CN1793438A - 镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 - Google Patents
镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1793438A CN1793438A CN 200510032436 CN200510032436A CN1793438A CN 1793438 A CN1793438 A CN 1793438A CN 200510032436 CN200510032436 CN 200510032436 CN 200510032436 A CN200510032436 A CN 200510032436A CN 1793438 A CN1793438 A CN 1793438A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sodium
- anodic oxidation
- arc
- magnesium alloy
- electrolyte
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 title 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 40
- -1 oxo acid salt Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 5
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 30
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 25
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 24
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 22
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- VIQSRHWJEKERKR-UHFFFAOYSA-L disodium;terephthalate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 VIQSRHWJEKERKR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims description 3
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims description 3
- 235000019830 sodium polyphosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical group [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical group [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000388 diammonium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000019838 diammonium phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NCXUIEDQTCQZRK-UHFFFAOYSA-L disodium;decanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O NCXUIEDQTCQZRK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 claims description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 claims description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 claims description 2
- WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M sodium benzoate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 WXMKPNITSTVMEF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000004299 sodium benzoate Substances 0.000 claims description 2
- 235000010234 sodium benzoate Nutrition 0.000 claims description 2
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- NVIFVTYDZMXWGX-UHFFFAOYSA-N sodium metaborate Chemical compound [Na+].[O-]B=O NVIFVTYDZMXWGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N sodium metavanadate Chemical compound [Na+].[O-][V](=O)=O CMZUMMUJMWNLFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011684 sodium molybdate Substances 0.000 claims description 2
- 235000015393 sodium molybdate Nutrition 0.000 claims description 2
- TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N sodium molybdate (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O TVXXNOYZHKPKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JXKPEJDQGNYQSM-UHFFFAOYSA-M sodium propionate Chemical compound [Na+].CCC([O-])=O JXKPEJDQGNYQSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000004324 sodium propionate Substances 0.000 claims description 2
- 235000010334 sodium propionate Nutrition 0.000 claims description 2
- 229960003212 sodium propionate Drugs 0.000 claims description 2
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 claims description 2
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 claims description 2
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 claims description 2
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 9
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 8
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract description 3
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 abstract description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 abstract description 2
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 abstract 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 5
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000007745 plasma electrolytic oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000002468 ceramisation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- KPPLIMDJGPOMAL-UHFFFAOYSA-K dipotassium;sodium;phosphate Chemical compound [Na+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O KPPLIMDJGPOMAL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WMLUOUMMEHZMBT-UHFFFAOYSA-L disodium acetate fluoride Chemical compound C(C)(=O)[O-].[Na+].[F-].[Na+] WMLUOUMMEHZMBT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DAKOBUIKDCTJEB-UHFFFAOYSA-L disodium;propanoate Chemical compound [Na+].[Na+].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O DAKOBUIKDCTJEB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- BQEMBSGHYBWCPK-UHFFFAOYSA-N ethanamine;ethene Chemical group C=C.C=C.CCN BQEMBSGHYBWCPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000002973 irritant agent Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- KYKFCSHPTAVNJD-UHFFFAOYSA-L sodium adipate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)CCCCC([O-])=O KYKFCSHPTAVNJD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001601 sodium adipate Substances 0.000 description 1
- 235000011049 sodium adipate Nutrition 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
本发明涉及一种镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法,阳极氧化电解液以水为溶剂,其组分为:75~150g/L有机胺,6~12g/L无机含磷、硼化合物,1~4g/L有机羧酸盐,2~5g/L氟化物,4~10g/L金属含氧酸盐。该阳极氧化方法具有在较高的氧化电压和较高的氧化峰电流参数下不使镁合金阳极表面产生火花放电的显著特征,且该电解工艺具有溶液毒性低,成膜速度快,工艺操作简单、安全,能耗低等优点。由此方法获得的阳极氧化膜光滑致密,硬度较高,能显著提高镁及镁合金的耐蚀性能。该膜层可单独作为镁合金的防护层,也可作为其它涂层基底。
Description
技术领域:
本发明涉及一种镁合金材料在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法。
技术背景:
镁合金材料由于其优异的物理、化学、机械性能以及比重轻、比强度和比刚度高、导热导电性能好等特点而在航天航空,电子,通讯,汽车制造等领域的应用不断得到发展。尤其是近十几年来随着汽车工业和电子工业的迅速发展,大量的镁合金零部件被用来代替塑料甚至钢铁零件。但镁的化学稳定性低,标准平衡电位很负(-2.34V),耐蚀性较差,制约了其发挥应有的优势,因此,增强镁的耐蚀性具有重要的现实意义。
由于镁合金材料的耐蚀性差,因此使用前必须对其进行表面处理才能满足使用环境的要求,在众多镁合金表面处理方法中,阳极氧化方法是性能与应用效果较好具有市场竞争力的重要方法之一,镁及其合金经电化学阳极氧化处理后,其表面可形成一层与金属基体结合力强、电绝缘性好,并具有良好的耐热冲击、耐磨损、耐腐蚀的表面转化膜。
传统的镁合金阳极氧化工艺只有在较高的电压和电流下才可能氧化成膜,当所施加的电压或电流大于一定值时,在被氧化的工件上就会产生火花放电或微电弧,因此人们又将阳极氧化称为微弧氧化或微等离子体氧化,实验测定在镁合金的微弧氧化中所产生的等离子体温度大约为7000℃,在该等离子体温度下,氧化物陶瓷是液态的,在靠近金属的一边,产生等离子体的时间足以让熔融的氧化物陶瓷产生适当的收缩,从而产生一种具有孔隙的烧结氧化物陶瓷层。在靠近电解质溶液的一边,熔融的氧化物陶瓷被电解质溶液迅速冷却。由于膜表面逸出的气体,尤其是氧气和水蒸汽,使形成的氧化物陶瓷层具有通过毛细管相连的网孔结构。
由于镁合金阳极氧化过程中大都伴随着强烈的火花或微电弧放电,温度过高,而且释放大量的热,给安全生产带来隐患,并且在商业生产中需要大型的冷却设备,提高了生产成本;同时,阳极火花或微电弧放电沉积形成的镁氧化膜往往粗糙多孔,影响材料的使用。
发明内容:
针对现有技术的不足,本发明的目的旨在提供了一种在较低能耗,快速成膜的状态下,使镁合金材料表面生成一层高硬度、高耐磨和高耐蚀性的氧化膜层的阳极氧化电解液。
本发明的另一目的旨在提供一种使用上述阳极氧化电解液,在抑弧放电状态下的镁合金阳极氧化方法。
本发明的目的是通过下述方式实现的:
本发明的电解液成分包括75~150g/L有机胺,6~12g/L无机含磷、硼化合物,1~4g/L有机羧酸盐,2~5g/L氟化物;其中所述电解质溶液均以水为溶剂。电解液成分还包括4~10g/L金属含氧酸盐。
有机胺为饱和脂肪胺、含有双键或三键的不饱和脂肪胺、醇胺中的两种,所述的有机胺碳原数为1~10。
所述的无机含磷、硼化合物为含磷或含硼元素的钾、钠或铵盐;可以为磷酸二氢铵,磷酸二氢钾,磷酸氢二铵,磷酸氢二钾,多聚磷酸钠,焦磷酸钠,四硼酸钠,偏硼酸钠中的一种或几种。
所述的有机羧酸盐可以为乙酸钠,丙酸钠,苯甲酸钠,癸二酸钠,己二酸钠,对苯二甲酸钠中的一种或几种。
所述的氟化物可以为氟化钾,氟化钠,氟化氢铵,氟硼酸钠,氟硅酸钠中的一种或几种。
所述的金属含氧酸盐可以为铝酸钠,钨酸钠,钼酸钠,偏钒酸钠中的一种或几种。
本发明的另一目的是通过下述方式实现的:
将镁合金材料作为阳极,置于复合电解液中,以不锈钢作为阴极,采用硅整流直流电源,控制电压在30秒内从0V升到所需电压80V~160V,并保持不变,直至结束,处理时间控制为5~15分钟。
阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度10~20A/dm2后,峰值电流维持5~15秒,迅速下降,最后达到2A/dm2,成膜结束;氧化始终在无弧光条件下进行;电源可采用硅整流直流电源,所述的电压可在80V~160V之间。
峰值电流密度10~20A/dm2,持续5~15秒;电解液温度可在10~80℃范围变化。当电流密度最终降为2A/dm2,则成膜结束。
控制阳极氧化过程始终处于无弧光条件下,采用硅整流直流电源,使镁合金材料表面快速生成一层高硬度、高耐磨和高耐蚀性的氧化膜层,其生产流程为:
脱脂→水洗→抑弧条件下电化学阳极氧化成膜→水洗→烘干。
本发明的阳极氧化电解液是发明人在多次反复试验的基础所得到的,在电解液中,有机胺与其它组分的有机组合可有效地抑制镁合金材料在阳极氧化过程中产生火花放电或微电弧,使镁合金的阳极氧化在相对平静的状态下进行;同时,有机胺还可以明显提高阳极氧化的成膜速度,提高膜层的致密性,降低孔隙率,使镁合金的氧化膜在宏观上表现为更加光洁。通过使用本发明的阳极氧化电解液及工艺与现有技术相比,具有如下优点:
1.本发明与等离子体增强电化学表面陶瓷化方法最大的区别就在于成膜过程中不会发生火花放电,生产安全,噪音小,且无刺激性气体挥发,适合安全生产规范,成膜所需电压较低,电流密度随着成膜的进行而下降,平均电流密度低,能耗少。
2.本发明电解液为采用自行研制的新型阳极化处理复合电解液,其氧化电解液浓度较低,毒性、腐蚀性小。
3.应用本发明涉及的镁合金材料抑弧状态下的阳极氧化工艺,可在镁合金表面形成外表美观的褐色或银灰色均匀光滑膜层,该膜层具有较高的硬度、良好的耐磨性和优良的耐蚀性,对金属基体有很好的防护性能。且该膜层具有多孔结构,能为进一步涂覆有机膜层如油漆、涂料等提供优良基底。
4.本发明阳极氧化工艺简单,电解液温度无需保持恒定,可在10~80℃范围内变化;阳极氧化时间可控制在5~15min内完成;膜层平均生成速度快,可达3~5μm/min;膜层厚度可在10~40μm间变化。
5.本发明的抑弧电化学阳极氧化成膜工艺方法,具有仪器设备投资少、生产工艺简单、一次成膜面积大、加工成本低等特点。所获膜层具有很好的装饰性能,一旦产品采用本技术作为其表面处理技术,将大大提高产品附加值,使产品具有更强的市场竞争能力。
具体实施方式:实施例1:
1原材料
AZ91D镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
脱脂→水洗→抑弧电化学阳极氧化成膜→水洗→烘干
3电解液组分
二甲胺乙醇胺磷酸钠癸二酸钠偏钒酸钠氟化钠 | 30g/L60g/L10g/L1.5g/L4g/L4g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到120伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度18A/dm2,并持续5秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
浅褐色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度23μm,硬度290HV。
实施例2:
1原材料
AZ91D镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
乙胺二乙烯三胺磷酸氢二钾钨酸钠乙酸钠氟化钠 | 50g/L50g/L8g/L6g/L1g/L5g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到100伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度15A/dm2,并持续10秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
银灰色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度35μm,硬度300HV。
实施例3:
1原材料
AZ91D镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
二甲胺乙醇胺磷酸钠钨酸钠丙酸钠氟硼酸钠 | 70g/L80g/L12g/L8g/L4g/L5g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到80伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度16A/dm2,并持续8秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
灰白色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度20μm,硬度265HV。
实施例4:
1原材料
AZ31镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
戊胺乙二胺焦磷酸钠对苯二甲酸钠氟硼酸化钠 | 35g/L45g/L6g/L2g/L4g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到150伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度20A/dm2,并持续5秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
褐色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度25μm,硬度310HV。
实施例5:
1原材料
AZ31镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
二甲胺乙二胺焦磷酸钠四硼酸钠己二酸钠氟硼酸化钠 | 50g/L45g/L6g/L4g/L1g/L2g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到120伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度18A/dm2,并持续5秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
褐色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度20μm,硬度300HV。
实施例6:
1原材料
MB2镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
三乙烯四胺三乙醇胺多聚磷酸钠癸二酸钠氟化钠氟硅酸钠 | 50g/L25g/L8g/L1.5g/L3g/L2g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到120伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度16A/dm2,并持续10秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
褐色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度20μm,硬度260HV。
实施例7:
1原材料
MB2镁合金材料(试样为直径30mm,高9mm的圆柱体。)
2工艺流程
与实施例1相同
3电解液组分
二甲胺乙二胺磷酸二氢钾铝酸钠氟硼酸钠 | 70g/L35g/L12g/L10g/L5g/L |
4抑弧电化学阳极氧化工艺
将镁合金材料置于电解槽中进行抑弧阳极氧化处理,控制阳极化电压在30s内由0伏上升到150伏,阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度20A/dml,并持续15秒,然后让成膜自动进行,直至成膜结束(操作过程中,当电流密度下降到2A/dm2左右时,则认为成膜过程结束)。时间为8min,溶液温度无需强制制冷,只需采用循环冷却水冷却使槽液不沸腾即可。
5膜层质量
灰白色、均匀、完整、光滑致密,膜层厚度30μm,硬度350HV。
Claims (8)
1.镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:电解液组分包括:75~150g/L有机胺,6~12g/L无机含磷、硼化合物,1~4g/L有机羧酸盐,2~5g/L氟化物;其中所述电解质溶液均以水为溶剂。
2、根据权利要求1所述的镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:电解液还包括4~10g/L金属含氧酸盐。
3、根据权利要求1所述的镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:有机胺为饱和脂肪胺、含有双键或三键的不饱和脂肪胺、醇胺中的两种,所述的有机胺碳原数为1~10。
4、根据权利要求1所述的一种镁合金材料在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:无机含磷、硼化合物为磷酸二氢铵,磷酸二氢钾,磷酸氢二铵,磷酸氢二钾,多聚磷酸钠,焦磷酸钠,四硼酸钠,偏硼酸钠中一种或几种。
5、根据权利要求1所述的一种镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:有机羧酸盐为乙酸钠,丙酸钠,苯甲酸钠,癸二酸钠,己二酸钠,对苯二甲酸钠中的一种或几种;氟化物为氟化钾,氟化钠,氟化氢铵,氟硼酸钠,氟硅酸钠中的一种或几种。
6、根据权利要求2所述的一种镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液,其特征在于:金属含氧酸盐为铝酸钠,钨酸钠,钼酸钠,偏钒酸钠中的一种或几种。
7、用权利要求1-6所述的任一项镁合金的阳极氧化电解液在抑弧状态下的阳极氧化方法,其特征在于:将镁合金材料作为阳极,不锈钢作为阴极,采用硅整流直流电源,控制电压在30秒内从0V升到所需电压80V~160V,并保持不变,处理时间控制为5~15分钟。
8.根据权利要求7所述的镁合金在抑弧状态下的阳极氧化方法,其特征在于:其特征在于:阳极氧化电流随电压升高而增大,达到峰值电流密度10~20A/dm2后,峰值电流维持5~15秒,迅速下降,并降低至2A/dm2,至成膜结束,其中所述电解液温度可控制在10~80℃范围。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB200510032436XA CN100425740C (zh) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | 镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB200510032436XA CN100425740C (zh) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | 镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1793438A true CN1793438A (zh) | 2006-06-28 |
CN100425740C CN100425740C (zh) | 2008-10-15 |
Family
ID=36805085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB200510032436XA Expired - Fee Related CN100425740C (zh) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | 镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100425740C (zh) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101974711A (zh) * | 2010-09-28 | 2011-02-16 | 蔡乐勤 | 一种耐磨耐蚀铝镁合金材料及其制备方法 |
CN102199785A (zh) * | 2011-06-29 | 2011-09-28 | 上海理工大学 | 一种钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液及其应用 |
CN102428213A (zh) * | 2009-04-22 | 2012-04-25 | 汉阳大学校产学协力团 | 金属的表面处理方法 |
CN102828218A (zh) * | 2012-09-14 | 2012-12-19 | 戚威臣 | 镁合金阳极氧化处理用电解液及处理方法 |
CN103938253A (zh) * | 2013-01-23 | 2014-07-23 | 汉达精密电子(昆山)有限公司 | 镁合金阳极氧化电解液及其对镁合金处理的方法 |
CN104630866A (zh) * | 2015-02-15 | 2015-05-20 | 电子科技大学 | 一种口腔用镍铬合金表面遮色瓷的制备方法 |
WO2015161636A1 (zh) * | 2014-04-25 | 2015-10-29 | 华为技术有限公司 | 防腐镁合金通讯设备及其制备方法 |
CN105714354A (zh) * | 2016-03-21 | 2016-06-29 | 南京工程学院 | 一种用于制备n掺杂微弧氧化陶瓷层的电解液 |
CN107090590A (zh) * | 2017-04-24 | 2017-08-25 | 南京邮电大学 | 一种基于缓蚀剂的铝合金阳极氧化电解液及氧化工艺 |
WO2018126094A1 (en) * | 2017-01-01 | 2018-07-05 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Dark colored electroceramic coatings for magnesium |
CN108327167A (zh) * | 2018-03-07 | 2018-07-27 | 广州凯腾新材料科技有限公司 | 金属和塑胶结合的方法 |
CN111118570A (zh) * | 2018-10-31 | 2020-05-08 | 华孚精密科技(马鞍山)有限公司 | 压铸铝合金微弧氧化电解液、方法及其产品 |
CN111162245A (zh) * | 2018-11-08 | 2020-05-15 | 四川理工学院 | 一种镁空气电池负极表面改性方法及电解液 |
CN111172577A (zh) * | 2020-01-29 | 2020-05-19 | 桂林理工大学 | 一种镁合金表面低孔隙率微弧氧化膜的制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100195A (ja) * | 1986-05-30 | 1988-05-02 | Ube Ind Ltd | マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液 |
US4744872A (en) * | 1986-05-30 | 1988-05-17 | Ube Industries, Ltd. | Anodizing solution for anodic oxidation of magnesium or its alloys |
JP2001295094A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Ube Ind Ltd | マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液調整法 |
-
2005
- 2005-11-25 CN CNB200510032436XA patent/CN100425740C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102428213A (zh) * | 2009-04-22 | 2012-04-25 | 汉阳大学校产学协力团 | 金属的表面处理方法 |
CN101974711B (zh) * | 2010-09-28 | 2012-10-31 | 蔡乐勤 | 一种耐磨耐蚀铝镁合金材料的制备方法 |
CN101974711A (zh) * | 2010-09-28 | 2011-02-16 | 蔡乐勤 | 一种耐磨耐蚀铝镁合金材料及其制备方法 |
CN102199785A (zh) * | 2011-06-29 | 2011-09-28 | 上海理工大学 | 一种钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液及其应用 |
CN102199785B (zh) * | 2011-06-29 | 2012-12-12 | 上海理工大学 | 一种钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液及其应用 |
CN102828218A (zh) * | 2012-09-14 | 2012-12-19 | 戚威臣 | 镁合金阳极氧化处理用电解液及处理方法 |
CN102828218B (zh) * | 2012-09-14 | 2015-04-15 | 戚威臣 | 镁合金阳极氧化处理用电解液及处理方法 |
CN103938253A (zh) * | 2013-01-23 | 2014-07-23 | 汉达精密电子(昆山)有限公司 | 镁合金阳极氧化电解液及其对镁合金处理的方法 |
CN105101715A (zh) * | 2014-04-25 | 2015-11-25 | 华为技术有限公司 | 防腐镁合金通讯设备及其制备方法 |
WO2015161636A1 (zh) * | 2014-04-25 | 2015-10-29 | 华为技术有限公司 | 防腐镁合金通讯设备及其制备方法 |
CN104630866A (zh) * | 2015-02-15 | 2015-05-20 | 电子科技大学 | 一种口腔用镍铬合金表面遮色瓷的制备方法 |
CN105714354A (zh) * | 2016-03-21 | 2016-06-29 | 南京工程学院 | 一种用于制备n掺杂微弧氧化陶瓷层的电解液 |
WO2018126094A1 (en) * | 2017-01-01 | 2018-07-05 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Dark colored electroceramic coatings for magnesium |
CN107090590A (zh) * | 2017-04-24 | 2017-08-25 | 南京邮电大学 | 一种基于缓蚀剂的铝合金阳极氧化电解液及氧化工艺 |
CN108327167A (zh) * | 2018-03-07 | 2018-07-27 | 广州凯腾新材料科技有限公司 | 金属和塑胶结合的方法 |
CN111118570A (zh) * | 2018-10-31 | 2020-05-08 | 华孚精密科技(马鞍山)有限公司 | 压铸铝合金微弧氧化电解液、方法及其产品 |
CN111162245A (zh) * | 2018-11-08 | 2020-05-15 | 四川理工学院 | 一种镁空气电池负极表面改性方法及电解液 |
CN111162245B (zh) * | 2018-11-08 | 2021-08-20 | 四川理工学院 | 一种镁空气电池负极表面改性方法及电解液 |
CN111172577A (zh) * | 2020-01-29 | 2020-05-19 | 桂林理工大学 | 一种镁合金表面低孔隙率微弧氧化膜的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100425740C (zh) | 2008-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1793438A (zh) | 镁合金在抑弧状态下的阳极氧化电解液及阳极氧化方法 | |
KR101195458B1 (ko) | 금속의 표면처리 방법 | |
CN101994145B (zh) | 镁合金表面微弧氧化制备高耐蚀性陶瓷涂层溶液及其应用 | |
CN1749444A (zh) | 一种对轻金属表面进行等离子微弧氧化的方法 | |
CN102286766A (zh) | 铝合金硬质阳极氧化膜及其工艺方法 | |
CN100510197C (zh) | 一种环保型镁合金微弧氧化电解液以及微弧氧化方法 | |
CN1928165A (zh) | 在镁合金表面生成微弧氧化陶瓷层的方法 | |
CN101624718A (zh) | 一种对航空2系、7系铝合金表面的无铬化阳极氧化处理方法 | |
CN103205789B (zh) | 镁锂合金表面微弧氧化自组装超疏复合涂层的方法 | |
CN105755427A (zh) | 一种奥氏体不锈钢及其复合等离子体强化方法 | |
CN102268710A (zh) | 镁合金表面制备高耐蚀性自封孔陶瓷涂层的溶液及其应用 | |
CN100342063C (zh) | 镁合金表面复合陶瓷质膜和生成方法 | |
CN101113529B (zh) | 一种镁基微弧氧化电解液及其微弧氧化方法 | |
CN1412352A (zh) | 铝电解抛光的方法和其应用 | |
CN1670263A (zh) | 一种铝及其合金材料表面生成陶瓷膜的阳极化处理方法 | |
CN104911664A (zh) | 一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法 | |
CN105063722B (zh) | 一种硅烷偶联剂抑弧的微弧氧化电解质溶液及微弧氧化膜制备方法 | |
CN1873059A (zh) | 在铝及铝合金表面一步生成彩色氧化膜的方法 | |
CN101195926B (zh) | 铝合金表面获得TiAl/Al2O3复合材料陶瓷膜层的方法 | |
CN100347342C (zh) | 一种适用于镁合金基体表面机械镀锌锡复合镀层的工艺 | |
CN100537851C (zh) | 镁、铝合金在铝酸盐体系中微弧氧化表面处理电解液 | |
CN102560485B (zh) | 镁合金表面制备硬质防护膜的方法 | |
CN1724719A (zh) | 溶胶作用下的镁合金基体表面阳极氧化处理方法 | |
CN108531962B (zh) | 一种镁合金表面增强处理方法 | |
CN105568339A (zh) | 一种以镁/镁合金为基体的多涂层复合材料及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20081015 Termination date: 20091225 |