CN1769978A - 滤色器基板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能够低阶地制造薄、轻、难于破碎的平板显示装置，无色透明，耐热性、非着色性、粘附性良好，而且柔软的在由塑料构成的薄膜基板上良好地形成有滤色器部的滤色器基板。包含由具有特定的式子表示的重复单元的聚酰亚胺构成的薄膜基板和在该薄膜基板上形成的滤色器部的滤色器基板。
Description
技术领域
本发明涉及透明性和耐热性良好、在由聚酰亚胺构成的薄膜基板上形成有滤色器部的滤色器基板，使用于液晶显示装置、有机EL显示装置等显示装置中。
背景技术
在近年逐渐普及的平板显示装置中使用的、在玻璃基板上设置有红(R)·绿(G)·青(B)等着色层的滤色器基板是实现彩色化的重要构成部件，得到了广泛的使用。
滤色器基板由玻璃等无色透明的基板、由各种颜色的像素部等构成的滤色器部、以及根据需要设置的透明导电性薄膜构成。形成滤色器基板的一般方法如下所示。首先，将玻璃基板的表面洗净。接下来，利用溅射等方法在玻璃基板的单侧表面上全面形成铬、黑色树脂等的黑色矩阵材料膜。然后在该黑色矩阵材料膜的表面上涂上抗蚀剂，烘干后利用光掩模曝光、显影并形成抗蚀剂的图案。然后，进行蚀刻、抗蚀剂剥离，仅留下黑色矩阵材料膜的必要部分，形成黑色矩阵。
然后，形成RGB等各色像素部。例如在形成红色像素的场合，涂布红色的像素材料，预烘干。接下来在该红色素材料膜的表面上涂敷抗蚀剂，烘干后利用光掩模曝光、显影，形成红色素材料膜的图案。其后，进行蚀刻、抗蚀剂剥离，仅留下红色素材料膜的必要部分，经后烘干形成红色像素部。G、B等残留的各种颜色的像素部也通过重复执行同样的操作来形成。
接下来，出于色像素部的表面平坦化和保护的目的，根据需要在色像素部表面上形成外涂层。通过以上的工序，在基板上形成滤色器部。最后，根据需要形成透明导电性薄膜，从而完成了滤色器基板的制作。
作为滤色器基板的基板，如果采用塑料薄膜来替代玻璃，可以得到薄、轻、难以破碎的滤色器基板。而且，通过利用塑料薄膜的可挠性，采用所谓的辊到辊(roll to roll)制法，极大地提高了滤色器基板和平板显示装置的生产效率。
但是，上述标准的滤色器部形成法中的处理温度一般在180℃以上，因为通常使用的透明塑料即聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚碳酸酯的耐热性显著不足，因而不能使用。
作为耐热性更高的塑料基板的材料，也考虑使用例如聚芳酯树脂和聚醚砜树脂。但是，因为这些树脂的耐热性也不充分，需要使上述黑色矩阵材料和各色像素的色素材料的烘干温度低到150℃左右，因为不能进行足够充分的固化处理，色特性、耐热性、耐药品性都不充分。而且，在最终工序中附加透明导电性薄膜的场合，因为需要在150℃以下的低温中形成透明导电性薄膜，所以存在透明导电性薄膜的结晶度低，表面电阻值高的缺点。而且滤色器基板使用的基板需要在制作时以及在长期的使用环境下维持无色透明性。但是，如果使用这些塑料基板，在制作时以及长期的使用过程中，树脂会着色(变黄)，在使用上存在很大的问题。
除上述树脂之外，公开了将脂环族烯烃聚合得到的透明树脂作为平板显示装置的基板使用的方法(参照特开平5-61026号公报)。但是，因为该树脂的表面极性低，所以存在与黑色矩阵材料、各色像素的色素材料的粘附性差，滤色器部容易剥离的缺点。
另一方面，作为耐热性和尺寸稳定性良好的树脂，已知全芳香族聚酰亚胺树脂。由芳香族四羧酸二酐和芳香族二胺类的缩聚反应得到的全芳香族聚酰亚胺树脂可以在400℃以上的高温下使用，具有热膨胀系数小、尺寸稳定性好等优良特性，作为高温下使用的薄膜、电线包覆、粘结剂、涂料等的原料，在以宇宙航空产业、电子产业为中心的各种领域中使用。但是，全芳香族聚酰亚胺树脂因为从淡黄色到红褐色着色，不能在滤色器基板的基板中使用。
作为解决这一问题的方法，公开了一旦将滤色器部形成在玻璃等耐热性基板上之后，通过将形成的滤色器部转印到塑料基板上，得到具有塑料基板的滤色器基板的方法(参见特开2000-47023号公报)。
但是，该方法的生产效率低，存在不能够更便宜地生产具有玻璃基板的滤色器基板的缺点。
发明内容
本发明的课题是解决上述问题，提供一种能够便宜地生产薄、轻、难以破碎的平板显示装置，无色透明而且耐热性、非着色性、粘附性良好，柔软的包含由塑料构成的薄膜基板和在该基板上形成的滤色器部的滤色器基板。
本发明者们为了解决上述问题而进行专门研究，得到本发明。即本发明涉及包含由具有由下述通式I表示的重复单元的聚酰亚胺制成的薄膜基板和在该薄膜基板上形成的滤色器部的滤色器基板。
(式中，R是从环己烷衍生的4价基团，Φ是碳原子数为2～39的2价脂肪族基、脂环族基、芳香族基、或这些的组合构成的基团，在Φ的主链中可以插入从由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-C(CH3)2-、-OSi(CH3)2-、-C2H4O-以及-S-构成的组中选择的至少一个基团。)
根据本发明，能得到无色透明，耐热性、非着色性、粘附性良好，而且柔软的包含由塑料构成的薄膜基板以及利用通常的成膜方法形成的滤色器部的滤色器基板。该滤色器基板能够利用在薄、轻、难以破碎的平板显示装置的制造中。
附图说明
【图1】由实施例1得到的聚酰亚胺的薄膜的红外吸收光谱。
具体实施方式
本发明中使用的聚酰亚胺具有由下述通式I：
表示的重复单元。式中，R是从环己烷衍生的4价基团。Φ是碳原子数为2～39的2价脂肪族基、脂环族基、芳香族基、或者这些的组合构成的基团，在Φ的主链中可以插入从由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-C(CH3)2-、-OSi(CH3)2-、-C2H4O-以及-S-构成的组中选择的至少一个基团。
作为优选的Φ，可列举出聚烯烃、聚氧化烯、亚二甲苯基以及它们的烷基取代物、卤素取代物等脂肪族基；环己烷、双环乙基甲烷、二甲基环己烷、异佛尔酮、降冰片烷以及从它们的烷基取代物、卤素取代物等衍生的2价脂环族基；和苯、萘、联苯、二苯基甲烷、二苯醚、二苯砜、二苯酮以及从它们的烷基取代物、卤素取代物等衍生的2价芳香族基。更具体地说，列举由下述结构式：
表示的2价基团。
由通式I表示的重复单元的含量优选是所有重复单元的10～100摩尔％，更优选50～100摩尔％。而且，聚酰亚胺1个分子中的由通式I表示的重复单元的个数优选是10～2000个，更优选是20～200个。
上述聚酰亚胺(以下称为聚酰亚胺A)是通过使四羧酸成分和二胺类成分(二胺及其衍生物)反应得到的。作为四羧酸成分，可列举环己烷四羧酸、环己烷四羧酸酯类、环己烷四羧酸二酐等，优选环己烷四羧酸二酐。而且，上述四羧酸成份包含位置异构体。
具有源于上述四羧酸成分的环己烷四羧酸骨架的聚酰亚胺A因为容易高分子量化，易于得到柔软的薄膜基板，对溶剂的溶解度也足够大，所以有利于薄膜基板的成形加工。
在不伤及聚酰亚胺A的溶剂可溶性、薄膜基板的透明性、柔软性的范围内，四羧酸成分可以包含从下列物质中选择的至少一种化合物：其他的四羧酸或者其衍生物，例如，均苯四酸，3，3’，4，4’-联苯四羧酸，2，3，3’，4’-联苯四羧酸，2，2-二(3，4-二羧基苯基)丙烷，2，2-二(2，3-二羧基苯基)丙烷，2，2-二(3，4-二羧基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷，2，2-二(2，3-二羧基苯基)-1，1，1，3，3，3-六氟丙烷、二(3，4-二羧基苯基)砜，二(3，4-二羧基苯基)醚，二(2，3-二羧基苯基)醚，3，3’，4，4’-二苯酮四羧酸，2，2’，3，3’-二苯酮四羧酸，4，4-(对亚苯基二氧)二邻苯二甲酸，4，4-(间亚苯基二氧)二邻苯二甲酸，乙烯四羧酸，1，2，3，4-丁烷四羧酸，1，2，3，4-环丁烷四羧酸，1，2，4，5-环戊烷四羧酸，3-羟基甲基-1，2，4-环戊烷三羧酸，双环[2.2.2]辛-7-烯-2，3，5，6-四羧酸，二环己基四羧酸，1，1-二(2，3-二羧基苯基)乙烷，二(2，3-二羧基苯基)甲烷，二(3，4-二羧基苯基)甲烷和它们的衍生物。
作为二胺类成分，可列举出二胺，二异氰酸酯，二氨基二硅烷类等，优选二胺。二胺类成分中的二胺含量优选在50摩尔％以上(包含100摩尔％)。
上述二胺可以是脂肪族二胺或者芳香族二胺，也可以是它们的混合物，但是从保持由聚酰亚胺构成的薄膜基板的无色透明性的角度来看，优选脂肪族二胺。作为由聚酰亚胺构成的薄膜基板的着色(变黄)的原因，聚合物骨架中含有的苯基的变化等是原因之一，从这一点来看，优选少使用分子结构中含有芳香族基的胺。在脂肪族二胺中并用芳香族二胺的场合，优选芳香族二胺的配合率为二胺类成分的80摩尔％以下(包含0)。而且，在本发明中，“芳香族二胺”表示的是氨基直接结合到芳香族环上的二胺，其结构的一部分中可以含有脂肪族基、脂环基、其他的取代基。“脂肪族胺”指的是氨基直接结合到脂肪族基或者脂环基上的二胺，其结构的一部分中也可以含有芳香族基、其它的取代基。
而且，从聚合物的末端氨基也作为着色变黄的原因之一来考虑，利用酸酐等来处理聚酰亚胺末端的胺基也可以有效地防止着色。
一般来说，如果将脂肪族二胺作为构成成分来使用，因为中间生成物即聚酰胺酸和脂肪族二胺形成坚固的络合物，难于得到高分子量的聚酰亚胺。因此，需要使用对络合物的溶解性比较高的溶剂，例如利用甲苯酚等的方法。但是，如果将环己烷四羧酸或者其衍生物和脂肪族二胺作为构成成份使用，因为形成聚酰胺酸和脂肪族二胺的结合比较弱的络合物，所以能够容易地实现聚酰亚胺的高分子量化。
作为上述脂肪族二胺，列举例如4，4’-二氨基双环己基甲烷，乙二胺，1，6-已二胺，聚乙二醇二(3-氨基丙基)醚，聚丙二醇二(3-氨基丙基)醚，1，3-二(氨甲基)环己烷，1，4-二(氨甲基)环己烷，间苯二甲胺，对苯二甲胺，异佛尔酮二胺，降冰片烷二胺、硅氧烷二胺等。
作为上述芳香族二胺，可列举出例如4，4’-二氨基二苯醚，4，4’-二氨基二苯基甲烷，4，4’-二氨基二苯砜，间苯二胺，对苯二胺，二氨基二苯甲酮，2，6-二氨基萘，1，5-二氨基萘等。
在本发明中，聚酰亚胺A通常被制造为有机溶剂溶液。作为有机溶剂，可列举出例如N-甲基-2-吡咯烷酮，N，N-二甲基乙酰胺，N，N-二甲基甲酰胺，二甲基亚砜，六甲基磷酰胺，四亚甲基砜，对氯苯酚，间甲苯酚，2-氯-4-羟基甲苯，γ-丁内酯，碳酸异丙烯酯，二氧戊环等。
聚酰亚胺A的有机溶剂溶液是通过下述的(i)～(iii)的方法得到的。
(i)在二胺类成分的有机溶剂溶液中添加四羧酸成分，或者在四羧酸成分的有机溶剂溶液中添加二胺类成分，优选在80℃以下，特别是在室温附近～其以下的温度中保持0.5～3小时。在得到的反应中间体的聚酰胺酸溶液申添加甲苯或者二甲苯等共沸脱水溶剂，通过共沸将生成的水排出到系统外部，同时进行脱水反应，得到聚酰亚胺A的有机溶剂溶液。
(ii)在反应中间体的聚酰胺酸溶液中添加无水醋酸等脱水剂从而酰亚胺化之后，添加甲醇等对于聚酰亚胺A的溶解能低的溶剂，使聚酰亚胺A沉淀。由过滤·洗净·干燥作为固体分离后，在N，N-二甲基乙酰胺等溶剂中进行溶解就得到聚酰亚胺A的有机溶剂溶液。
(iii)利用甲苯酚等高沸点溶剂调制聚酰胺酸溶液，在150～220℃中直接保持3～12个小时使其聚酰亚胺化后，添加甲醇等对于聚酰亚胺A的溶解能低的溶剂，使聚酰亚胺A沉淀。由过滤·洗净·干燥作为固体分离后，在N，N-二甲基乙酰胺等溶剂中进行溶解就得到聚酰亚胺A的有机溶剂溶液。
上述有机溶剂溶液的聚酰亚胺A浓度优选为5～50重量％，更优选为10～40重量％。
由本发明中使用的聚酰亚胺构成的薄膜基板是通过下述步骤制造的，即将由上述的(i)～(iii)的方法得到的聚酰亚胺A的有机溶剂溶液涂覆到玻璃板、金属板等薄膜形成用支持体上，加热到100℃～350℃使溶剂蒸发，使形成的薄膜从支持体上剥离。另外，通过将聚酰胺酸的有机溶剂溶液涂覆到薄膜形成用支持体上，加热到200℃～350℃以进行脱冰酰亚胺化反应的方法，也能够制造由聚酰亚胺构成的薄膜基板。由聚酰亚胺构成的薄膜基板的厚度优选为20～400μm。
在该利用溶液浇铸法制造薄膜基板时，很容易通过过滤聚酰亚胺溶液来除去杂物。另外，由得到的聚酰亚胺构成的薄膜基板与由常用的溶融挤出法制造的薄膜基板相比，具有表面平滑性、光学的各向同性更加优越的特征。
由聚酰亚胺A构成的薄膜基板的玻璃化转变温度根据选择的二胺的不同而不相同，大致为250℃～350℃，作为滤色器基板中使用的基板具有充分的耐热性。
本发明中的滤色器部能够采用与使用玻璃基板的场合相同的公知方法来制造。
首先，将由聚酰亚胺A构成的薄膜基板的表面洗净。其次，利用溅射等方法在薄膜基板的一侧表面上全面形成铬、黑色树脂等的黑色矩阵材料膜。然后在该黑色矩阵材料膜的表面上涂上抗蚀剂，烘干后利用光掩模曝光、显影，形成抗蚀剂的图案。然后，进行蚀刻、抗蚀剂剥离，仅留下黑色矩阵材料膜的必要部分，形成黑色矩阵。黑色矩阵的厚度优选为0.05～2μm，更优选为0.12～1.2μm。
然后，形成RGB等的各色像素部。例如在形成红色像素的场合，涂敷红色的像素材料，预烘干。接下来在该红色素材料膜的表面上涂敷抗蚀剂，烘干后利用光掩模曝光、显影，形成红色素材料膜的图案。其后，进行蚀刻、抗蚀剂剥离，仅留下红色素材料膜的必要部分，通过后烘干形成红色像素部。G、B等剩余的各种颜色的像素部也通过重复执行同样的操作来形成。各色像素部的厚度优选为0.5～5μm，更优选为1～3μm。
作为黑色矩阵和各色像素部的图案形成法，除使用上述光致抗蚀剂的方法之外，也可以采用使用具有感光性的黑色矩阵材料、各色素材料，不用抗蚀剂而是直接通过光掩膜来形成图案的方法。另外，可以通过丝网印刷、照相凹版印刷、喷墨印刷等印刷法来形成黑色矩阵和各色像素部的图案。
而且，作为黑色矩阵材料和各色素材料、光致抗蚀剂材料，使用丙烯酸系树脂和聚酰亚胺系树脂。在以液体状态涂覆这些树脂之后，通过上述的称为烘焙的热处理使其固化。如果使用由本发明的聚酰亚胺A构成的薄膜基板，因为基板具有高耐热性，所以能够在180℃以上的高温中进行烘干处理，能够使黑色矩阵材料和各色素材料、光致抗蚀剂材料充分地硬化，因此优选。
通过适当地加入不溶解聚酰亚胺A的溶剂等，可以使用于调制黑色矩阵材料和各色素材料、光致抗蚀剂材料等的溶液的溶剂不溶解由聚酰亚胺A构成的薄膜基板。由上述方法得到的黑色矩阵和各色像素部与由聚酰亚胺A构成的薄膜基板或者根据需要形成的气体阻隔层之间表现出了良好的密合性。
接下来，出于色像素部的表面平坦化和保护的目的，根据需要在色像素部表面上形成外涂层。外涂层中主要采用环氧类和丙烯酸类的树脂，其厚度通常为1～10μm。通过以上的工序，在薄膜基板上形成滤色器部。
最后，根据需要形成透明导电性薄膜，例如形成公知的金属氧化物膜等。作为金属氧化物膜，列举例如添加了作为杂质的锡、碲、镉、钼、钨、氟、锌、锗等的氧化铟、氧化镉以及氧化锡，添加了杂质铝的氧化锌、氧化钛等金属氧化物膜。其中含有2～15重量％的氧化锡的氧化铟(ITO)的透明导电性薄膜具有优良的透明性和导电性，所以优先使用。上述透明导电性薄膜层的膜厚根据目标表面电阻来设定，优选5nm～10μm。在通过滤色器部将这些透明导电性薄膜层层叠在聚酰亚胺薄膜上的场合，能够采用溅射法、真空蒸镀法、离子电镀法、等离子体CVD法等气相沉积法。为了使透明导电性薄膜层的电阻率在1mΩ·cm以下，薄膜基板的温度为20℃～400℃，优选为180℃～350℃。
在将本发明的滤色器基板作为有机EL元件和液晶显示元件的滤色器基板使用的场合，优选在由聚酰亚胺构成的薄膜基板的单面或者两面上层叠至少一层的气体阻隔层。作为气体阻隔层的材料，列举将从硅、铝、镁以及锌构成的组中选择的一种或者两种以上的金属作为主要成分的金属氧化物或者金属氮化物。这些是已知的气体阻隔性优良的材料。这些氧化物层和氮化物层能够通过溅射法、真空蒸镀法、离子电镀法、等离子体CVD法等气相沉积法来制造。上述气体阻隔层的膜厚根据目标气体透过率来设定，但是为了得到23℃、60％RH时的氧气透过率在1.0cc/m2·天以下，且在40℃、90％RH时的水蒸气透过率为1.0g/m2·天以下的滤色器基板，优选10nm～10μm。
经过上述工序，能够得到在透明的由聚酰亚胺构成的薄膜基板上形成有滤色器部的本发明的滤色器基板。
而且，如上所述在聚酰亚胺构成的薄膜基板上形成气体阻隔层、滤色器部、透明导电性薄膜时，可以采用与使用玻璃基板的场合同样的单张处理，也可以利用薄膜基板的特性采用辊到辊的连续处理。
实施例
下面，根据实施例对本发明进行具体的说明。但是，本发明并不受这些实施例的任何限制。
参考例
1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐的合成
在内容积5升的耐热镍基合金制(HC22)高压釜中加入均苯四酸552g，活性炭上载有Rh的催化剂(エヌ·ィ一ケムキヤツト(株)制造)200g，水1656g，边搅拌边向反应器内部充入氮气。接下来，用氢气替换反应器内部，使反应器的氢气压强为5.0MPa，升温到60℃。使氢气压保持为5.0MPa，同时使其发生两个小时的反应。用氮气置换反应器内的氢气，由高压釜取出反应液体，趁热过滤该反应液体，分离出催化剂。利用转缸式蒸发机在减压条件下从过滤液中除去水分以进行浓缩、析出结晶。在室温下固液分离、干燥析出的结晶，得到1，2，4，5-环己烷四羧酸481g(收率85.0％)。
接下来，在5升的玻璃制可分离烧瓶(安装有ジムロ一ト冷却管)中加入得到的1，2，4，5-环己烷四羧酸450g和无水醋酸4000g，边搅拌边用氮气置换反应器内部。在氮气气氛下升高到溶剂的回流温度，使溶剂回流10分钟。一边搅拌一边冷却到室温，使结晶析出。固液分离、干燥析出的结晶，得到一次结晶。进一步利用转缸式蒸发机在减压条件下浓缩分离母液，使结晶析出。固液分离、干燥该结晶，得到二次结晶。混合一次结晶、二次结晶得到1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐375g(无水化的收率96.6％)。
实施例1
在具备温度计、搅拌器、氮气导入环、装有侧管的滴加漏斗、带有分缩器的冷却管的500mL的5口烧瓶中，加入由参考例合成的1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐11.2g(0.05摩尔)和作为溶剂的N-甲基-2-吡咯烷酮37.7g，使之溶解，利用冰水浴冷却到5℃。一边保持在相同的温度，一边由滴加漏斗用30分钟滴加将7.1g(0.05摩尔)的4，4’-二氨基双环己基甲烷溶解在40.0g的N-甲基-2-吡咯烷酮中得到的溶液，滴加结束后取走冰水浴，在室温下搅拌2小时。然后添加30.0g作为共沸脱水溶剂的间二甲苯并升温到170℃，一边使馏出液馏出，一边用4个小时升温到200℃，结束反应。在空气中使内部温度冷却到60℃，取出反应液(聚酰亚胺的有机溶剂溶液)。该聚酰亚胺的有机溶剂溶液的重量为87.9g，馏出液的总重量为37.7g。在玻璃板上涂覆得到的聚酰亚胺的有机溶剂溶液，在50℃的热板上干燥1小时后，从玻璃板剥离得到独立的膜。将该独立的膜固定在不锈钢制造的固定夹具上，在热风干燥器中在200℃干燥1小时，得到柔软的膜厚200μm的薄膜。该薄膜的IR光谱如图1所示。利用γ(C＝0)1772、1700(cm-1)确认酰亚胺的生成。进一步使0.5g的薄膜溶解在10ml浓硫酸中，在30℃测定的特性粘度[η]为0.44，用DSC测定的玻璃化转变温度为256℃。另外，依据JIS K7105用雾度计(日本电色(株)制Z-∑80)测量该薄膜的全光线透过率，示出了高达90％的值。
在空气中，在220℃用4个小时对该聚酰亚胺的薄膜(由聚酰亚胺构成的薄膜基板)进行热处理，测定热处理前后的全光线透过率，为90％没有发生变化，即使用眼晴观察也不能看到着色。而且，将该聚酰亚胺的薄膜置于空气中(温度：60℃)，将200W的高压水银灯作为光源照射1000小时以进行高能光处理后，同样测定全光线透过率，为90％没有发生变化，即使用眼睛观察也不能看到着色。
将得到的边长为200mm的方形聚酰亚胺的薄膜洗净并干燥后，利用溅射法在一侧表面上形成作为气体阻隔层的厚500nm的氧化硅层。接下来，在该聚酰亚胺薄膜的气体阻隔层的反面上，用溅射法在整个面上形成铬膜。利用正型的光致抗蚀剂进行曝光、显影处理后进行蚀刻，形成规定形状的黑色矩阵(厚度：约0.2μm)。
接下来，利用旋转涂覆法在整个面上涂覆红色的颜料分散型色素材料(丙烯酸系负型感光性)后，在热板上进行预烘干。之后，利用光致抗蚀剂曝光后进行显影，除去不要的部分，形成红色像素部分。进而，在干净的烤炉中在200℃进行20分钟的后烘干处理，使色素材料固化。反复进行同样的操作，形成绿色和青色的像素。
在像素形成面上利用旋转涂覆法涂覆环氧树脂系外涂材料，在基板上形成均匀的涂覆膜。通过在干净的烤炉中在200℃对该基板进行20分钟的烘干处理来形成外涂层，形成滤色器部。外涂层具有良好的平坦性。在该外涂层上，利用溅射装置，在200℃下形成由约100nm厚的氧化铟·锡(ITO，In∶Sn＝9∶1)构成的透明导电性薄膜。测定表面电阻值，得到50Ω/□的良好值。
而且，观察滤色器部时，各色像素不发生偏离，也无污点，能够良好地形成像素。
而且，滤色器部、透明导电性薄膜的粘附性良好，得到的滤色器基板表现出了充分的可挠性，即使以30mmR进行弯曲也不产生剥离。
经过上述工序，能够得到利用通常的成膜方法在由聚酰亚胺构成的薄膜基板上形成有滤色器部的柔性滤色器基板。
Claims (5)
1.一种滤色器基板，包含薄膜基板和在该薄膜基板上形成的滤色器部，所述薄膜基板是由具有通式I表示的重复单元的聚酰亚胺制成的，
式中，R是从环己烷衍生的4价基团，Φ是碳原子数为2～39的2价脂肪族基、脂环族基、芳香族基、或者这些的组合构成的基，在Φ的主链中可以插入从由-O-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-C(CH3)2-、-OSi(CH3)2-、-C2H4O-以及-S-构成的组中选择的至少一个基团。)
2.根据权利要求1记载的滤色器基板，其中，上述滤色器部由从该薄膜基板侧开始依次具有的黑色矩阵层和在该黑色矩阵层上形成的色像素部构成。
3.根据权利要求2记载的滤色器基板，其中，上述薄膜基板的单面或者双面上具有气体阻隔层。
4.根据权利要求2或3记载的滤色器基板，其中，上述色像素部上还具有外涂层。
5.根据权利要求4记载的滤色器基板，其还具有透明导电性薄膜。
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