CN1714944A - 旋转杯式涂敷装置 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于提供一种能够有效地防止涂敷液的飞散的旋转杯式涂敷装置。在内杯体(3)上固定有托盘(7)，从该托盘(7)的各角部导出有排液引导管(10)。排液引导管(10)以前部(11)朝向前述排液回收通路(3a)的底部的方式朝外侧向斜下方倾斜。并且，前部(11)的下端(11a)比内杯体(3)的底面(3b)低。因此，当供给到板状被处理物(W)的表面上的涂敷液通过托盘(7)与内杯体(3)的一体旋转而在离心力的作用下通过形成于遮檐状壁部(9)上的孔、排液引导管(10)内的流路以及排液引导管(10)的前部(11)被排出时，不会直接冲撞到内杯体3的内周壁上。

Description

旋转杯式涂敷装置

技术领域

本发明涉及一种将由SOG(Spin-On-Glass：将硅化合物溶解于有机溶剂中而得的溶液、以及对该溶液进行涂敷·烧结而形成的氧化硅膜)或抗蚀剂液等涂敷液形成的膜形成在玻璃基板等板状被处理物的表面上的旋转杯式涂敷装置。

背景技术

在外杯体内配置有通过旋转器旋转的内杯体的旋转杯式涂敷装置以往已被公知，根据该旋转杯式涂敷装置，板状被处理物(玻璃基板或半导体晶片)与内杯体内周面之间的间隙过大，容易产生紊流，而且容易产生压力变动，所以不能充分防止涂敷液的飞散。

因此，作为特许文献1，本申请人提出了下述方案：在内杯体内设置形状与板状被处理物的形状一致的托盘，将板状被处理物设置在该托盘内并使其旋转从而进行涂敷，并且，从托盘的四角导出排液引导管，经由该排液引导管，将从板状被处理物飞散到形成于内杯体的内底部周缘上的贮留部中的涂敷液排出。

特许文献1：特开平09-122561号公报

在特许文献1中，排液引导管是被水平地导出的，所以从排液引导管排出的涂敷液会垂直地冲撞到内杯体的内周壁上，存在其一部分向斜上方溅起从而再次返回到内杯体内侧的问题。返回了的涂敷液成为微细的颗粒而附着在板状被处理物的表面上，会成为合格品率降低的原因。

发明内容

为了解决上述课题，本发明是一种旋转杯式涂敷装置，在外杯体内设有通过旋转器旋转的内杯体，在前述内杯体内设有与内杯体一体旋转的托盘，在该托盘的中央部上配置有保持板状被处理物的机构，从托盘导出有排液引导管，其中，前述排液引导管的前部面对形成于内杯体的内底部周缘上的贮留部，并且该前部朝外侧向斜下方倾斜。

根据这样的构成，从排液引导管排出的涂敷液朝向斜下方碰撞到内杯体内周壁上，从而几乎没有涂敷液返回到内杯体的内侧。

另外，通过将排液引导管的前部的最外侧部分的下端设定成比内杯体的底面低，没有从排液引导管的前部向水平方向飞出的涂敷液，能够可靠地排出到贮留部中。

根据本发明的旋转杯式涂敷装置，不会产生旋转过程中的紊流以及压力变动所引起的涂敷液的飞散，此自不必说，还可以几乎不使从托盘的排液引导管排出的涂敷液飞散地将其全部回收到形成于内杯体的内底部周缘上的贮留部中。

附图说明

图1是本发明的旋转杯式涂敷装置的待机状态的剖视图。

图2是用盖体将该旋转杯式涂敷装置的内杯体封闭起来的状态的放大剖视图。

图3是托盘的整体俯视图。

具体实施方式

下面参照附图对本发明的实施方式进行说明。图1是本发明的旋转杯式涂敷装置的待机状态的剖视图。图2是用盖体将该旋转杯式涂敷装置的内杯体封闭起来的状态的放大剖视图。图3是托盘的整体俯视图。

旋转杯式涂敷装置1在固定于基座等上的外杯体2内配置有内杯体3，通过贯通外杯体2的旋转器4使该内杯体3旋转。

内杯体3在内底部周缘上形成有环状的排液回收通路3a，在中央部上配置有真空吸盘5作为对玻璃基板或半导体晶片等板状被处理物W进行保持的保持机构。另外，保持机构并不限于此，只要是机械卡盘或静电吸盘等能够固定板状被处理物W的保持机构即可，可以使用任何形式的机构。

另外，在内杯体3上固定有托盘7。该托盘7的外形俯视呈大致四边形，在中央形成有前述真空吸盘5所面对的开口8，在周缘部上设有向内侧折曲的遮檐状壁部9，进而从托盘7的备角部导出有排液引导管10。

排液引导管10的导出方向与以托盘的旋转方向为基准来说位于其前面的边平行。例如，排液引导管10a的导出方向与托盘7的边7a平行。

排液引导管10以前部11朝向前述排液回收通路3a的底部的方式朝外侧向斜下方倾斜。而且，前部11的下端11a比内杯体3的底面3b低。因此，当供给到板状被处理物W的表面上的涂敷液由于托盘7与内杯体3的一体旋转而在离心力的作用下通过形成于遮檐状壁部9上的孔、排液引导管10内的流路以及排液引导管10的前部11而被排出时，不会直接冲撞到内杯体3的内周壁上。

另外，在前述托盘7的上面设有拆装自如的罩体12。该罩体12通过螺纹件或其他卡止件固定安装在托盘7上，在中央部上形成有比板状被处理物W稍大的开口。该罩体12具有降低因排液引导管10的旋转而产生的紊流的效果。

另一方面，可以直线移动、旋转移动、上下移动或者进行将这些合成了的动作的臂13面对内杯体3及外杯体2的上方，在该臂13的前端上安装有向下方延伸的轴14。可以作成经由该轴14供给氮气等的结构。例如，由于在涂敷后内杯体内变成减压状态，所以突然将盖体卸下则有可能会卷入外部的尘埃等。因此，优选地通过供给氮气等来解除内杯体内的减压状态。

另外，在前述轴14上，经由轴承及磁性密封件而旋转自如地嵌合有轴毂部15，在该轴毂部15上安装有用于封闭内杯体3的上面开口的圆板状盖体16，在该盖体16的下表面上安装有防止内杯体3内的紊流的整流板17。该整流板17以比玻璃基板W稍大的尺寸形成为与玻璃基板相似的形状或者圆形。

而且，在内杯体用盖体16的上表面上固定安装有呈角状的爪部件18，另一方面，在内杯体3的外周面上的、与前述爪部件18对应的部位上安装有爪承接部件19，从而在用盖体16封闭内杯体3之际，可以固定在确定了的位置上。另外，在本实施例中，可以通过调整爪承接部件19的安装位置，使得在用盖体16将内杯体3的上面开口封闭起来的状态下，在内杯体的上面开口与内杯体用盖体之间形成10mm以下、优选地0.5～2mm的间隙。通过这样形成若干大小的间隙，可以抑制压力变动并防止雾气从外部流入，从而形成良好的膜。

另外，在臂13的前端上设有保持块20，在该保持块20上安装有上下方向的导向杆21，在该导向杆21上，以在上下方向上自由的状态支承着封闭外杯体2的上面开口的盖体22。这样，通过使外杯体用的盖体22处于在上下方向上自由的状态，在用内杯体用的盖体16将内杯体3的上面封闭起来的时候，可以利用外杯体用的盖体22来无间隙地将外杯体2上面可靠地密闭起来。

在上述构成中，为了在玻璃基板等板状被处理物W表面上均匀地涂敷抗蚀剂液等，将外杯体2及内杯体3的上面开放，将板状被处理物W转递到真空吸盘5上，并进行吸引固定，其次从喷嘴向板状被处理物W的表面上滴下抗蚀剂液等涂敷液，之后，转动臂13而使盖体16、22面对外杯体3及内杯体3。

然后，通过使臂13下降来利用盖体16将内杯体3的上面封闭起来，利用盖体22将外杯体2的上面封闭起来，之后通过旋转器使吸盘5和内杯体5一体旋转，利用离心力将涂敷液均匀地扩散涂敷到板状被处理物W的表面上。

从板状被处理物W的表面飞散出去的抗蚀剂液等在离心力的作用下集中到托盘7的壁部内侧，并沿旋转方向在壁部内侧传递，从排液引导管10排出到内杯体的排液回收通路3a中。然后，在打开盖之后，利用吸引管23将该排出了的排液回收。

工业实用性

本发明的旋转杯式涂敷装置可以在半导体芯片或液晶显示装置的制造工序中利用。

Claims (2)

1.一种旋转杯式涂敷装置，在外杯体内设有通过旋转器旋转的内杯体，在该内杯体内设有与内杯体一体旋转的托盘，在该托盘的中央部上配置有保持板状被处理物的机构，从托盘导出有排液引导管，该排液引导管的、面对形成于内杯体的内底部周缘上的贮留部的前部朝外侧向斜下方倾斜。

2.如权利要求1所述的旋转杯式涂敷装置，其特征在于，前述排液引导管的前部的最外侧部分的下端设定为比内杯体的底面低。

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