CN1795054A - 被膜薄片的制造方法、光学功能层、光学补偿板、光学元件和图像显示装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 229
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 189
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 80
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 158
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 95
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 claims description 92
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 47
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 claims description 42
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 39
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 claims description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 29
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 25
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 18
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 208
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 44
- 230000006870 function Effects 0.000 description 43
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 41
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 33
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 25
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 19
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 18
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 17
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 13
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 11
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 11
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 11
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 9
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 8
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 7
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 6
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 5
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 5
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 5
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 5
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 4
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical class C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyrimidine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC=CC=N1 OXPDQFOKSZYEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005277 alkyl imino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N azoxybenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1[N+]([O-])=NC1=CC=CC=C1 GAUZCKBSTZFWCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003174 cellulose-based polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- GTCAXTIRRLKXRU-UHFFFAOYSA-N methyl carbamate Chemical compound COC(N)=O GTCAXTIRRLKXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001608 tolans Chemical class 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrachloroethane Chemical class ClCC(Cl)(Cl)Cl QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical class CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005588 1,2-dimethoxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 2,6-dimethyl-n-[[(2s)-pyrrolidin-2-yl]methyl]aniline Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1NC[C@H]1NCCC1 UWCWUCKPEYNDNV-LBPRGKRZSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001148 Al-Li alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002955 Art silk Polymers 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- GZBAUYZREARCNR-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)[Si](OC)(OC)OC.[F] Chemical class C(CCCCCCCCC)[Si](OC)(OC)OC.[F] GZBAUYZREARCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONFRHRVYLPVAMA-UHFFFAOYSA-N C(CCCCCCCCC)[Si](OCC)(OCC)OCC.[F] Chemical class C(CCCCCCCCC)[Si](OCC)(OCC)OCC.[F] ONFRHRVYLPVAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006257 Heat-shrinkable film Polymers 0.000 description 1
- 239000005264 High molar mass liquid crystal Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019015 Mg-Ag Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- SSLNXNMYNJKQTO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-octyl-(2,2,2-trifluoroethoxy)silane Chemical compound FC(CO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC)(F)F SSLNXNMYNJKQTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012939 laminating adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000001795 light effect Effects 0.000 description 1
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940100630 metacresol Drugs 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229940090668 parachlorophenol Drugs 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 150000004291 polyenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical class CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 229920006300 shrink film Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenemolybdenum Chemical class [Mo]=S PTISTKLWEJDJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical group [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)F ZLGWXNBXAXOQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
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- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/06—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain multicolour or other optical effects
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
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Abstract
本发明提供一种被膜薄片的清洗方法,其特征在于,干燥风沿着薄膜的行走方向被喷射向具有涂敷液的固体成分浓度和粘度在规定范围内的状态的涂膜层表面。通过该方法,在大面积区域中,提高涂膜的厚度精度,使光学功能特性在面内均一化。在这里,上述干燥风的风速或风的温度、进而是干燥后的涂膜厚度最好在规定的范围。特别是在作为大面积涂膜薄片被广泛应用的光学功能层或具有这样的光学功能层的光学构件、或者光学补偿层、光学补偿板中,作为具有出色的特性的光学材料非常有用,进而对于搭载了这些光学材料的图像显示装置而言,特别有效。
Description
技术领域
本发明涉及一种被膜薄片的制造方法,特别是在光学功能层的形成中有用。进而,使用了该光学功能层的光学元件等,能够合适地在液晶显示器(LCD)、有机EL显示装置、PDP、CRT等各种图像显示装置中利用。
背景技术
通常,作为被膜薄片,例如可以举出具有光学功能层的各种光学功能薄膜。在称为TV或台式电脑的OA机器的显示装置中,在以往CRT为主流,但正在变换成为具有所谓薄型轻量、耗电低的大优点的液晶显示装置。现在正在普及的液晶显示装置具有用于作成相位差薄膜的液晶层、用于保护表面的硬涂层、防反射膜等表面处理被膜等光学功能层。
为了得到这样的光学功能薄膜,一直以来大多使用在基材薄膜上涂敷光学功能层的方法,通过在基材薄膜上实施涂敷液的涂敷、干燥等工序制造形成了涂膜层的各种被膜薄片(例如,参照特开昭62-1406722号公报)。作为薄层涂敷法,通常可以举出缝口模头涂料机、照相凹版涂料机等。
另外,近年来,随着光学功能的高性能化,必须提高赋予功能的涂膜的均一性,不仅是涂敷方式的选择,而且涂敷后的干燥工序的控制也变得重要(例如,参照特开平8-94836号公报)。
但是,即使使用任意涂敷方式,从涂敷工序移动到干燥工序为止都会发生树脂流动,从而难以以均一的膜厚形成涂膜层。特别是难以在大面积的基材薄膜上以均一的膜厚形成涂膜层。
例如,当在高分子薄膜上形成硬涂层、防反射层等时,在被层叠的树脂层上有折射率差异,所以特别是通过涂敷后的树脂流动产生的厚度不均引起的干涉不均很严重。在这种情况下,由于在面内的光学厚度中产生偏移,所以反射率特性也比理论值低下。
另外,已知形成液晶层的液晶分子通常非常容易受到界面的影响,通过摩擦等界面限制力使液晶分子成为具有芳香性的排列(取向)。在是上述涂敷方式的情况下,由于含有液晶分子的被涂敷液的一面成为开放系统,所以在通常已知的涂敷、干燥方式中,开放系统侧的空气流动结果会导致液晶层的取向不均的产生。在这样得到的液晶层中,有在液晶显示器的一部分上正面对比度发生变化的问题点。
发明内容
本发明的目的在于,提供在被膜薄片的大面积的区域上使涂膜的厚度精度提高并实现光学功能特性的面内的均一化、同时利用了这些优点的出色的光学功能层、光学补偿板、光学元件或图像显示装置。
本发明人等为了完成上述课题而进行了潜心研究,结果发现通过以下的被膜薄片的制造方法可以达到上述目的,以至完成本发明。
本发明是被膜薄片的制造方法,包括:将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在基材薄膜上形成涂膜层的工序、和干燥被涂敷液的工序,其中,沿着基材薄膜的行走方向将干燥风喷向具有上述涂敷液的固体成分浓度为55重量%以下且粘度为20mPa·s以下的状态的涂膜表面。另外,本发明包括以下工序:将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在基材薄膜上而形成具有固体成分浓度为55重量%以下且粘度为20mPa·s以下的状态的涂膜层的工序,沿着上述基材薄膜的行走方向,向上述涂膜层喷出干燥风的工序,使上述涂膜层干燥的工序。发现显示出如下效果:通过干燥风的喷射而在涂膜表面上形成微细的凹凸不平并在随后的溶剂蒸发过程中有微细的凹凸那样进行流平的效果,以及在喷射干燥风时溶剂瞬时蒸发并在产生由溶剂的蒸发不均导致的涂膜液的对流之前、粘度上升而不会发生液体流动的效果,由此得到发明人的观点,所以即使在大面积的区域,也能够使涂膜层的厚度精度提高,使光学功能特性在面内均一化。
另外,上述喷射的干燥风的风速优选为4~20m/sec,在薄膜宽幅方向的风速偏差优选为±30%以下。通过这样的条件,能够更有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
进而,上述喷射的干燥风的温度优选为20~45℃,在薄膜宽幅方向中的温度偏差优选为±15%以下。通过这样的条件,能够保证更适当的溶剂蒸发速度,更加有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
本发明优选上述涂膜层的干燥后的厚度为30μm以下。除了通过如上所述的干燥风的喷射条件以外,还通过限制涂膜层的厚度,可以进一步有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
本发明优选通过在上述涂敷液中使用表现光学功能的材料来形成作为光学功能层的上述涂膜层。如上所述的被膜薄片的制造方法,是在大面积的区域中,对要求涂膜厚度(涂膜层的厚度)的精度、要求光学功能特性在面内的均一性的光学功能层特别有效。
本发明的被膜薄片的制造方法,优选使用表现光学补偿功能的材料作表现上述光学功能的材料,由此形成作为光学功能层的上述涂膜层。对于要求涂膜层的厚度的精度、要求光学功能特性在面内的均一性的光学补偿层而言,如上所述的制造方法是特别有效的作成方法。
另外,本发明的被膜薄片的制造方法,优选形成构成分子采取胆甾醇型结构而取向的胆甾醇型层作为上述光学补偿层。对于要求涂膜层的厚度的精度、要求光学功能特性在面内的均一性的胆甾醇型结构的光学补偿层而言,上述制造方法特别有效。
另外,作为表现上述光学补偿功能的材料,使用液晶单体,在上述干燥工序之后,优选通过对上述涂膜层进行聚合处理或交联处理来形成将聚合或交联上述液晶单体而成的非液晶聚合物作为构成分子的胆甾醇型层。在这样的光学补偿板中,由于聚合或交联而成的聚合物成为非液晶性,所以已形成的胆甾醇型层也不会发生在液晶分子中特有的由温度变化导致的向液晶相、玻璃相、结晶相的变化等,可以说是其胆甾醇型结构不会受到温度变化的影响、稳定性极为出色而且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。
或者,优选通过使用液晶单体或液晶聚合物作为表现上述光学补偿功能的材料,形成将采取胆甾醇型结构而取向的液晶聚合物作为构成分子的胆甾醇型层。构成分子即使为液晶聚合物,也可以通过配合胆甾醇型液晶性单体或手性剂而与上述一样地形成温度变化小的胆甾醇型层,可以成为稳定性极为出色而且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。
在这里,上述胆甾醇型层的厚度优选为0.5~10μm的范围。通过该范围的膜厚,作为光学补偿层可以防止取向的紊乱或透射率降低,可以提高选择反射性、防着色、生产率等。
本发明优选是在上述光学功能层为光学补偿层时或在该光学补偿层的构成分子为采取胆甾醇型结构而取向的胆甾醇型层时得到的光学补偿板。通过上述被膜薄片的制造方法得到的光学功能层,其涂膜厚度的精度高且光学功能特性在面内的均一性出色,对于将其作为光学补偿层或胆甾醇型结构的光学补偿层的光学补偿板而言,特别有效。
另外,本发明在具备这样的光学功能层的光学元件中优选。对于光学元件,要求具有与各用途一致的多种多样的特性,而上述光学元件在其中具有非常高的重要性,其非常好地保证涂膜厚度的精度或面内均一性。
本发明的光学元件的特征在于,在上述光学补偿板上至少层叠一层偏振片。通过在如上所述的稳定性极为出色的光学补偿板上形成至少层叠了一层偏振片的光学元件,可以成为具有出色的光学功能特性的光学元件。
进而,在搭载了上述光学功能层、光学补偿板或光学元件中任意一种的图像显示装置中适用。通过这样的光学功能层或光学补偿板、光学元件,没有图像的不均或变形的图像显示装置成为可能。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式的一个例子的示意图。
图2是显示被膜薄片的状态作为本发明的实施方式的一个例子的示意图。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的实施方式进行说明。图1是表示本发明的一个例子的制造装置的简要图。图2是表示在装置的各工序中被膜薄片的状态的示意图。
在图1中,例示了制作被膜薄片的制造方法的一个例子,即利用辊4运送基材薄膜(下面也被简单地称为“薄膜”)1,按顺序经过在薄膜1上涂敷含有树脂材料和溶剂的涂敷液2的工序(1)以及干燥被涂敷液的工序(2),从而制作被膜薄片。利用运送辊4送出的薄膜1,在工序(1)中是使用照相凹版涂料机3在其上涂敷涂敷液2,接着移行到工序(2)。在工序(2)中,在空气喷射区间7之间并以规定的喷射角度6,从喷嘴5向薄膜1的涂膜层的表面喷射干燥风。在本工序(2)中,可以使涂膜层干燥。另外,在工序(2)之后,可以进行使涂膜层干燥的工序。即,本发明是通过对干燥工序中的各种条件进行研究而提出的形成最适涂膜层的方法。
对工序(1)中的涂敷液2的涂敷方法没有特别限制,可以采用通常的方法。例如可以举出缝口模头法、反向照相凹版涂敷法、微照相凹版法、浸渗法、旋涂法、刷涂法、辊涂法、苯胺印刷法等。在图1中例示的是使用了照相凹版辊涂料机3的方法。
对工序(2)中的干燥风的形成方法没有特别限制,可以使用通常的加热机构。例如可以举出热风器、加热辊、远红外线加热器等。
在工序(2)之后,根据涂敷液的种类,可以进一步实施热固化、UV固化等固化处理。然后,在被卷取辊(未图示)卷取的情况、或进一步覆盖保护薄片而卷取的情况等情况下,通过被膜薄片的规格实施后工序的处理。这样得到的涂膜层(下面有时也称为被膜层),除了可以在不从薄膜1上剥离而使用之外,还可以从薄膜1上剥离而使用。
图2是表示在各工序中按顺序形成的薄膜1的截面的图,表示涂敷前的状态(A)、刚刚在薄膜1上涂敷涂敷液2形成涂膜层8之后的状态(B)、进而干燥处理后的涂膜层8’的状态(C)。
本发明的特征在于,在上述制造方法中,向具有涂敷液的固体成分浓度在55重量%以下且粘度为20mPa·s以下的状态的涂膜层8的表面上,沿着薄膜1的行走方向喷射干燥风。作为发明人的观点,认为是由于下面的原因使涂膜层8和面内的光学功能特性均一化。即,当喷射风时,在涂膜表面上形成目视难以感知的微细凹凸不平,难以见到视觉上的大的凹凸不平,在随后的溶剂蒸发过程中产生的流平效果像微细的凹凸不平那样显示出。另外还认为具有如下效果,即在喷射干燥风时溶剂瞬时蒸发,在产生由溶剂的蒸发不均导致的涂膜液的对流之前,粘度上升而不会发生液体流动。如果喷射风的涂膜层的固体成分浓度超过55重量%,不能充分地得到与溶剂蒸发同时产生的流平效果。另外,如果粘度超过20mPa·s,涂膜层的表面的微细凹凸不平的形成变得困难。特别是为了在大面积的区域中也能够使涂膜层的厚度精度提高并使光学功能特性在面内均一化,上述要件比较重要。在粘度的测量中,可以使用旋转式或落球式等通常的仪器。在本发明中是以利用电流计(rheometer):RS-1(Heake公司制)测量的值作为基准的。
另外,上述喷射的干燥风的风速优选为4~20m/sec,在薄膜宽幅方向的风速偏差优选为±30%以下。对于喷射的干燥风而言,如果风速不到4m/sec,则不会形成涂膜层的表面的微细凹凸,相反,如果超过20m/sec,涂面的凹凸不均匀而且变得过大,因情况的不同涂液发生飞散。在这里所谓的风速是指在涂膜层的表面附近的风速,是指在离涂膜层的表面30mm以内测量的风速。在风速的测量中,可以使用螺旋桨式、热线式等通常的方式。在本发明中,是利用クリモマスタ一:Model 6531(KANOMAX公司制)测量的值作为基准的。关于此,喷射的干燥风的风向也对其有影响,如果喷射角度相对于基材薄膜1面超过30°,则涂面的凹凸不平变得过大。
进而,上述喷射的风的温度优选为20~45℃,薄膜宽幅方向上的温度偏差优选为±15%以下。风的温度如果为50℃以上,则溶剂蒸发速度变快,得不到流平效果。
本发明优选干燥后的涂膜层的厚度为30μm以下。干燥厚度如果超过30μm,在被膜层的厚度方向产生涂敷液的浓度分布或对流,容易失去被膜层的均一性。本发明的制造方法更适合于被膜层的干燥厚度为0.05~50μm特别是为0.1~10μm的情况。在这里,对于干燥厚度而言,大多数情况下难以进行实际测量,实际上,有时也根据从涂敷液固体成分浓度计算出来的含有溶剂的湿厚度来保证如上所述的条件的方法,可以获得同样的效果。
本发明优选上述涂膜层8’为光学功能层。就要求涂膜厚度的精度并要求光学功能特性在面内的均一性的光学功能层而言,如上所述的被膜薄片的制造方法在大面积的区域中特别有效。
另外,本发明的被膜薄片的制造方法在上述光学功能层为光学补偿层时优选。对于要求涂膜层的厚度的精度并要求光学功能特性在面内的均一性的光学补偿层而言,如上所述的制造方法是特别有效的作成方法。后面对光学补偿层进行详述。
另外,本发明的被膜薄片的制造方法在上述光学补偿层的构成分子为采取胆甾醇型结构并取向的胆甾醇型层时优选。对于要求涂膜厚度的精度并要求光学功能特性在面内的均一性的胆甾醇型结构的光学补偿层而言,上述制造方法特别有效。后面对胆甾醇型层进行详述。
本发明优选是在上述光学功能层为光学补偿层时或在该光学补偿层的构成分子为采取胆甾醇型结构并取向的胆甾醇型层时而得到的光学补偿板。通过上述被膜薄片的制造方法得到的光学功能层,其涂膜厚度的精度高且光学功能特性在面内的均一性出色,就将其作为光学补偿层或胆甾醇型结构的光学补偿层的光学补偿板而言,特别有效。
在这里,上述胆甾醇型层的厚度优选为0.5~10μm的范围。通过该范围的膜厚,作为光学补偿层可以防止取向的紊乱或透射率降低,可以提高选择反射性、防着色、生产率等。详细内容如后所述。
另外,优选上述胆甾醇型层的构成分子为非液晶聚合物,该非液晶聚合物为对采取胆甾醇型结构并发生取向的液晶单体进行聚合或交联而成的聚合物。在这样的光学补偿板中,由于聚合或交联而成的聚合物成为非液晶性,所以已形成的胆甾醇型层也不会出现在液晶分子中特有的由温度变化导致的向液晶相、玻璃相、结晶相的变化等,可以说是该胆甾醇型结构不会受到温度变化的影响、稳定性极为出色且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。详细内容后述。
或者,优选上述胆甾醇型层的构成分子为液晶聚合物,该液晶聚合物采取胆甾醇型结构并发生取向。构成分子即使为液晶聚合物,也可以通过配合胆甾醇型液晶性单体或手性剂而与上述一样地形成温度变化小的胆甾醇型层,可以成为稳定性极为出色而且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。详细内容如后所述。
本发明为光学元件,其特征在于,在上述任意光学补偿板上至少层叠一层偏振片。通过在如上所述的稳定性极为出色的光学补偿板上形成至少层叠了一层偏振片的光学元件,可以成为具有出色的光学功能特性的光学元件。后面对光学元件进行详述。
可以根据形成的被膜层的种类、其应用用途来适当决定在本发明的被膜薄片的制造方法中使用的薄膜1、涂敷液等。下面对其进行详细说明。
作为薄膜1,只要是相对于涂敷液具有某种程度的润湿性的材质的层,则可以是任何材质,除了可以举出透明基材薄膜或取向基板、各种玻璃板以外,还可以举出光致抗蚀剂等。
当通过涂敷液形成光学功能层时,优选使用透明基材薄膜作为薄膜1。作为透明基材薄膜,例如可以举出由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物,二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素系聚合物,聚碳酸酯系聚合物,聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物等透明聚合物构成的薄膜。另外,也可以举出由聚苯乙烯、丙烯腈—苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物,聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯—丙烯共聚物等的烯烃系聚合物,氯乙烯系聚合物,尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物等透明聚合物构成的薄膜。进而,还可以举出由酰亚胺系聚合物、砜系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、聚乙烯醇缩丁醛系聚合物、芳基化物系聚合物、聚甲醛系聚合物、环氧系聚合物、或者上述聚合物的混合物等透明聚合物构成的薄膜等。特别适合使用由光学上折射率少的聚合物构成的薄膜。
作为透明基材薄膜,从偏振光特性或耐久性等观点出发,优选三乙酰纤维素等纤维素系聚合物。特别优选三乙酰纤维素薄膜。
另外,可以举出如特开2001-343529号公报(WO01/37007)中所述的聚合物薄膜,例如含有(A)侧链上具有取代和/或未取代亚氨基的热塑性树脂、和(B)侧链上具有取代和/或未取代苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体的例子,可以举例为含有由异丁烯与N-甲基马来酰亚胺构成的交替共聚物和丙烯腈—苯乙烯共聚物的树脂组合物的薄膜。薄膜能够使用由树脂组合物的混合挤压品等构成的薄膜。
另外,透明基材薄膜优选尽可能没有着色。因此,优选使用用Rth=[(nx+ny)/2-nz]·d(其中,nx、ny为薄膜平面内的主折射率,nz为薄膜厚度方向上的折射率,d为薄膜厚度)表示的薄膜厚度方向上的相位差值为-90nm~+75nm的保护薄膜。通过使用这种厚度方向上的相位差值(Rth)为-90nm~+75nm的薄膜,大致能够消除由保护薄膜造成的偏振片着色(光学着色)。厚度方向上的相位差值(Rth)进一步优选为-80nm~+60nm,特别优选为-70nm~+45nm。
可以适宜确定薄膜1的厚度,但通常从强度或操作性等作业性、薄层性等观点来看,为10~500μm左右。特别优选为20~300μm,更优选为30~200μm。
在本发明中使用的涂敷液只要可以形成涂膜层,则可以是任何涂敷液,根据目的涂膜层的功能选择涂敷液的树脂材料和溶剂。作为可以通过本发明的涂敷方法形成的涂膜层,可以举出光学功能层、防静电层、表面保护层、导电功能层、粘合剂层、胶粘剂层、透明涂敷层等。还有,利用涂敷液的涂膜层的形成,可以通过按顺序在薄膜1上形成被膜来进行。因而,作为薄膜1,可以使用其它预先形成其他涂膜层的薄膜。在本发明中,作为涂膜层,当形成光学功能层时的情况下,特别优选形成厚度为30μm以下的光学功能层的情况。作为该光学功能层,可以举出硬涂层、防反射层、相位差层、光学补偿层等。
作为形成硬涂层的透明树脂,只要是硬涂性出色(在JIS K5400的铅笔硬度试验中显示H以上的硬度的物质)、具有充分的强度且光线透过率出色的树脂,就没有特别限制。例如,可以举出热固化性树脂、热塑性树脂、紫外线固化性树脂、电子射线固化性树脂、双液混合型树脂等。其中,优选可以利用通过紫外线照射的固化处理并利用简单的加工操作就能够高效地形成光扩散层的紫外线固化性树脂。作为紫外线固化性树脂,可以举出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅酮系、环氧系等各种树脂,包括紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物等。优选使用的紫外线固化性树脂,例如可以举出具有紫外线聚合性官能团的树脂,其中可以举出在成分中具有2个以上该官能团、特别是具有3~6个的丙烯酸系单体或低聚物的树脂。另外,在紫外线固化性树脂中配合有紫外线聚合引发剂。
在硬涂层中可以含有导电性微粒。作为导电性微粒,例如可以举出铝、钛、锡、金、银等金属微粒,ITO(氧化铟/氧化锡)、ATO(氧化锑/氧化锡)等超微粒。导电性微粒的平均粒径通常优选为0.1μm以下左右。向硬涂层中添加高折射率的金属或金属氧化物的超微粒,能够调整成高折射率。作为高折射率的超微粒,可以举出TiO2、SnO2、ZnO2、ZrO2、氧化铝、氧化锌等金属氧化物的超微粒。该超微粒的平均粒径通常优选为0.1μm以下左右。
另外,使硬涂层分散含有无机或有机的球形或者不定形的填充剂,可以使其表面为微细凹凸结构而赋予防眩性。通过使硬涂层为凹凸形状,可以赋予光扩散引起的防眩性。即使从光扩散性的赋予可以降低反射率的观点来看,也优选。
作为无机或有机的球形或者不定形的填充剂,例如可以举出由PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、聚氨基甲酸酯、聚苯乙烯、三聚氰胺树脂等各种聚合物构成的交联或未交联的有机系微粒,玻璃、二氧化硅、氧化铝、氧化钙、氧化钛、氧化锆、氧化锌等无机系颗粒,氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑或它们的复合物等导电性无机系颗粒等。上述填充剂的平均粒径优选为0.5~10μm,更优选为1~4μm。在利用微粒形成微细凹凸结构时,微粒的使用量相对于树脂100重量份优选为1~30重量份左右。
另外,为了形成硬涂层(防眩层),可以含有流平剂、触变剂、防静电剂等添加剂。在形成硬涂层(防眩层)时,通过含有触变剂(0.1μm以下的二氧化硅、云母等),可以在防眩层表面利用突出颗粒容易地形成微细凹凸结构。
作为防反射层的形成材料,例如可以举出紫外线固化性丙烯酸树脂等树脂系材料,在树脂中分散了胶体氧化硅等无机微粒的混合系材料,使用了四乙氧基硅烷、四乙醇钛等金属醇盐的溶胶—凝胶系材料等。另外,各材料为了赋予表面的防污染性而使用含氟化合物。从耐擦伤性的方面出发,有无机成分含量多的低折射率层材料出色的倾向,特别优选溶胶—凝胶系材料。溶胶—凝胶系材料可以部分缩合二使用。
作为上述含氟的溶胶—凝胶系材料,可以例示为全氟烷基烷氧基硅烷。作为全氟烷基烷氧基硅烷,例如可以举出用通式(1):CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR)3(式中,R表示碳原子数为1~5的烷基,n表示0~12的整数)表示的化合物。具体地说,例如可以举出三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷等。其中,优选上述n为2~6的化合物。
另外,也可以向防反射层中添加已将氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氟化镁、二氧化铈等分散于溶剂中的溶胶等。另外,也可以适当配合金属盐、金属化合物等添加剂。
为了形成相位差层、光学补偿层,例如可以使用聚合性液晶单体和/或液晶聚合物。作为上述聚合性液晶单体,例如可以举出向列相型液晶性单体。在含有聚合性液晶单体的情况下,通常含有光聚合引发剂。光聚合引发剂可以没有特别限制地使用各种物质。
作为向列相型液晶性单体,可以举出在末端具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基等聚合性官能团并在其中具有由环状单元构成的直线状原子团(mesogene)的液晶性单体。另外,作为聚合性官能团,也可以使用具有2个以上丙烯酰基、甲基丙烯酰基等的单体聚合性官能团,并导入交联结构,以使耐久性提高。作为成为直线状原子团的上述环状单元,例如可以举出联苯系、苯甲酸苯酯系、苯基环己烷系、氧化偶氮苯系、偶氮甲碱系、偶氮苯系、苯基嘧啶系、二苯乙炔系、苯甲酸二苯酯系、双环己烷系、环己基苯系、联三苯系等。还有,这些环状单元的末端可以具有例如氰基、烷基、烷氧基、卤基等取代基。
作为主链型液晶聚合物,可以举出具有结合了由芳香族单元等构成的直线状原子团的结构的缩合系聚合物,例如可以举出聚酯系、聚酰胺系、聚碳酸酯系、聚酯酰亚胺系等聚合物。作为成为直线状原子团的上述芳香族单元,可以举出苯基系、联苯基系、萘系的单体。这些芳香族单元可以具有氰基、烷基、烷氧基、卤基等取代基。
作为侧链型液晶聚合物,可以举出将聚丙烯酸酯系、聚甲基丙烯酸酯系、聚硅氧烷系、聚丙二酸酯系的主链为骨架并在侧链具有由环状单元等构成的直线状原子团的化合物。作为成为直线状原子团的上述环状单元,例如可以举出联苯系、苯甲酸苯酯系、苯基环己烷系、氧化偶氮苯系、偶氮甲碱系、偶氮苯系、苯基嘧啶系、二苯乙炔系、苯甲酸二苯酯系、双环己烷系、环己基苯系、联三苯系等。还有,这些环状单元的末端也可以具有例如氰基、烷基、烷氧基、卤基等取代基。
上述聚合性液晶单体、液晶聚合物的任意直线状原子团也可以借助赋予弯曲性的间隔部结合。作为间隔部,可以举出聚亚甲基链、聚甲醛链等。形成间隔部的结构单元的重复数是由直线状原子团部的化学结构适当决定的,但聚亚甲基链的重复单元为0~20、优选为2~12,聚甲醛链的重复单元为0~10、优选为1~3。
在上述向列相型液晶性单体、液晶性聚合物中含有在液晶状态中显示垂直(homeotropic)取向的化合物。另外,在上述向列相型液晶性单体、液晶性聚合物中,为了使其在液晶状态中呈现胆甾醇型相,可以配合胆甾醇型液晶性单体或手性剂。另外,可以使用胆甾醇型液晶性聚合物。得到的胆甾醇型液晶相可以作为选择反射薄膜使用。作为手性剂,只要具有光学活性基且不使向列相型液晶性单体等的取向紊乱的化合物,就没有特别限制。手性剂可以具有液晶性,也可以不具有液晶性,可以优选使用显示胆甾醇型液晶性的化合物,手性剂可以使用具有或者不具有反应性基的任何化合物,而从固化而得到的胆甾醇型液晶取向薄膜的耐热性、耐溶剂性的观点来看,优选具有反应性基的化合物。作为反应性基,例如可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、叠氮基、环氧基等。
另外,可以将由胆甾醇型液晶的倾斜取向层构成的光学各向异性层作为光学补偿相位差相(光学补偿层)使用。作为胆甾醇型液晶,可以例示在上述特开平8-94836号公报等中记载的液晶。
还有,上述液晶单体、液晶聚合物可以在取向膜上展开。作为取向膜,可以使用一直以来已知的各种取向膜,例如可以使用通过在透明基材上形成由聚酰亚胺或聚乙烯醇等构成的薄膜并对其进行摩擦处理的方法而形成的膜、对透明薄膜进行了拉伸处理的拉伸薄膜、对具有肉桂酸酯骨架或偶氮苯骨架的聚合物或者聚酰亚胺照射偏振光紫外线的膜等。
上述涂敷液例如可以通过在适当的溶剂中溶解、分散上述液晶单体等来调制。对上述溶剂没有特别限制,例如可以使用氯仿、二氯甲烷、四氯化碳、二氯乙烷、四氯乙烷、二氯甲烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯、邻二氯苯等卤化烃类,苯酚、对氯苯酚、邻氯苯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等酚类,苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1,2-二甲氧基苯等芳香族烃类,丙酮、甲基乙基甲酮(MEK)、甲基异丁基酮、环己酮、环戊酮、2-吡咯烷酮、N-甲基-2-吡咯烷酮等的酮系溶剂,醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯系溶剂,叔丁醇、甘油、乙二醇、三甘醇、乙二醇单甲醚、二甘醇二甲醚、丙二醇、二丙二醇、2-甲基-2,4-戊二醇等醇系溶剂,二甲替甲酰胺、二甲替乙酰胺之类的酰胺系溶剂,乙腈、丁腈之类的腈系溶剂,二乙醚、二丁醚、四氢呋喃、二噁烷之类的醚系溶剂,或者二硫化碳,乙基溶纤剂,丁基溶纤剂等。其中优选的是甲苯、二甲苯、均三甲基苯、MEK、甲基异丁基酮、环己醇、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸丙酯、醋酸乙基溶纤剂。这些溶剂例如可以使用一种,也可以2种以上混合使用。
对涂敷液的树脂成分浓度没有特别限制,通常为1~60重量%、优选为5~50重量%。可以根据利用涂敷液形成的被膜层被应用的用途而在涂敷液中含有各种添加剂。
另外,对于形成光学补偿层的胆甾醇型层的构成分子而言,例如为非液晶聚合物,优选对采取胆甾醇型结构并已取向的液晶单体进行聚合或交联的聚合物。如果为这样的构成,如后所述,上述单体为了显示液晶性可以采取胆甾醇型结构并使其取向,而且进一步使单体间发生聚合等,由此固定上述取向。接着,使用液晶单体,但通过上述固定,已聚合的聚合物成为非液晶性。所以,已形成的胆甾醇型层采取类似胆甾醇型液晶相那样的胆甾醇型结构,但由于没有由液晶分子构成,所以例如不会发生在液晶分子中特有的由温度变化导致的向液晶相、玻璃相、结晶相的变化。因而,成为其胆甾醇型结构不会受到温度变化的影响且稳定性极为出色的光学薄膜(胆甾醇型层),例如可以说作为光学补偿用相位差薄膜(光学补偿板)是特别有用的。
上述液晶单体优选用后述的化学式(1)表示的单体。这样的液晶单体通常为向列相型液晶性单体,例如利用上述手性剂被赋予扭曲,最终采取胆甾醇型结构。另外,在上述胆甾醇型层中,为了进行取向固定,需要在上述单体之间进行聚合或交联,所以上述单体优选含有聚合性单体和交联性单体的至少一种。
上述胆甾醇型层优选进一步含有聚合剂和交联剂的至少一种,例如可以使用紫外线固化剂、光固化剂、热固化剂等物质。
在上述胆甾醇型层中的液晶单体的比例优选在75~95重量%的范围,更优选在80~90重量%的范围。另外,相对于上述液晶单体的手性剂的比例优选在5~23重量%的范围,更优选在10~20重量%的范围。另外,相对于上述液晶单体的交联剂或聚合剂的比例,优选为0.1~10重量%的范围,更优选为0.5~8重量%的范围,特别优选为1~5重量%的范围。
对上述光学薄膜(胆甾醇型层)的厚度没有特别限制,例如在用作补偿用的相位差薄膜(光学补偿板)的情况下,从防止取向紊乱或透射率低下、选择反射性、防止着色、生产率等观点来看,优选为0.1~10μm的范围,更优选为0.5~8μm的范围,特别优选为1~5μm的范围。
本发明的光学薄膜(胆甾醇型层)例如可以是只由如上所述的胆甾醇型层形成,也可以是进一步含有基板并在上述基板上层叠了上述胆甾醇型层的层叠体。
接着,本发明的光学薄膜(胆甾醇型层)的制造方法是含有胆甾醇型层且上述层的构成分子采取胆甾醇型结构并进行取向的光学薄膜的制造方法,包括:
(1)将含有液晶单体、上述手性剂、聚合剂和交联剂二者中的至少一种的且相对于上述液晶单体的手性剂的比例在规定范围的涂敷液在取向基材(基材薄膜)上展开,形成展开层(涂膜层)的工序;
(2)向上述展开层的表面上沿着取向基材的行走方向喷射干燥风的光学;
(3)为了使上述液晶单体成为采取了胆甾醇型结构的取向而对上述展开层实施加热处理的工序;以及
(4)为了固定上述液晶单体的取向而形成非液晶聚合物的胆甾醇型层,对上述展开层实施聚合处理和交联处理的至少一种处理的工序。
通过这样的制造方法,可以制造规定的选择反射波长频带的光学薄膜。即,发现通过如此控制液晶单体和手性剂的配合比例,可以将上述选择反射波长频带控制在规定的范围。
下面对本发明的光学薄膜的制造方法的一个例子进行具体说明。首先,准备含有上述液晶单体、上述手性剂、上述交联剂和聚合剂二者中的至少一种的涂敷液。
作为上述液晶单体,例如优选为向列相型液晶性单体,具体地说,可以举出用下述式(1)表示的单体。这些液晶单体可以为一种,也可以并用两种以上。
在上述式(1)中,A1和A2分别表示聚合性基,可以相同或不同。另外,A1和A2的任何一方都可以为氢。X分别表示单键、-O-、-S-、-C=N-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR-、-NR-CO-、-NR-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-、-CH2-O-、或-NR-CO-NR,在上述X中,R表示H或C1~C4烷基,M表示直线状原子团。
在上述式(1)中,X可以相同或不同,优选相同。
上述式(1)的单体中,A2优选分别相对于A1被配置于邻位。
另外,上述A1和A2分别独立,优选用下述式
Z-X-(Sp)n ...(2)
表示,A1和A2优选为相同的基。
在上述式(2)中,Z表示交联性基,X与上述式(1)相同,Sp表示由具有1~30个C原子的直链或支链的烷基构成的间隔部,n表示0或1。上述Sp中的碳链例如也可以被醚官能团内的氧、硫醚官能团内的硫、非相邻亚氨基或C 1~C4的烷基亚氨基等填隙。
在上述式(2)中,Z优选用下述式表示的原子团的任意一种。在下述式中,作为R,例如可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基等基。
另外,在上述式(2)中,Sp优选为用下述式表示的原子团的任意一种,在下述式中,m优选为1~3,p优选为1~12。
-(CH2)p-,-(CH2CH2O)mCH2CH2-,-CH2CH2SCH2CH2-,
-CH2CH2NHCH2CH2-,
在上述式(1)中,M优选用下述式(3)表示,在下述式(3)中,X与上述式(1)中的X相同。Q例如表示取代或未取代的亚烷基或芳香族烃原子团,另外,例如可以为取代或未取代的直链或者支链C1~C12亚烷基等。
上述Q为上述芳香族烃原子团时,例如优选为用下述式表示的原子团或它们的取代类似物。
作为在上述式中表示的芳香族烃原子团的取代类似物,例如可以在1个芳香族环上具有1~4个取代基,另外,也可以在1个芳香族环或基上具有1或2个取代基。上述取代基可以分别相同或不同。作为上述取代基,例如可以举出C1~C4烷基,硝基,F、C、Br、I等卤素,苯基,C1~C4烷氧基等。
作为上述液晶单体的具体例子,例如可以举出用下述式(4)~(19)表示的单体。
上述液晶单体显示液晶性的温度范围因其种类而不同,例如优选为40~120℃的范围、更优选为50~100℃的范围,特别优选为60~90℃的范围。
作为上述手性化剂,如上所述,例如只要是以对上述液晶单体赋子扭曲而成为胆甾醇型结构的方式进行取向的物质,就没有特别限制,但优选聚合性手性化剂,可以使用如上所述的化合物。这些手性剂可以为一种,也可以并用两种以上。
具体地说,作为上述聚合性手性化剂,例如可以使用用下述通式(20)~(23)表示的手性化合物。
(Z-X5)nCh (20)
(Z-X2-Sp-X5)nCh (21)
(P1-X5)nCh (22)
(Z-X2-Sp-X3-M-X4)nCh (23)
在上述各式中,Z与上述式(2)相同,Sp与上述式(2)相同,X2、X3和X4彼此独立,表示化学单键、-O-、-S-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR-、-NR-CO-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-、-NR-CO-NR-,上述R表示N、C1~C4烷基。另外,X5表示化学单键、-O-、-S-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CO-NR-、-NR-CO-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-、-NR-CO-NR-、-CH2O-、-O-CH2-、-C=N-、-N=CH-或-N=N-。R与上述一样表示H、C1~C4烷基。M与上述一样表示直线状原子团,P1表示被氢、1~3个的C1~C6烷基所取代的C1~C30烷基、C1~C30酰基或C3~C8环烷基,n表示1~6的整数。Ch表示n价的手性基。在上述式(23)中,X3和X4优选至少一方为-O-CO-O-、-O-CO-NR-、-NR-CO-O-或-NR-CO-NR-。另外,在上述式(22)中,当P1为烷基、酰基或环烷基时,例如其碳链也可以由醚官能团内的氧、硫醚官能团内的硫、非相邻亚氨基或C1~C4的烷基亚氨基填隙。
作为上述Ch的手性基,例如可以举出用下述式表示的原子团。
在上述原子团中,L为C1~C4烷基、C1~C4烷氧基、卤素、COOR、OCOR、CONHR或NHCOR,上述R表示C1~C4烷基。还有,在上述式中表示的原子团的末端表示与相邻基团的结合位置(結合手)。
在上述原子团中,特别优选为用下述式表示的原子团。
另外,用上述(21)或(23)表示的手性化合物,例如优选n为2、Z表示H2C=CH-、Ch为用下述式表示的原子团。
作为上述手性化合物的具体例子,例如可以举出用下述式(24)~(44)表示的化合物。还有,这些手性化合物的扭曲力为1×10-6nm-1(wt%)-1以上。
除了如上所述的手性化合物以外,例如可以优选使用RE-A4342280号和德国专利申请19520660.6号和19520704.1号中举出的手性化合物。
对上述聚合剂和交联剂没有特别限制,例如可以使用如下所述的化合物。作为上述聚合剂,例如可以使用过氧化苯甲酰(BPO)、偶氮二异丁腈(AIBN)等,作为上述交联剂,例如可以使用异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、金属螯合剂交联剂等。这些可以任意使用一种,也可以并用两种以上。
上述手性剂的添加比例例如可以根据需要的螺旋间距、需要的选择反射波长频带进行适当决定,相对于上述液晶单体的添加比例为5~23重量%的范围,优选为10~20重量%的范围。如上所述,可以通过如此控制液晶单体与手性剂之间的添加比例而将形成的光学薄膜的选择波长频带设定于上述范围内。当相对于液晶单体的手性剂的比例小于5重量%时,则将形成的光学薄膜的选择反射波长频带控制在低波长侧变得困难。另外,当上述比例大于23重量%时,由于液晶单体进行胆甾醇型取向的温度范围、即上述液晶单体成为液晶相的温度范围变得狭窄,所以需要严密地进行在后述的取向工序中的温度控制,而使制造变得困难。
例如,当使用相同扭曲力的手性剂时,相对于液晶单体的手性剂的添加比例多的一方所形成的选择反射波长频带成为低波长侧。另外,例如,当相对于液晶单体的手性剂的添加比例相同时,例如,手性剂的扭曲力大的一方所形成的光学薄膜的选择反射波长频带成为低波长侧。作为具体例子,当将形成的光学薄膜的上述选择反射波长频带设定在200~220nm的范围内时,例如,可以配合扭曲力为5×10-4nm-1·(wt%)-1的手性剂并使其相对于液晶单体为11~13重量%,当将上述选择反射波长频带设定在290~310nm的范围内时,例如,可以配合扭曲力为5×10-4nm-1·(wt%)-1的手性剂并使其相对液晶单体为7~9重量%。
另外,对上述液晶单体和上述手性剂的组合没有特别限制,具体地说,可以举出上述式(10)的单体与上述式(38)的手性剂的组合、上述式(11)的单体与上述式(39)的手性剂的组合等。
另外,相对于上述液晶单体的交联剂或聚合剂的添加比例例如为0.1~10重量%的范围,优选为0.5~8重量%的范围,更优选为1~5重量%的范围。相对于上述液晶单体的交联剂或聚合剂的比例如果在0.1重量%以上,例如胆甾醇型层的固化变得十分容易,另外,如果在10重量%以下,例如上述液晶单体进行胆甾醇型取向的温度范围、即上述液晶单体成为液晶相的温度成为充分的范围,所以在后述的取向工序中的温度控制变得更加容易。
另外,也可以上述涂敷液中例如根据需要适当配合各种添加物。作为上述添加物,例如可以举出抗老化剂、改性剂、表面活性剂、染料、颜料、防变色剂、紫外线吸收剂等。这些添加剂例如可以添加任何一种,也可以并用两种以上。具体地说,作为上述抗老化剂,例如可以使用酚系化合物、胺系化合物、有机硫系化合物、膦系化合物等以往公知的化合物。另外,作为上述改性剂,例如可以使用二醇类、硅酮类或醇类等以往公知的化合物。另外,可以添加上述表面活性剂以例如使光学薄膜的表面平滑。具体地说,例如可以使用硅酮系、丙烯酸系、氟系等表面活性剂,特别优选硅酮系。
当如此使用液晶单体时,已调制的涂敷液例如显示出涂敷、展开等的操作性出色的粘性。上述涂敷液的粘度通常根据上述液晶单体的浓度或温度等而不同,而当上述涂敷液中的单体浓度在5~70重量%的范围时,其粘度例如在0.2~20mPa·s的范围,优选为0.5~15mPa·s,特别优选为1~10mPa·s。具体地说,当上述涂敷液中的单体浓度为30重量%时,例如在2~5mPa·s的范围,优选在3~4mPa·s的范围。如果上述涂敷液的粘度为0.2mPa·s以上,例如可以进一步防止通过使涂敷液行走导致的液体流动的发生,另外,如果为20mPa·s以下,例如可以使表面流平性更加出色,可以进一步防止厚度不均,涂敷性也出色。还有,作为上述粘度,显示的是温度为20~30℃的范围,但并不限于对该温度。
接着,将上述涂敷液涂布于取向基板上形成展开层。
上述涂敷液例如可以通过辊涂法、旋涂法、拉丝锭(wire bar)涂敷法、浸涂法、挤压(extrusion)法、帘涂法、喷涂法等以往公知的方法流动展开,其中,从涂布效率的观点来看,优选旋涂法、挤压法。
作为上述取向基板,只要使可以使上述液晶单体发生取向的基板,就没有特别限制,例如可以使用已经通过人造丝布等对各种塑料薄膜或塑料薄片的表面进行摩擦处理的基板。对上述塑料没有特别限制,例如可以举出三乙酰纤维素(TAC),聚乙烯、聚丙烯、聚(4-甲基戊烯-1)等聚烯烃,聚酰亚胺,聚酰亚胺酰胺,聚醚酰亚胺,聚酰胺,聚醚醚酮,聚醚酮,聚酮硫醚(polyketone sulfide),聚醚砜,聚砜,聚苯硫醚,聚苯醚,聚对苯二甲酸乙二醇酯,聚对苯二甲酸丁二醇酯,聚萘二甲酸乙二醇酯,聚缩醛,聚碳酸酯,多芳基化物(ポリアリレ一ト),丙烯酸树脂,聚乙烯醇,聚丙烯,纤维素系塑料,环氧树脂,酚树脂等。另外,也可以使用已在铝、铜、铁等金属制基板,陶瓷制基板,玻璃制基板等的表面上配置如上所述的塑料薄膜或薄片的基板;或者在上述表面上形成了SiO2斜向蒸镀膜而成的基板等。另外,作为取向基板,也可以使用将已实施单向拉伸等拉伸处理的具有双折射性的拉伸薄膜等作为取向膜层叠于如上所述的塑料薄膜或薄片上而成的层叠体。进而,当基板自身具有双折射性时,不需要如上所述的摩擦处理或在表面上层叠双折射型薄膜等,所以优选。作为这样对基板自身赋予双折射性的方法,在基板的形成中,例如除了拉伸处理以外,还可以举出进行铸造或挤压成型等的方法。
接着,通过对上述展开层实施加热处理,可以在液晶状态下使上述液晶单体发生取向。由于在上述展开层中同时含有上述液晶单体和手性剂,所以已成为液晶相(液晶状态)的液晶单体在被上述手性剂赋予扭曲的状态下发生取向。即,液晶单体显示出胆甾醇型结构(螺旋结构)。
上述加热处理的温度条件例如可以根据上述液晶单体的种类,具体地说是根据上述液晶单体显示液晶性的温度来适当决定,通常在40~120℃的范围,优选在50~100℃的范围,更优选在60~90℃的范围。如果上述温度在40℃以上,通常可以使液晶单体充分取向,如果上述温度在120℃以下,例如在耐热性方面来看,如上所述的各种取向基材的选择性也宽。
接着,通过在上述液晶单体已发生取向的上述展开层上实施交联处理或聚合处理,使上述液晶单体与手性剂发生聚合或交联。这样,液晶单体在采取胆甾醇型结构并已发生取向的状态下直接相互聚合、交联,或者与手性剂聚合或交联,使上述取向状态固定。接着,已形成的聚合物通过上述取向状态的固定而成为非液晶聚合物。
述聚合处理或交联处理例如可以根据使用的聚合剂或交联剂的种类适当决定。例如,在使用光聚合剂或光交联剂的情况下,实施光照射;在使用紫外线聚合剂或紫外线交联剂的情况下,可以实施紫外线照射。
通过这样的制造方法,可以在上述取向基板上得到由采取胆甾醇型结构并进行取向的非液晶性聚合物形成的且选择反射波长频带为100nm~320nm的光学薄膜。该光学薄膜由于如前所述其取向性被固定,所以为非液晶性。因而,不会通过温度变化而变化成为例如液晶相、玻璃相、结晶相,不出现由温度变化引起的取向变化。所以,可以用作不受温度影响的且性能高的相位差薄膜。另外,由于选择反射波长频带被控制在上述范围内,所以可以抑制如上所述的光漏等。
另外,本发明的制造方法并不限于由非液晶性聚合物形成的方法,也可以使用如上所述的液晶聚合物。如上所述,可以在上述向列相型液晶性单体、液晶性聚合物中配合胆甾醇型液晶性单体或手性剂以便在液晶状态下呈现胆甾醇型相,另外,对于胆甾醇型液晶性聚合物而言,通过液晶聚合物采取胆甾醇型结构并发生取向,可以得到与由非液晶性聚合物形成的方法相同的效果。
还有,如果使用液晶单体,不仅更容易控制上述选择反射波长频带,而且如上所述地涂敷液的粘度等的设定也容易,所以形成薄膜变得更加容易,处理性也非常出色。另外,已形成的胆甾醇型层也成为表面平坦性出色的层。所以,可以说能够形成品质更加出色且薄型化的光学薄膜。
另外,上述光学薄膜例如也可以从上述取向基板剥离,直接作为如上所述的补偿用等的相位差薄膜(光学补偿板)使用,也可以在被层叠于上述取向基板上的状态下,用作相位差板。
当用作上述光学薄膜与上述取向基板的层叠体时,上述取向基板优选为透光性的塑料基板。作为上述塑料薄膜,例如可以举出由TAC等纤维素系,聚乙烯、聚丙烯、聚(4-甲基戊烯-1)等聚烯烃,聚酰亚胺,聚酰胺酰亚胺,聚酰胺,聚醚酰亚胺,聚醚醚酮,聚酮硫醚,聚醚砜,聚砜,聚苯硫醚,聚苯醚,聚对苯二甲酸乙二醇酯,聚对苯二甲酸丁二醇酯,聚萘二甲酸乙二醇酯,聚缩醛,聚碳酸酯,多芳基化物(ポリアリレ一ト),丙烯酸树脂,聚乙烯醇,聚丙烯,纤维素系塑料,环氧树脂,酚树脂,聚降冰片烯,聚酯,聚苯乙烯,聚氯乙烯,聚偏氯乙烯,液晶聚合物等形成的薄膜。这些薄膜可以是光学各向同性,也可以是各向异性,都没有妨碍。在这些塑料薄膜中,从耐溶剂性或耐热性的观点来看,例如优选已由聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯形成的各薄膜。
如上所述的透光性取向基板例如可以为单层,而例如从提高强度、耐热性、聚合物或液晶单体的粘附性的观点来看,也可以为已层叠异种聚合物的层叠体。
另外,也可以是不产生由双折射引起的相位差的基板,例如,可以是以消除被偏振光分离层反射的光的偏振光状态为目的而产生由双折射引起的相位差的基板。这种偏振光状态的消除通过提高光利用效率且与光源光的同一化,在抑制由视觉引起的色相变化中有效。作为产生由上述双折射引起的相位差的透明基板,例如可以是能够使用各种聚合物制的拉伸薄膜等已控制厚度方向的折射率的基板。上述控制例如可以通过使聚合物薄膜与热收缩薄膜粘接后加热拉伸等而进行。
另外,将上述光学薄膜从上述取向基板(以下,称为“第1基板”)转印到其它基板(以下,称为“第2基板”),在将上述光学薄膜层叠于上述第2基板的状态下,例如也可以用作相位差板。具体地说,可以在上述第2基板的至少一个表面上层叠胶粘剂层或粘合剂层(以下,称为“胶粘剂层等”),在将该胶粘剂层与上述第1基板上的光学薄膜粘接之后,从上述光学薄膜剥离上述第1基板。
在这种情况下,作为展开上述涂敷液的取向基板,例如不受其透光性或厚度等限制,优选从耐热性或强度的观点出发进行选择。
另一方面,上述第2基板例如在耐热性等方面不被限制。例如,优选透光性基板、透光性保护薄膜等,具体地说,可以举出透明的玻璃或塑料薄膜等。
另外,上述第2基板例如优选光学上各向同性,而按照上述光学薄膜的用途,也可以为光学上各向异性。作为这样的具有光学上各向异性的第2基板,例如可以是对上述塑料薄膜实施了拉伸处理等的相位差薄膜、具有光散射性的光散射薄膜、具有衍射能的衍射薄膜、偏振光薄膜等。
还有,当成为上述胆甾醇型层与上述各种透光性基板等的层叠体时,上述胆甾醇型层可以在上述透光性基板的两面上层叠,其层叠数可以为一层,也可以为两层以上。
本发明的光学薄膜也可以进一步在其表面上层叠粘合层或胶粘层。通过如此层叠粘合剂层等,例如可以使与偏振片等其它光学层或液晶单元等构件的层叠变得容易,能够防止光学薄膜的剥离。
接着,对本发明的光学元件为硬涂薄膜的情况进行说明。在这种情况下,硬涂薄膜可以具有作为光学功能层的硬涂层和透明基材薄膜(基材薄膜1)而构成。在硬涂薄膜的透明基材薄膜侧上可以形成例如偏振镜、相位差层或光学补偿层等光学层。另外,也可以使用防反射层代替上述硬涂层。
对偏振镜没有特别限制,可以使用各种偏振镜。作为偏振镜,例如可以举出,在聚乙烯醇系薄膜、部分甲缩醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯—醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜上,吸附碘或二色性染料等二色性物质后单向拉伸的材料;聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。其中,优选的是由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质组成的偏振镜。对这些偏振镜的厚度没有特别的限定,但是通常为5~80μm左右。
将聚乙烯醇系薄膜用碘染色后经单向拉伸而成的偏振镜,例如,可以通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液进行染色后,拉伸至原长度的3~7倍来制作。根据需要,也可以浸渍于硼酸或碘化钾等的水溶液中。此外,根据需要,也可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍于水中水洗。通过水洗聚乙烯醇系薄膜,除了可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面上的污物和防粘连剂之外,还可以通过使聚乙烯醇系薄膜溶胀,防止染色斑等不均匀现象。拉伸既可以在用碘染色之后进行,也可以一边染色一边进行拉伸,或者也可以在拉伸之后用碘进行染色。也可以在硼酸或碘化钾等的水溶液中或水浴中进行拉伸。
上述偏振镜通常可以在一侧或两侧设置透明保护薄膜作为偏振片使用。透明保护薄膜优选在透明性、机械强度、热稳定性、水分屏蔽性、各向同性等各方面具有良好性质的材料。作为透明保护薄膜,可以使用与上述例示的透明基材薄膜相同的材料。上述透明保护薄膜可以使用内外由相同的聚合物材料构成的透明保护薄膜,也可以使用由不同的聚合物材料等构成的透明保护薄膜。优选使用在透明性、机械强度、热稳定性、水分屏蔽性等各方面具有良好性质的材料。另外,透明保护薄膜大多是相位差等光学各向异性越少越优选。作为形成上述透明保护薄膜的聚合物,三乙酰纤维素最适合。在将上述硬涂薄膜设于偏振镜(偏振片)的一侧或两侧的情况下,硬涂薄膜的透明基材薄膜可以兼作偏振镜的透明保护薄膜。对透明保护薄膜的厚度没有特别限制,但通常为10~300μm左右。
在硬涂薄膜上已层叠偏振片的防反射偏振片,可以是在硬涂薄膜上按顺序层叠透明保护薄膜、偏振镜、透明保护薄膜的防反射偏振片,也可以是在硬涂薄膜上按顺序层叠偏振镜、透明保护薄膜的防反射偏振片。
另外,在上述透明保护薄膜的没有粘接偏振镜的面上,可以实施硬涂层或防粘连或目的处理。实施硬涂层处理的目的是防止偏振片的表面损坏等,例如可以通过在透明保护薄膜的表面上附加由丙烯酸系、硅酮系等适当的紫外线固化性树脂构成的硬度、滑动特性等良好的固化被膜的方式等形成。此外,实施防粘连处理的目的是防止与相邻层的粘附。还有,上述硬涂层、防粘连层等除了可以设置为透明保护薄膜自身以外,还可以作为其他的光学层而与透明保护薄膜分开设置。
另外,可以在偏振片的层间插入例如硬涂层、等离子体层、胶粘剂层、粘合剂层、防静电层、导电层、阻气(gas barrier)层、水蒸气屏蔽层、水分屏蔽层等,或者也可以层叠于偏振片的表面。另外,在作成偏振片的各层的阶段,也可以通过向各层的形成材料中对导电性颗粒或者防静电剂、各种微粒、增塑剂等进行添加、混合等而根据需要进行改进。
作为光学构件,在实际应用时,可以使用在上述偏振片上层叠了其它光学元件(光学层)的光学薄膜。对该光学层没有特别限定,可以举例为使用1层或2层以上的反射板或半透过板、相位差板(包括1/2或1/4波阻片)、视角补偿薄膜等在可以在液晶显示装置等的形成中使用的构件。特别优选在偏振片上进一步层叠反射板或半透过反射板而成的反射型偏振片或半透过型偏振片、在偏振片上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振片或圆偏振片、在偏振片上进一步层叠视角补偿薄膜而成的宽视角偏振片、或者在偏振片上进一步亮度改善薄膜而成的偏振片。在椭圆偏振片、带光学补偿的偏振片等中,对偏振片侧赋予硬涂薄膜。
进而,根据需要,也可以进行用于赋予提高耐擦伤性、耐久性、耐气候性、耐湿热性、耐热性、耐湿性、透湿性、防静电性、导电性、层间的粘附性并提高机械强度等各种特性、功能等的处理或者功能层的插入、层叠等。
反射型偏振片是在偏振片上设置反射层的偏振片,用于形成使来自辨识侧(显示侧)的入射光反射并显示的类型的液晶显示装置等,具有可以省略背光灯等光源的内置而容易使液晶显示装置薄型化等优点。反射型偏振片的形成,根据需要可以通过借助透明保护层等在偏振片的一面上设置由金属等构成的反射层的方式等适宜方式进行。
作为反射型偏振片的具体例子,可以举例为根据需要通过在经消光处理的透明保护薄膜的一面上,附设由铝等反射性金属组成的箔或蒸镀膜而形成了反射层的偏振片等。
作为代替将反射板直接附设在上述偏振片的透明保护薄膜上的方法,还可以在以该透明薄膜为基准的适当的薄膜上设置反射层形成反射片等使用。还有,由于反射层通常由金属组成,所以从防止由于氧化而造成的反射率的下降,进而长期保持初始反射率的观点和避免另设保护层的观点等来看,优选用透明保护薄膜或偏振片等覆盖其反射面的使用形式。
还有,在上述中,半透过型偏振片可以通过作成用反射层来反射光的同时使光透过的半透半反镜等半透过型的反射层而获得。半透过型偏振片通常被设于液晶单元的背面侧,可以形成如下类型的液晶显示装置等,即,在比较明亮的环境中使用液晶显示装置等的情况下,反射来自于辨识侧(显示侧)的入射光而显示图像,在比较暗的环境中,使用内置于半透过型偏振片的背面的背光灯等内置光源来显示图像。也就是说,半透过型偏振片在如下类型的液晶显示装置等的形成中十分有用,即,在明亮的环境下可以节约使用背光灯等光源的能量,在比较暗的环境下也可以利用内置光源而使用的类型的液晶显示装置等的形成中非常有用。
下面对偏振片上进一步层叠相位差板而构成的椭圆偏振片或圆偏振片进行说明。在将直线偏振光改变为椭圆偏振光或圆偏振光、将椭圆偏振光或圆偏振光改变为直线偏振光、或者改变直线偏振光的偏振方向的情况下,可以使用相位差板等。特别是,作为将直线偏振光改变为圆偏振光、将圆偏振光改变为直线偏振光的相位差板,可以使用所谓的1/4波阻片(也称为λ/4板)。1/2波阻片(也称为λ/2板)通常用于改变直线偏振光的偏振方向的情形。
椭圆偏振片可以有效地用于以下情形等,即补偿(防止)超扭曲向列相(STN)型液晶显示装置因液晶层的双折射而产生的着色(蓝或黄),从而进行上述没有着色的白黑显示的情形。另外,控制三维折射率的偏振片还可以补偿(防止)从斜向观察液晶显示装置的画面时产生的着色,因而优选。圆偏振光片可以有效地用于例如对以彩色显示图像的反射型液晶显示装置的图像的色调进行调整的情形等,而且还具有防止反射的功能。作为上述相位差板的具体例子,可以举出用薄膜支撑对由聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其它聚烯烃,多芳基化物、聚酰胺之类的适当的聚合物构成的薄膜进行拉伸处理而成的双折射性薄膜或液晶聚合物的取向薄膜、液晶聚合物的取向层而成的构件等。相位差板可以是例如各种波阻片或用于补偿由液晶层的双折射造成的着色或视角等的材料等具有对应于使用目的的适宜的相位差的材料,也可以是层叠2种以上的相位差板而控制了相位差等光学特性的材料。
另外,上述的椭圆偏振片或反射型椭圆偏振片是通过适当地组合偏振片或反射型偏振片和相位差板并进行层叠而成的。这类椭圆偏振片等也可以通过在液晶显示装置的制造过程中依次分别层叠(反射型)偏振片和相位差板来形成,以构成(反射型)偏振片和相位差板的组合,而如上所述,预先形成为椭圆偏振片等光学薄膜的情况下,由于在质量的稳定性和层叠操作性等方面出色,因此具有可以提高液晶显示装置等的制造效率的优点。
视角补偿薄膜是在从不垂直于画面的稍微倾斜的方向观察液晶显示装置的画面的情况下也可使图像看起来比较清晰的、用于扩大视角的薄膜。作为这种视角补偿薄膜,例如可以由相位差薄膜、液晶聚合物等的取向薄膜或在透明基材上支撑液晶聚合物等的取向层的材料等构成。通常作为相位差板使用的是沿其面方向被实施了单向拉伸的、具有双折射的聚合物薄膜,与此相对,作为被用作视角补偿薄膜的相位差板,可以使用沿其面方向被实施了双向拉伸的具有双折射的聚合物薄膜、沿其面方向被单向拉伸并且沿其厚度方向也被拉伸了的可控制厚度方向的折射率的具有双折射的聚合物或像倾斜取向膜等那样的双向拉伸薄膜等。作为倾斜取向膜,例如可以举出在聚合物薄膜上粘接热收缩膜后在因加热形成的收缩力的作用下对聚合物薄膜进行了拉伸处理或/和收缩处理的材料、使液晶聚合物倾斜取向而成的材料等。作为相位差板的原材料聚合物,可以使用与上述的相位差板中说明的聚合物相同的聚合物,可以使用以防止基于由液晶单元造成的相位差而形成的辨识角的变化所带来的着色等或扩大辨识度良好的视角等为目的的适宜的聚合物。
另外,从达到辨识性良好的宽视角的观点等来看,可以优选使用用三乙酰纤维素薄膜支撑由液晶聚合物的取向层、特别是圆盘状液晶聚合物的倾斜取向层构成的光学各向异性层的光学补偿相位差板。
将偏振片和亮度改善薄膜贴合在一起而成的偏振片通常被设于液晶单元的背面一侧。亮度改善薄膜是显示如下特性的薄膜,即,当由液晶显示装置等的背光灯或来自背面侧的反射等,有自然光入射时,反射规定偏振轴的直线偏振光或规定方向的圆偏振光,而使其他光透过,因此将亮度改善薄膜与偏振片层叠而成的偏振片可使来自背光灯等光源的光入射,而获得规定偏振状态的透过光,同时,所述规定偏振状态以外的光不能透过,被予以反射。借助设于其后侧的反射层等再次反转在该亮度改善薄膜面上反射的光,使之再次入射到亮度改善薄膜上,使其一部分或全部作为规定偏振状态的光而透过,从而增加透过亮度改善薄膜的光,同时向偏振镜提供难以吸收的偏振光,从而增加可以在液晶显示图像的显示等中利用的光量,并由此可以提高亮度。即,在不使用亮度改善薄膜而用背光灯等从液晶单元的背面侧穿过偏振镜而使光入射的情况下,具有与偏振镜的偏振轴不一致的偏振方向的光基本上被偏振镜所吸收,因而无法透过偏振镜。即,虽然会因所使用的偏振镜的特性而有所不同,但是大约50%的光会被偏振镜吸收掉,因此在液晶显示装置等中可以利用的光量将相应地减少,导致图像变暗。由于亮度改善薄膜反复进行如下操作,即,使具有可以被偏振镜吸收的偏振方向的光不入射到偏振镜上,而是使该类光在亮度改善薄膜上发生反射,进而借助设于其后侧的反射层等完成反转,使光再次入射到亮度改善薄膜上,这样,亮度改善薄膜只使在这两者间反射并反转的光中的、其偏振方向变为可以通过偏振镜的偏振方向的偏振光透过,同时将其提供给偏振镜,因此可以在液晶显示装置的图像的显示中有效地使用背光灯等的光,从而可以使画面明亮。
在亮度改善薄膜和上述反射层等之间也可以设置扩散板。由亮度改善薄膜反射的偏振状态的光朝向所述反射层等,所设置的扩散板可将通过的光均匀地扩散,同时消除偏振状态而成为非偏振状态。即,扩散板使偏振光恢复到原来的自然光状态。将该非偏振状态即自然光状态的光射向反射层等,借助反射层等反射后,再次通过扩散板而又入射到亮度改善薄膜上,如此反复进行。由此通过在亮度改善薄膜和上述反射层等之间设置使偏振光恢复到原来的自然光状态的扩散板,可以在维持显示画面的亮度的同时,减少显示画面的亮度的不均,从而可以提供均匀并且明亮的画面。通过设置该扩散板,可适当增加初次入射光的重复反射次数,并利用扩散板的扩散功能,可以提供均匀的明亮的显示画面。
作为上述亮度改善薄膜,例如可以使用:电介质的多层薄膜或折射率各向异性不同的薄膜多层层叠体之类的显示出使规定偏振轴的直线偏振光透过而反射其他光的特性的薄膜、胆甾醇型液晶聚合物的取向膜或在薄膜基材上支撑了该取向液晶层的薄膜之类的显示出将左旋或右旋中的任一种圆偏振光反射而使其他光透过的特性的薄膜等适宜的薄膜。
因此,通过利用使上述的规定偏振轴的直线偏振光透过的类型的亮度改善薄膜,使该透过光直接沿着与偏振轴一致的方向入射到偏振片上,可以在抑制由偏振片造成的吸收损失的同时,使光有效地透过。另一方面,利用胆甾醇型液晶层之类的使圆偏振光透过的类型的亮度改善薄膜,虽然也可以直接使光入射到偏振镜上,但是,从抑制吸收损失这一点考虑,最好借助相位差板对该圆偏振光进行直线偏振光化,之后再入射到偏振片上。而且,通过使用1/4波阻片作为该相位差板,可以将圆偏振光变换为直线偏振光。
在可见光区域等较宽波长范围中能起到1/4波阻片作用的相位差板,例如可以利用以下方式获得,即,将相对于550nm波长的浅色光能起到1/4波阻片作用的相位差层和显示其他的相位差特性的相位差层例如能起到1/2波阻片作用的相位差层进行重叠的方式等。所以,配置于偏振片和亮度改善薄膜之间的相位差板可以由1层或2层以上的相位差层构成。
还有,就胆甾醇型液晶层而言,也可以组合不同反射波长的材料,构成重叠2层或3层以上的配置结构,由此获得在可见光区域等较宽的波长范围内反射圆偏振光的构件,从而可以基于此而获得较宽波长范围的透过圆偏振光。
另外,偏振片如同上述的偏振光分离型偏振片,可以由层叠了偏振片和2层或3层以上的光学层的构件构成。因此,也可以是组合上述反射型偏振片或半透过型偏振片和相位差板而成的反射型椭圆偏振片或半透过型椭圆偏振片等。
硬涂薄膜在上述光学元件上的层叠可以利用在液晶显示装置等的制造过程中依次独立层叠的方式来进行,但是预先对它们进行层叠而成的构件,在质量的稳定性或组装操作等方面优良,因此具有可改善液晶显示装置等的制造工序的优点。在层叠中可以使用粘合层等适宜的粘接机构。在粘接上述偏振片或其他光学薄膜时,它们的光学轴可以根据目标相位差特性等而采用适宜的配置角度。
在上述偏振片或光学构件的至少一面上设有上述硬涂薄膜,但是在没有设置硬涂薄膜的面上也可以设置用于与液晶单元等其它构件粘接的粘合层。对形成粘合层的粘合剂没有特别限制,例如可以适当选择使用将丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨基甲酸酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡胶系等聚合物作为基础聚合物的粘合剂。特别是可以优选使用丙烯酸系粘合剂之类的光学透明性出色的,显示适度的润湿性和凝聚性、胶粘性的粘合特性的且耐气候性或耐热性等出色的粘合剂。
另外,除了上述之外,从防止因吸湿造成的发泡现象或剥离现象、因热膨胀差等引起的光学特性的下降或液晶单元的翘曲、并且以高品质形成耐久性优良的液晶显示装置等观点来看,优选吸湿率低且耐热性优良的粘合层。
粘合层中可以含有例如天然或合成树脂类、特别是增粘性树脂或由玻璃纤维、玻璃珠、金属粉、其它的无机粉末等构成的填充剂、颜料、着色剂、抗氧化剂等可添加于粘合层中的添加剂。另外也可以是含有微粒并显示光扩散性的粘合层等。
在偏振片、光学元件上附设粘合层时可以利用适宜的方式进行。作为该例,例如可以举出以下方式,即调制在由甲苯或乙酸乙酯等适宜溶剂的纯物质或混合物构成的溶剂中溶解或分散基础聚合物或其组合物而成的约10~40重量%的粘合剂溶液,然后通过流延方式或涂敷方式等适宜铺展方式直接将其附设在光学元件上的方式;或者基于上述在隔离件上形成粘合层后将其移送并粘贴在光学元件上的方式等。粘合层也可以作为不同组成或种类等的各层的重叠层而设置。粘合层的厚度可以根据使用目的或胶粘力等而适当确定,一般为1~500μm,优选5~200μm,特别优选10~100μm。
对于粘合层的露出面,在供于使用前为了防止其污染等,可以临时粘贴隔离件覆盖。由此可以防止在通常的操作状态下与粘合层接触的现象。作为隔离件,在满足上述的厚度条件的基础上,例如可以使用根据需要用硅酮系或长链烷基系、氟系或硫化钼等适宜剥离剂对塑料薄膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网状物、发泡片材或金属箔、它们的层叠体等适宜的薄片体进行涂敷处理后的材料等以往常用的适宜的隔离件。
还有,在本发明中,也可以在形成上述的光学元件的偏振镜、透明保护薄膜、光学薄膜等以及粘合层等各层上,利用例如用水杨酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式等,使之具有紫外线吸收能力等。
本发明的光学元件能够优选用于液晶显示装置等各种装置的形成等。液晶显示装置可以根据以往的方法形成。即,一般来说,液晶显示装置可以通过适宜地组合液晶单元和光学元件,以及根据需要而加入的照明系统等构成部件并装入驱动电路等而形成,在本发明中,除了使用本发明的光学元件之外,没有特别限定,可以依据以往的方法形成。对于液晶单元而言,也可以使用例如TN型或STN型、π型等任意类型的液晶单元。
可以形成在液晶单元的一侧或两侧配置了上述光学元件的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的装置等适宜的液晶显示装置。此时,本发明的光学元件可以设置在液晶单元的一侧或两侧上。当将光学元件设置在两侧时,它们既可以是相同的材料,也可以是不同的材料。另外,在形成液晶显示装置时,可以在适宜的位置上配置例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列薄片、光扩散板、背光灯等适宜的部件1层或2层以上。
接着,对有机电致发光装置(有机EL显示装置)进行说明。一般来说,有机EL显示装置中在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层和金属电极而形成发光体(有机电致发光体)。这里,有机发光层是各种有机薄膜的层叠体,已知有:例如由三苯基胺衍生物等构成的空穴注入层和由蒽等荧光性的有机固体构成的发光层的层叠体、或此种发光层和由二萘嵌苯衍生物等构成的电子注入层的层叠体、或者这些空穴注入层、发光层及电子注入层的层叠体等各种组合。
有机EL显示装置根据如下的原理进行发光,即,通过在透明电极和金属电极上加上电压,向有机发光层中注入空穴和电子,由这些空穴和电子的复合而产生的能量激发荧光物质,被激发的荧光物质回到基态时,就会放射出光。其中的复合机理与一般的二极管相同,由此也可以推测出,电流和发光强度相对于外加电压显示出伴随整流性的较强的非线性。
在有机EL显示装置中,为了取出有机发光层中产生的光,至少一方的电极必须是透明的,通常将由氧化铟锡(ITO)等透明导电体制成的透明电极作为阳极使用。另一方面,若要使电子的注入容易从而提高发光效率,在阴极上使用功函数较小的物质是十分重要的,通常使用Mg-Ag、Al-Li等金属电极。
在具有这种构成的有机EL显示装置中,有机发光层由厚度为10nm左右的极薄的膜构成。因此,有机发光层也与透明电极一样,使光基本上完全地透过。其结果,在不发光时从透明基板的表面入射并透过透明电极和有机发光层而在金属电极反射的光会再次向透明基板的表面侧射出,因此,当从外部进行辨识时,有机EL装置的显示面如同镜面。
在包含如下所述的有机电致发光体的有机EL显示装置中,可以在透明电极的表面侧设置偏振片,同时在这些透明电极和偏振片之间设置相位差板,在上述有机电致发光体中,在通过施加电压而进行发光的有机发光层的表面侧设有透明电极,同时在有机发光层的背面侧设有金属电极。
由于相位差板以及偏振片具有使从外部入射并在金属电极反射的光成为偏振光的作用,因此由该偏振光作用,具有使得从外部无法辨识出金属电极的镜面的效果。特别是,采用1/4波阻片构成相位差板并且将偏振片和相位差板的偏振方向的夹角调整为π/4时,可以完全遮蔽金属电极的镜面。
即,入射到该有机EL显示装置的外部光因偏振片的存在而只有直线偏振光成分透过。该直线偏振光一般会被相位差板转换成椭圆偏振光,而特别是当相位差板为1/4波阻片并且偏振片和相位差板的偏振方向的夹角为π/4时,就会成为圆偏振光。
该圆偏振光透过透明基板、透明电极、有机薄膜,在金属电极上反射,之后再次透过有机薄膜、透明电极、透明基板,由相位差板再次转换成直线偏振光。接着,由于该直线偏振光与偏振片的偏振光方向正交,因此无法透过偏振片。其结果可以完全遮蔽金属电极的镜面。
上面对本发明的实施方式的一部分进行了说明,但有时也赋予流平剂等,对本发明没有不良影响并能发挥本发明的效果。另外,同样的技术也可以用于更广泛的用途中,例如不仅可以对一面进行处理,还可以进行两面的处理等,当然不限于不限于上述。
下面,对具体表示本发明的构成和效果的实施例等进行说明。还有,当然本发明并不限于这些实施例、评价方法。
(1)被膜薄片的实施例
使用照相凹版涂料机,在75μm的PET薄膜上涂布固体成分为30重量%且粘度为5mPa·s的甲苯溶剂系丙烯酸氨基甲酸酯涂敷液,并使湿厚度为12μm,然后实施下述工序。这里,粘度是以电流计:RS-1(Heake公司制)测量的值为基准,风速是以クリモマスタ一:Model 6531(KANOMAX公司制)测量的值为基准。
<实施例1>
刚刚涂敷后的涂膜在固体成分浓度为43重量%、粘度为15mPa·s的状态下,利用送风嘴将25℃±2℃的风设置成相对于基材薄膜的角度为5°,设置以风速15m/s、薄膜宽幅方向的偏差为±3m/s进行3秒钟喷射的工序。然后,在烤箱中进行充分干燥而形成涂膜。
<比较例1>
除了在固体成分浓度为58重量%、粘度为47mPa·s的涂膜状态下喷射干燥风以外,用与实施例1完全相同的工序形成涂膜。
<比较例2>
除了在风速为25±8m/min的薄膜宽幅方向偏差分布状态下喷射干燥风以外,用与实施例1完全相同的工序形成涂膜。
<比较例3>
除了喷射温度为48±5℃的干燥风以外,用与实施例1完全相同的工序形成涂膜。
(2)关于液晶材料的实施例
在厚50μm的三乙酰纤维素(TAC)薄膜(富士胶片公司制,商品名T-50SH)上涂布并干燥1重量%的聚乙烯醇(PVA)(日本合成化学公司制,商品名NH-18)水溶液,形成0.01μm的PVA被膜,进行摩擦处理后形成取向膜。混合上述(A)式(6)的液晶单体(聚合物棒状向列相型液晶)与上述式(44)的手性剂并使其重量比为8∶1,将该混合物溶解于甲苯中并其浓度为30重量%,在该甲苯溶液中进一步加入光聚合引发剂(Chiba Specialty Chemicals公司制,商品名Irgacure)并使其浓度为3重量%,调制涂敷液(粘度4mPa·s)。在上述取向膜上涂布上述涂敷液,用以下方法实施干燥、取向、UV固化,比较得到的光学补偿层的外观不均。
<实施例2>
在上述液晶单体溶液涂膜的固体成分浓度为36重量%、粘度为12mPa·s的涂膜状态下,利用送风嘴将25℃±2℃的风设置成相对于基材薄膜的角度为5°,设置以风速13m/s、薄膜宽幅方向的偏差为±3m/s进行5秒钟喷射的工序。然后,在90℃下热处理2分钟,照射UV200mJ/cm2来形成涂膜。
<比较例4>
除了在涂膜状态下并在固体成分浓度为63重量%、粘度为38mPa·s的状态喷射干燥风以外,用与实施例2完全相同的工序形成涂膜。
<比较例5>
除了喷射风速为23±10m/min的薄膜宽幅方向偏差分布的干燥风以外,用与实施例2完全相同的工序形成涂膜。
<比较例6>
除了喷射温度50±5℃的干燥风以外,用与实施例2完全相同的工序形成涂膜。
<评价结果>
用目视评价厚度不均导致产生的干涉不均或者在交叉尼科耳棱镜下从斜向光脱落状态的不均匀。将其结果显示于表1。
表1
目视评价 | |
实施例1 | 均一性好,外观良好 |
比较例1 | 产生大的斑状不均匀 |
比较例2 | MD方向上产生线状的不均匀 |
比较例3 | MD方向上产生细线状的强不均匀 |
实施例2 | 均一性良好 |
比较例4 | 产生斑状波纹不均匀 |
比较例5 | MD方向上产生线不均匀 |
比较例6 | MD方向上产生线不均匀 |
工业应用性
如上所述,通过本发明,在包括将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在基材薄膜上形成涂敷膜的工序、和使涂敷液干燥的工序的被膜薄片的制造方法中,通过努力研究干燥工序中的各种条件,可以形成最适合的涂敷层,可以得到面内的涂敷厚度不均匀少的均一的光学功能层。
具体地说,在上述涂敷液的固体成分浓度和粘度具有规定状态的涂膜表面上,沿着薄膜的行走方向喷射干燥风,由此即使在大面积的区域中,也可以使涂膜层的厚度精度提高,实现光学功能特性在面内的均一化。
另外,通过使上述喷射的干燥风的风速和风速的偏差在规定的范围内,可以更有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
进而,通过使上述喷射的干燥风的温度和温度偏差在规定的范围内,可以确保更适当的溶剂蒸发速度,可以更有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
另外,除了如上所述的干燥风的喷射条件以外,通过限制涂膜层的厚度,可以进一步有效地提高涂膜层的厚度精度,使光学功能特性均一化。
如上所述的被膜薄片的制造方法,在大面积的区域中且在要求涂膜厚度的精度并要求光学功能特性在面内的均一性的光学功能层、光学补偿层、光学补偿板、进而是在具有这样的光学功能层或光学补偿板的光学元件中,作为具有出色的特性的光学材料非常有用。
另外,对于在上述光学功能层为光学补偿层时或者为该光学补偿层的构成分子采取胆甾醇型结构并发生取向的胆甾醇型层时得到的光学补偿板而言,涂膜厚度的精度高且光学功能特性在面内的均一性出色,本发明特别有效。
在这里,通过使上述胆甾醇型层的厚度在0.5~10μm的范围,作为光学补偿层可以防止取向的紊乱或透射率降低,可以实现选择反射性、防着色、生产率的提高等。
另外,上述胆甾醇型层的构成分子为非液晶聚合物,在作为对该非液晶聚合物采取胆甾醇型结构并发生取向的液晶单体进行聚合或交联而成的聚合物的光学补偿板中,由于聚合或交联而成的聚合物成为非液晶性,所以已形成的胆甾醇型层不会出现在液晶分子中特有的由温度变化导致的向液晶相、玻璃相、结晶相的变化等,可以说是其胆甾醇型结构不会受到温度变化的影响、稳定性极为出色且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。
或者,上述胆甾醇型层的构成分子为液晶聚合物,在该液晶聚合物采取胆甾醇型结构并发生取向的光学补偿板中,构成分子即使为液晶聚合物,也可以通过配合胆甾醇型液晶性单体或手性剂而与上述一样地形成温度变化小的胆甾醇型层,可以成为稳定性极为出色且光学功能特性在面内的均一性出色的光学补偿板。
另外,通过在如上所述的稳定性极为出色的光学补偿板上层叠至少一层偏振片,可以作为具有出色的光学功能特性的光学元件。
另外,对于已搭载这些光学构件的图像显示装置而言,没有图像的不均或变形的图像显示装置成为可能,所以特别有效。
Claims (16)
1.一种被膜薄片的制造方法,其特征在于,包括:将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷于基材薄膜上形成涂膜层的工序、和干燥被涂敷液的工序,其中,
沿着薄膜的行走方向将干燥风喷射向具有所述涂敷液的固体成分浓度为55重量%以下且粘度为20mPa·s以下的状态的涂膜层表面。
2.一种被膜薄片的制造方法,其特征在于,包括:
将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷于基材薄膜上形成具有固体成分浓度为55重量%以下且粘度为20mPa·s以下的状态的涂膜层的工序;
沿着所述基材薄膜的行走方向,向所述涂膜层喷射干燥风的工序;和使所述涂膜层干燥的工序。
3.根据权利要求1或者2所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,所述喷射的干燥风的风速为4~20m/sec,在薄膜宽幅方向的风速偏差为±30%以下。
4.根据权利要求1~3中任意一项所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
所述喷射的干燥风的温度为20~45℃,薄膜宽幅方向中的温度偏差为±15%以下。
5.根据权利要求1~4中任意一项所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
所述涂膜层的干燥后的厚度为30μm以下。
6.根据权利要求1~5中任意一项所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
通过在所述涂敷液中使用表现光学功能的材料,形成作为光学功能层的所述涂膜层。
7.根据权利要求6所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
通过使用表现光学补偿功能的材料作为所述表现光学功能的材料,形成作为光学补偿层的所述涂膜层。
8.根据权利要求7所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
作为所述光学补偿层,形成构成分子采取胆甾醇型结构并发生取向的胆甾醇型层。
9.根据权利要求7或者8所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
使用液晶单体作为所述表现光学补偿功能的材料,在所述干燥工序后,对所述涂膜层进行聚合处理或交联处理,由此
形成将聚合或交联所述液晶单体而成的非液晶聚合物作为构成分子的胆甾醇型层。
10.根据权利要求7或者8所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
通过使用液晶单体或液晶聚合物作为所述表现光学补偿功能的材料,形成将采取胆甾醇型结构并发生取向的液晶聚合物作为构成分子的胆甾醇型层。
11.根据权利要求8~10中任意一项所述的被膜薄片的制造方法,其特征在于,
所述胆甾醇型层的厚度在0.5~10μm的范围。
12.利用权利要求6~11中任意一项所述的制造方法得到的光学功能层。
13.利用权利要求7~11中任意一项所述的制造方法得到的光学补偿板。
14.一种光学元件,其特征在于,
具备权利要求12所述的光学功能层。
15.一种光学元件,其特征在于,
在权利要求13所述的光学补偿板上层叠有至少一层偏振片。
16.一种图像显示装置,其中,
搭载了权利要求12所述的光学功能层、权利要求13所述的光学补偿板、或者权利要求14或15所述的光学元件中的任意一个。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP195002/2003 | 2003-07-10 | ||
JP2003195002A JP3839798B2 (ja) | 2002-10-22 | 2003-07-10 | 被膜シートの製造方法、光学機能層、光学補償板、光学素子および画像表示装置 |
PCT/JP2004/003744 WO2005005061A1 (ja) | 2003-07-10 | 2004-03-19 | 被膜シートの製造方法、光学機能層、光学補償板、光学素子および画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1795054A true CN1795054A (zh) | 2006-06-28 |
CN1795054B CN1795054B (zh) | 2010-12-15 |
Family
ID=34055708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2004800143989A Expired - Fee Related CN1795054B (zh) | 2003-07-10 | 2004-03-19 | 被膜薄片的制造方法、光学功能层、光学补偿板、光学元件和图像显示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7820235B2 (zh) |
KR (1) | KR100725441B1 (zh) |
CN (1) | CN1795054B (zh) |
TW (1) | TWI290240B (zh) |
WO (1) | WO2005005061A1 (zh) |
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CN111604247A (zh) * | 2020-05-13 | 2020-09-01 | 武汉钢铁有限公司 | 一种高精度彩涂板膜厚生产控制方法 |
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- 2004-03-19 KR KR1020057020636A patent/KR100725441B1/ko active IP Right Grant
- 2004-03-19 WO PCT/JP2004/003744 patent/WO2005005061A1/ja active Application Filing
- 2004-03-19 CN CN2004800143989A patent/CN1795054B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-23 TW TW093107776A patent/TWI290240B/zh not_active IP Right Cessation
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TW200502594A (en) | 2005-01-16 |
KR100725441B1 (ko) | 2007-06-07 |
KR20060005409A (ko) | 2006-01-17 |
US20060158076A1 (en) | 2006-07-20 |
TWI290240B (en) | 2007-11-21 |
WO2005005061A1 (ja) | 2005-01-20 |
CN1795054B (zh) | 2010-12-15 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20101215 |
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