致相同的溶解参数的溶媒。

Description

液体材料的稀释方法、液晶装置的制造方法及电子设备

技术领域

本发明涉及在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法、液晶装置的制造方法以及电子设备。

背景技术

公知有作为显示器或显示光源等使用的电光装置。电光装置的制造工程包括在作为基体的物体(例如基板)上配置材料的工序。材料的配置技术由于与品质和功能密切相关，所以为了提高上述各装置的性能，此项技术是重要的一环。

作为在物体上配置材料的技术，有通过设在喷出头上的喷嘴，把液体材料以液滴的形式喷出的方法(液滴喷出法、喷墨法)。该液滴喷出法与旋涂法等其它一般的涂敷技术相比，具有液体材料的消耗中浪费少，对于配置在物体上的液体材料的量和位置容易进行控制的优点。

特开2001-42330号公报公开了如下的技术，即：在作为电光装置的一种的液晶装置的制造过程中，采用液滴喷出法将包含形成取向膜的材料的液状体配置在基板上的技术。该技术使用了其中添加了丁基溶纤剂等的醇类溶剂的液体材料。

添加了丁基溶纤剂等的醇类溶剂的液体材料容易析出白浊或固态成分。这样的白浊或固态成分的析出，是导致喷出头的喷嘴阻塞的主要原因。

发明内容

本发明的目的是提供一种适用于液滴喷出法的液体材料的稀释方法。

本发明的在取向膜的形成中所使用的液体材料的稀释方法，通过在所述液体材料中添加具有规定溶液参数的稀释液，将所述液体材料稀释，作为所述稀释液，使用具有与所述液体材料大致相同的溶解参数的溶媒。

根据本发明，通过把具有与液体材料的溶解参数大致相同的溶解参数的溶媒作为稀释液使用，可防止白浊或固态成分的析出。其结果，可防止在液滴喷出法中的因喷出头的阻塞而导致的喷出故障。另外，由于防止了固态成分的析出，使得对液体材料的固态成分浓度的管理更为容易。

在本发明的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法中，在把所述液体材料的溶解参数设为σi，把所述溶媒的溶解参数设为σs时，优选其之比σs/σi大于等于0.8、且小于1.2。

在本发明的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法中，理想的是，所述σs/σi大于等于0.9、且小于1.1。

在本发明的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法中，优选所述液体材料包含多种类的溶媒，所述稀释液是在所述液体材料中所包含的所述多种类的溶媒中的、具有与所述液体材料的溶解参数最接近的溶解参数的溶媒。

在本发明的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法中，优选所述稀释液是具有与所述液体材料大致相同的溶解参数、且不包含在所述液体材料中的溶媒。

本发明的液晶装置的制造方法，采用液滴喷出法，将使用先前所述的稀释方法稀释的液体材料配置在基板上。

由此可制造出高品质的液晶装置。

本发明的电子设备，具有采用先前所述的制造方法制造的液晶装置。

根据这样的电子设备可达到品质提高的目的。

附图说明

图1是表示液滴喷出装置的概略结构的立体图。

图2是说明基于压电方式的液状体的喷出原理的图。

图3是液晶装置的等效电路图。

图4是表示关于图3的液晶装置的像素构造的俯视图。

图5是表示图3的液晶装置的主要部分的剖面图。

图6是表示图3的液晶装置的制造方法的一例的工序说明图。

图7是表示本发明的电子设备的一例的立体图。

具体实施方式

下面，对本发明进行说明。

(在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法)

在本发明的液体材料的稀释方法中，把具有与液体材料的溶解参数相同程度的溶解参数的溶媒作为稀释液使用。

这里，在设e：分子的凝集密度能、E：摩尔蒸发热、V：分子容积(1mol所占的体积)、X：摩尔分率时，溶解参数σ可以表示为以下的式(1)。而且，混合溶媒的参数σmix可以表示为以下的式(3)。

$\mathrm{\δ}=\sqrt{e}---\left(1\right)$

$e=\frac{E}{V}---\left(2\right)$

$\mathrm{\δ}\min =\frac{\mathrm{\ΣXnVn\δn}}{\mathrm{\ΣXnVn}}---\left(3\right)$

这里，通过把具有与液体材料的溶解参数接近的溶解参数的溶媒作为稀释液使用，可防止白浊或固态成分的析出。该稀释液即可以是包含在该液体材料中的溶剂，也可以是不包含在该液体材料中的溶剂。在把液体材料的溶解参数设为σi、把溶媒的溶解参数设为σs时，优选两者之比σs/σi为大于等于0.8、并小于1.2，更理想的是大于等于0.9、并小于1.1。在σs/σi小于0.8、或大于等于1.2时，由于在把溶媒添加到液体材料中时，容易产生白浊或固态成分的析出，所以是不希望的。另外，如果σs/σi为大于等于0.9、并小于1.1，则在把溶媒添加到液体材料中时，可确实地防止白浊或固态成分的析出。

作为液体材料的代表例，有包含作为主要固态成分的聚酰亚胺(PI)、和作为溶媒的γ-丁内酯和丁基溶纤剂。溶解参数为，液体材料：0.39、γ-丁内酯：0.4、丁基溶纤剂：0.3。

γ-丁内酯具有使固态成分(聚酰亚胺)溶解的功能。丁基溶纤剂具有控制液体材料的表面张力的功能。

在以下的表1中，表示在该液体材料中添加了γ-丁内酯时的结果，在以下的表2中，表示在该液体材料中添加了丁基溶纤剂时的结果(处理温度：23℃、添加率为重量％)。

另外，设定原始液体材料的粘度为46mPa.s、并分别设定原始液体材料的固态成分浓度(重量％)为4wt％、原始液体材料的γ-丁内酯的成分浓度(重量％)为80wt％、原始液体材料的丁基溶纤剂的成分浓度(重量％)为10wt％、溶媒的剩余量为10wt％。

(表1)

γ-丁内酯

添加率(％)	在溶媒中添加了液体材料时的变化
		2	未有析出。也未发生白浊。
3	未有析出。也未发生白浊。
		4	未有析出。也未发生白浊。
5	未有析出。也未发生白浊。
		10	未有析出。也未发生白浊。

(表2)

丁基溶纤剂

添加率(％)	在溶媒中添加了液体材料时的变化
		2	-
3	未有析出。也未发生白浊。
		4	未有析出。上部澄清，但发生白色浑浊。
5	析出了PI。搅拌后溶解。

10	析出了PI。搅拌后溶解。

从表1和表2中可看出，当在上述液体材料(σ＝0.39)中添加了γ-丁内酯(σ＝0.4)的情况下，未发生白浊或固态成分的析出，而在添加了丁基溶纤剂(σ＝0.3)的情况下，随着添加率的增加，发生了白浊或固态成分(聚酰亚胺：PI)的析出。

另外，当在上述液体材料(σ＝0.39)中添加了N-N二甲基乙酰胺(σ＝0.37)的情况下，被确认为未发生白浊或固态成分的析出。

(液滴喷出装置)

下面，对液滴喷出法中所使用的液滴喷出装置(喷墨装置)进行说明。另外，在以下的说明中所使用的附图中，为了把各个部件放大到容易观察的大小，适当地改变了各个部件的缩放比例。

通过采用上述的稀释法，在使用液滴喷出法喷出液体材料的情况下，可防止因阻塞所导致的喷出故障。另外，由于防止了固态成分的析出，因而使得液体材料的固态成分浓度的管理变得容易。

图1是表示液滴喷出装置的概略结构的立体图。

该液滴喷出装置IJ是用于把液体材料以液滴状从液滴喷出头的喷嘴喷出的装置，其包括：液滴喷出头301、X轴方向驱动轴304、Y轴方向导向轴305、控制装置CONT、工作台307、清洗机构308、基座309以及加热器315等。

工作台307用于支撑由该液滴喷出装置IJ配置液体材料的基板P，其具有把基板P固定在基准位置上的未图示的固定机构。

液滴喷出头301是具有多个喷嘴的多喷嘴式液滴喷出头，其长度方向与Y轴方向一致。多个喷嘴以一定的间隔沿着Y轴方向排列地设置在液滴喷出头301的下面。从液滴喷出头301的喷嘴向被支撑在工作台307上的基板P喷出液体材料。

X轴方向驱动轴304与X轴方向驱动马达302连接。X轴方向驱动马达302是步进马达等，在由控制装置CONT供给了X轴方向的驱动信号后，使X轴方向驱动轴304旋转。当X轴方向驱动轴304旋转时，液滴喷出头301向X轴方向移动。

Y轴方向导向轴305被固定为相对基座309不能移动的状态。工作台307具有Y轴方向驱动马达303。Y轴方向驱动马达303是步进马达等，当由控制装置CONT提供了Y轴方向的驱动信号时，使工作台307向Y轴方向移动。

控制装置CONT向液滴喷出头301供给液滴的喷出控制用电压。而且，向X轴方向驱动马达302提供控制液滴喷出头301向X轴方向移动的驱动脉冲信号，并且向Y轴方向驱动马达303提供控制工作台307向Y轴方向移动的驱动脉冲信号。

清洗机构308用于清洗液滴喷出头301。在清洗机构308中具有未图示的Y轴方向的驱动马达。通过该Y轴方向的驱动马达的驱动，清洗机构沿着Y轴方向导向轴305移动。清洗机构308的移动也受控制装置CONT的控制。

加热器315在这里是通过灯退火(lamp anneal)，对基板P进行热处理的单元，其对被涂敷在基板P上的液体材料中所包含的溶媒实施蒸发、干燥处理。由控制装置CONT控制该加热器315的电源接通和关闭。

在液滴喷出装置IJ中，在液滴喷出头301与支撑基板P的工作台307进行相对扫描移动的同时，从液滴喷出头301向基板P喷出液滴状的液体材料。液滴喷出头301的喷嘴以一定的间隔排列设置在非扫描方向即Y轴方向上(X轴方向：扫描方向、Y轴方向：非扫描方向)。另外，在图1中，液滴喷出头301虽然是相对基板P的行进方向呈直角配置，但也可以调整液滴喷出头301的角度，使其与基板P的行进方向交叉。

这样，通过调整液滴喷出头301的角度，可调整喷嘴之间的间距。而且，也可以构成为可任意地调整基板P与喷嘴面之间的距离的结构。

图2是用于说明基于压电方式的液体材料的喷出原理的液滴喷出头的概略构成图。

在图2中，与收容液体材料的液体室321相邻地设置有压电元件322。通过包括材料箱的液体供给系统323，把液体材料供给到液体室321中，所述材料箱收容液体材料。压电元件322与驱动电路324连接，通过该驱动电路324向压电元件施加电压使压电元件322变形，而使液体室321变形。而且，基于该弹性变形时的内容积的变化，使液体材料从喷嘴325喷出。在这种情况下，通过改变施加电压值，可控制压电元件322的变形程度。

另外，通过改变施加电压的频率，可控制压电元件322的变形速度。基于压电方式的液滴喷出，由于对材料不加热，所以具有不容易对材料的组成产生影响的优点。

(液晶装置)

下面，对使用上述的液滴喷出装置制造的液晶面板(器件)以及具有该液晶面板的液晶装置(电光装置)进行说明。

图3、图4以及图5所示的液晶装置是作为开关元件而使用了TFT(薄膜晶体管)元件的有源矩阵型的透射型液晶显示装置。图3是透射型液晶显示装置的被配置成矩阵状的多个像素中的开关元件、和信号线等的等效电路图。图4是表示在形成了数据线、扫描线、像素电极等的TFT阵列基板上的相互邻接的多个像素组的构造的主要部分的俯视图。图5是图4的A-A’线剖面图。另外，在图5中，表示为：图中的上侧是光入射侧，图中的下侧是观察侧(观察者侧)的情况。另外，在各个图中，为了把各个层和各个部件放大到在图中能够清楚观察的程度，对各个层和各个部件采用了不同的缩放比例。

在本实施方式的液晶装置中，如图3所示那样，在被配置成矩阵状的多个像素中，分别形成有像素电极9和用于进行对该像素电极9的通电控制的开关元件，即TFT元件30。另外，被供给图像信号的数据线6a与该TFT元件30的源极电连接。写入数据线6a的图像信号S1、S2、…、Sn或者是按照这样的顺序供给，或者是对相邻的多条数据线6a进行分组供给。

另外，扫描线3a与TFT元件30的栅极电连接，并且，按照规定的时序，并以脉冲的形式和按照线的顺序，对多条扫描线3a施加扫描信号G1、G2、…、Gm。另外，像素电极9与TFT元件30的漏极电连接，通过使作为开关元件的TFT元件30在一定的期间内导通，以规定的定时写入从数据线6a供给的图像信号S1、S2、…、Sn。

通过像素电极9写入液晶的规定电平的图像信号S1、S2、…、Sn，在后述的共用电极之间被保持一定的时间。液晶基于被施加的电压电平，其分子集合的取向和秩序发生变化，由此可进行光的调制，和灰度显示。这里，为了防止被保持的图像信号的泄漏，与形成在像素电极9和共用电极之间的液晶电容并联地附加连接蓄积电容70。

下面，结合图4，对本实施方式的液晶装置的主要部分的平面构造进行说明。

如图4所示，在TFT阵列基板上，把多个由铟锡氧化物(Indium TinOxide，以下缩写为ITO)等透明导电性材料构成的矩形形状的像素电极9(由虚线部9A表示轮廓)配置成矩阵形状，并且沿着像素电极9的纵横交界，分别设有数据线6a、扫描线3a以及电容线3b。在本实施方式中，形成了以包围各个像素电极9的方式配置的数据线6a、扫描线3a、电容线3b等的区域是像素。在TFT阵列基板上形成有多个像素。液晶装置按被配置成矩阵状的每个像素进行显示。另外，形成了包围各个像素电极9的数据线6a、扫描线3a、电容线3b等的、形成为纵横格子状的区域是不进行图像显示的非显示区域U。

数据线6a通过接触孔5与构成TFT元件30的例如由聚硅膜构成的半导体层1a中的后述的源极区域电连接，像素电极9通过接触孔8与半导体层1a中的后述的漏极区域电连接。另外，扫描线3a被配置成与半导体层1a中的后述的沟道区域(图中左上的斜线的区域)对置的状态，扫描线3a在与沟道区域对置的部分作为栅电极而发挥功能。

电容线3b具有沿着扫描线3a呈大致直线状延伸的主线部(即，在俯视面上沿着扫描线3a而形成的第1区域)、和从与数据线6a交叉的部位沿着数据线6a向前段侧(图中的向上)突出的突出部(即，在俯视面上沿着数据线6a延伸设置的第2区域)。而且，在图4中，在由右上斜线表示的区域中设有多个第1遮光膜11a。

下面，结合图5对本实施方式的液晶装置的剖面构造进行说明。

如上所述，图5是图4的A-A’线剖面图，是表示形成了TFT元件30的区域的结构的剖面图。本实施方式的液晶装置中，在TFT阵列基板10和与其对面配置的对置基板20之间夹着液晶层50。

液晶层50例如是一种或混合了多种向列液晶的液晶。液晶层50在一对取向膜40和60之间，由取向膜40、60控制其取向。TFT阵列基板10具有由石英等透光性材料构成的基板主体10A。

在基板主体10A中，在配置有液晶层50的基板主体10A上，形成有TFT元件30、像素电极9以及取向膜40。对置基板20具有由玻璃或石英等透光性材料构成的基板主体20A。在对置基板20上，在配置有液晶层50的基板主体20A上，形成有共用电极21和取向膜60。而且，利用间隔物(spacer)15来保持TFT阵列基板10与对置基板20之间的间隔。

在TFT阵列基板10上，在基板主体10A的配置有液晶层50的面上，设有像素电极9。在与各个像素电极9相邻的位置设有对各个像素电极9进行开关控制的像素开关用TFT元件30。像素开关用TFT元件30具有LDD(Lightly Doped Drain)构造，并具有：扫描线3a、基于来自该扫描线3a的电场而形成沟道的半导体层1a的沟道区域1a’、将扫描线3a与半导体层1a绝缘的栅极绝缘膜2、数据线6a、半导体层1a的低浓度源极区域1b和低浓度漏极区域1c、半导体层1a的高浓度源极区域1d和高浓度漏极区域1e。

在上述扫描线3a上，在包含栅极绝缘膜2的基板主体10A上，形成有第2层间绝缘膜4，该第2层间绝缘膜4上形成有连通高浓度源极区域1d的接触孔5、以及连通高浓度漏极区域1e的接触孔8。即，数据线6a通过贯通第2层间绝缘膜4的接触孔5与高浓度源极区域1d电连接。

并且，在数据线6a上以及第2层间绝缘膜4上，形成有第3层间绝缘膜7，在该第3层间绝缘膜7上形成有连通高浓度漏极区域1e的接触孔8。即，高浓度漏极区域1e通过贯通第2层间绝缘膜4和第3层间绝缘膜7的接触孔8与像素电极9电连接。

另外，在配置有液晶层50的基板主体10A上，在形成了像素开关用TFT元件30的区域上，形成有第1遮光膜11a。第1遮光膜11a，对于透过TFT阵列基板10，在TFT阵列基板10的图中的下面(TFT阵列基板10与空气的交界面)被反射回液晶层50的光，至少防止其入射到半导体层1a的沟道区域1a’以及低浓度源极、漏极区域1b、1c。

另外，在第1遮光膜11a与像素开关用TFT元件30之间，形成有用于把构成像素开关用TFT元件30的半导体层1a与第1遮光膜11a电绝缘的第1层间绝缘膜12。并且，如图4所示，构成为，在TFT阵列基板10上设置第1遮光膜11a，并且，第1遮光膜11a通过接触孔13与前段或后段的电容线3b电连接的构造。

另外，在配置有液晶层50的TFT阵列基板10的最层表面上，即像素电极9和第3层间绝缘膜7上，形成有控制无施加电压时的液晶层50内的液晶分子的取向的取向膜40。从而，在具有这样的TFT元件30的区域中，构成了在TFT阵列基板10的配置有液晶层50的表面，即液晶层50的夹持面上形成了多个凹凸或阶差的构造。

另一方面，在配置有液晶层50的基板主体20A上，在与形成数据线6a、扫描线3a、像素开关用TFT元件30的区域相对置的区域，即各个像素部的开口区域以外的区域，形成有第2遮光膜23。第2遮光膜23用于防止入射光侵入像素开关用TFT元件30的半导体层1a的沟道区域1a’、低浓度源极区域1b以及低浓度漏极区域1c。

另外，在配置有液晶层50的基板主体20A上，在其大致全体面上形成有由ITO等构成的共用电极21。在配置有液晶层50的共用电极21的表面上，形成有控制无施加电压时的液晶层50内液晶分子的取向的取向膜60。

(液晶装置的制造方法)

下面，参照附图，对上述液晶装置的制造方法，结合示例进行说明。

图6是表示本实施方式的液晶装置的制造方法的工序流程的说明图。即，本制造方法的工序是，在一对基板上形成取向膜，对该取向膜实施研磨处理，对一侧的基板形成框状密封部件，然后在该密封部件框内滴注液晶，然后与另一侧的基板贴合。以下，对各个工序进行详细说明。

首先，如图6和图5所示，为了在由玻璃等构成的下侧的基板主体10A上构成TFT元件30等，形成遮光膜11a、第1层间绝缘膜12、半导体层1a、沟道区域1a’、低浓度源极区域1b、低浓度漏极区域1c、高浓度源极区域1d、高浓度漏极区域1e、蓄积电容电极1f、扫描线3a、电容线3b、第2层间绝缘膜4、数据线6a、第3层间绝缘膜7、接触孔8以及像素电极9(步骤S1)。

然后，在基板主体10A上，使用上述的液滴喷出装置IJ，通过涂敷用于形成取向膜的液体材料而形成取向膜40(步骤S2)。

然后，对取向膜40实施规定方向的研磨处理，制作成TFT阵列基板10(步骤S3)。另外，在基板主体20A上也形成遮光膜23、共用电极21和取向膜60，并且对上述取向膜60实施规定方向的研磨处理，而制作成对置基板20。

接下来，在上述对置基板20或TFT阵列基板10上形成框状密封部件(步骤S4)。此外，作为密封部件可以使用紫外线固化树脂等，把其利用印刷法等形成框状，并形成没有液晶注入口的闭口框形状。

此时，为了保持规定的基板间隔，也可以在密封部件中分散间隔物15，由此来保持规定的基板间隔。

然后，在形成了密封部件的TFT阵列基板10上，根据该液晶装置的液晶层50的厚度滴注规定量的液晶(步骤S6)。然后，把滴注了液晶的TFT阵列基板10与对置基板20，以将液晶夹在中间的方式贴合，进一步，在TFT阵列基板10以及对置基板20的外面侧贴合未图示的相位差板、偏光板等光学膜，由此制作成具有图5所示的单元构造的显示装置，即液晶装置。

在上述的液晶装置中，使用液滴喷出法(喷墨法)在基板主体10A、20A上配置液体材料。即，通过使用上述的液滴喷出装置IJ(参照图1)把包含取向膜形成材料的液状液体材料喷出、干燥，从而在基板主体10A、20A上形成取向膜40、60。

在本示例中，使用上述的稀释法进行液体材料的稀释，和液体材料的粘度等的调制。因此，在使用液滴喷出法喷出液体材料时，可防止阻塞而导致的喷出故障。通过稳定地进行液滴的喷出，实施高精度的材料配置，可制造出高质量的液晶装置。

另外，在本示例中，由于采用液滴喷出法形成取向膜等，所以与苯胺印刷法比较，可大幅减少材料使用量和排液量，从而可获得良好的节能效果，而且，还能够适应基板的大型化，可制造出更高品质的膜。

(电子设备)

图7(A)、(B)和(C)表示本发明的电子设备的实施例。

本实施例的电子设备具有作为显示单元的上述液晶装置。

图7(A)是表示移动电话机的一例的立体图。在图7(A)中，符号1000表示移动电话机主体，符号1001表示使用了上述液晶装置的显示部。

图7(B)是表示手表型电子设备的一例的立体图。在图7(B)中，符号1100表示手表主体，符号1101表示使用了上述液晶装置的显示部。

图(C)是表示文字处理器、个人计算机等移动型信息处理装置的一例的立体图。在图7(C)中，符号1200表示信息处理装置，符号1202表示键盘等输入部，符号1204表示信息处理装置主体，符号1206表示使用了上述液晶装置的显示部。

图7(A)～(C)所示的各个电子设备，由于具有上述的液晶装置作为显示单元，所以可得到没有显示不均的高品质的电子设备。

上述各个实施方式的液晶装置不限于上述的电子设备，其作为理想的图像显示单元，可适用于各种显示单元中，例如：电子书刊、个人计算机、数码相机、影像监视器、取景型或监视器型摄录机，汽车导航装置、寻呼机、电子记事本、计算器、文字处理器、工作站、可视电话、POS终端、以及具有触摸屏的设备等。这样的电子设备不仅价格低廉，而且具有优良的可靠性。

以上，参照附图对本发明的最佳实施方式进行了说明，但本发明不限于上述的示例。在上述的示例中所说明的各个构成部件的各种形状或组合等只是一个示例，在不超出本发明的主旨思想的范围内，可根据设计要求等进行各种变更。

Claims (7)

1.一种在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，其中，

通过在所述液体材料中添加具有规定溶解参数的稀释液，将所述液体材料稀释，

所述稀释液具有与所述液体材料的溶解参数大致相同的溶解参数。

2.根据权利要求1所述的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，其特征在于，

在把所述液体材料的溶解参数设为σi，把所述溶媒的溶解参数设为σs时，其之比σs/σi大于等于0.8、且小于1.2。

3.根据权利要求1或2所述的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，其特征在于，

所述比σs/σi大于等于0.9、且小于1.1。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，其特征在于，

所述液体材料包含多种类的溶媒，

所述稀释液，是在所述液体材料中所包含的所述多种类的溶媒中的、具有与所述液体材料的溶解参数最接近的溶解参数的溶媒。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的在取向膜的形成中使用的液体材料的稀释方法，其特征在于，

所述稀释液，是具有与所述液体材料大致相同的溶解参数、且不包含在所述液体材料中的溶媒。

6.一种液晶装置的制造方法，

采用液滴喷出法，将使用权利要求1至5中任意一项所述的稀释方法稀释的液体材料配置在基板上。

7.一种电子设备，

具有采用权利要求6所述的制造方法制造的液晶装置。

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