CN1702807A - 具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置 - Google Patents

Abstract

具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，包括镀膜室，其上方设置有基板传输机构和加热器，其开口处设置开口板，其内部设置环形炉床，镀膜室的壁上与炉床对应处设置电子枪，在镀膜室内还设置有角度控制装置。本发明由于采用了角度控制装置，使蒸发出的MgO膜料的上靶角度得到有效控制，制备得到的MgO介质保护膜具有更好的二次电子发射系数、抗离子轰击能力等，从而增加了等离子体显示板的动态裕度和显示板亮度等的均匀性，降低了对介质层、放电电极和障壁等制作均匀性的要求，提高了显示板的品质，提高了工效，降低了生产成本。

Description

具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置

技术领域

本发明属于视频制造领域，涉及一种薄膜形成装置，特别涉及一种具有角度控制装置的等离子体显示屏的MgO介质保护膜的形成装置。

背景技术

彩色等离子体显示器(PDP：Plasma Display Panel)具有大屏幕、薄型化、宽视角、响应快、高分辨率及全数字化等特点，是实现壁挂式电视和HDTV的首选显示器件。介质保护膜是彩色PDP的重要组成部分，蒸镀在前极板介质层之上，直接与放电气体接触。彩色PDP的基本工作原理是基于介质保护膜表面所发生的气体放电过程，介质保护膜的性能和大面积上的性能一致性直接影响PDP的性能，所以，制作性能优良与性能一致性高的介质保护膜十分重要。

中国专利申请文件《等离子显示保护膜形成装置和保护膜形成方法》(申请号01137043.2，公开日期2002年5月29日)公开了一种具有多个蒸发源的MgO介质保护膜形成装置，在镀膜室内，将待镀基板安置在托架上，并在水平方向上移动。在基板移动的过程中，设置在其上部的加热器对其进行加热，为下一步的镀膜做准备。用于蒸镀到基板表面的MgO膜料填充到四台(两行两列式排列)回转的环形炉床，同时从四个电子枪发射出的电子束打到环形炉床的MgO膜料上，使其蒸发，沉积在基板上，形成PDP介质保护膜。另外，为了防止基板在镀膜时由于蒸发源的热辐射而温度过度升高，在镀膜室的开口处设置了水冷却的开口板。研究结果表明，MgO的上靶(基板)角度直接影响MgO介质保护膜的性能，对于制作大面积PDP基板的具有高速、多点蒸发源保护膜形成装置来说，限制MgO的上靶角度十分重要。而在此申请文本中，只是在镀膜室的开口处设置了限制MgO的上靶角度，MgO的上靶角度从0变化到a，再到最大角度b，所以该装置不能有效地控制上靶角度，使MgO介质保护膜性能均匀性无法达到最佳。

发明内容

为了获得性能均匀性较好的MgO介质保护膜，本发明的目的在于提供一种具有角度控制装置的等离子体显示屏的MgO介质保护膜的形成装置，该装置能够适当控制住蒸发出的MgO膜料的上靶角度，得到性能均匀性优良的MgO介质保护膜。

本发明所采用的技术方案是，具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，包括镀膜室，其上方设置有基板传输机构和加热器，镀膜室开口处设置开口板，镀膜室内设置环形炉床，镀膜室的壁上与炉床对应处设置电子枪，镀膜室内还设置有角度控制装置。

本发明提供的一种角度控制装置包括支撑杆，支撑杆垂直固定于镀膜室内，炉床的上方、支撑杆的上端固定角度控制板，角度控制板上开有与炉床数量相等的通孔，且通孔与炉床的位置对应，通孔为圆形、椭圆形或任意多边形。

本发明提供的另一种角度控制装置包括角度控制桶，角度控制桶与炉床数量相等，且放置在每个炉床上，角度控制桶上与电子枪对应处开孔，角度控制桶上盖开通孔，通孔为圆形、椭圆形或任意多边形。

本发明与现有技术相比有以下优点：

1.由于本发明提供的MgO介质保护膜形成装置采用了角度控制装置，使蒸发出的MgO膜料的上靶角度得到有效控制，制备得到的MgO介质保护膜具有更好的性能均匀性(如二次电子发射系数、抗离子轰击能力等)。

2.具有更好性能均匀性的MgO介质保护膜有利于增加等离子体显示板的动态裕度和显示板亮度等的均匀性，提高显示板的品质。

3.在对显示板同样性能要求下，MgO介质保护膜的良好性能均匀性可降低对介质层、放电电极和障壁等制作均匀性的要求，从而提高它们的工艺裕度，降低生产成本。

附图说明

图1是现有技术MgO介质保护膜形成装置的结构示意图；

图2是本发明介质保护膜形成装置的结构示意图；

图3是图2所示结构中通孔的形状图，其中a为圆形，b为椭圆形，c为多边形；

图4是本发明介质保护膜形成装置的另一结构示意图；

图5是图4所示结构中通孔的形状图，其中a为圆形，b为椭圆形，c为多边形；

图6是上靶角度(入射角度)与二次电子发射系数比(二次电子放出量比)之间的关系曲线图，其中，横坐标是入射角度，纵坐标是二次电子放出量比；

图中，1镀膜室，2电子枪，3炉床，4基板，5托架，6加热器，7电子束，8开口板，9支撑杆，10角度控制板，11通孔，12角度控制桶，13孔，14通孔。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步的详细说明。

图1显示的现有技术中一种多个蒸发源的MgO介质保护膜形成装置，该装置包括镀膜室1，镀膜室1的上方设置有基板传输机构和加热器6，镀膜室1开口处设置开口板8，镀膜室1内设置四台(两行两列式排列)回转的环形炉床3，镀膜室1的壁上与炉床3对应处设置四个电子枪2。

将待镀基板4安置在托架5上，并通过基板传输机构在水平方向移动，基板4移动的过程中，设置在其上部的加热器6对其进行加热，为下一步的镀膜做准备，在镀膜室1内，用于蒸镀到基板4表面的MgO膜料填充到四个(两行两列式排列)回转的环形炉床3，同时从四台电子枪2发射出的电子束7分别打到四个环形炉床3的MgO膜料上，使其蒸发，沉积在基板4上，形成PDP介质保护膜，另外开口板8的设置，是为了防止基板4在镀膜时由于蒸发源的热辐射而温度过度升高。从图中可看到，MgO的上靶角度从0变化到a，还可以变化到最大角度b，因此此装置不能有效地控制上靶角度，从而使MgO介质保护膜性能均匀性无法达到最佳。

图2是本发明的具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，该装置包括镀膜室1，其上方设置有基板传输机构和加热器6，镀膜室1开口处设置开口板8，镀膜室1内设置四台(两行两列式排列)回转的环形炉床3，镀膜室1的壁上与炉床3对应处设置四台电子枪2，镀膜室1内设置有角度控制装置，角度控制装置包括支撑杆9，支撑杆9垂直固定于镀膜室1内，炉床3的上方、支撑杆9的上端固定角度控制板10，角度控制板10上开有四个通孔11，且通孔11与炉床3的位置对应。

将待镀基板4安置在托架5上，并通过基板传输机构在水平方向移动，在基板4移动的过程中，设置在其上部的加热器6对其进行加热，为下一步的镀膜做准备。在镀膜室1内，用于蒸镀到基板4表面的MgO膜料填充到四台炉床3上，同时从四台电子枪2发射出的电子束7打到炉床3的MgO膜料上，使其蒸发，沉积在基板4上，形成PDP介质保护膜。在镀膜室1内，角度控制板10依靠支撑板9支撑，角度控制板10上的通孔11用于膜料通过，由于支撑板9和角度控制板10的限制，蒸发到基板4上的MgO膜料的上靶角度处于0到a之间，减小了蒸发出的MgO膜料的上靶角度，可得到性能均匀的MgO介质保护膜。

参见图3，与炉床3一一对应的通孔11可设为圆形、椭圆形或任意多边形，还可用其它形式构成，通孔11的大小和形状彼此可以相同也可以不相同，与炉床3可同心也可非同心配置，只要能达到限制膜料上靶角度的目的即可。

角度控制板10的位置可高于或低于开口板8，也可等于开口板8，可以通过改变通孔11的大小和角度控制板10的高低调整蒸发出的MgO膜料的最大上靶角度。

图4是本发明的具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜另一种形成装置，镀膜室1的上方设置有基板传输机构和加热器6，镀膜室1开口处设置开口板8，镀膜室1内设置四台(两行两列式排列)回转的环形炉床3，镀膜室1的壁上与炉床3对应处设置四台电子枪2，镀膜室1内设置有角度控制装置，角度控制装置包括四个角度控制桶12，且放置在每个炉床3上，角度控制桶12上与电子枪2对应处开孔13，角度控制桶12上盖开通孔14。

将待镀基板4安置在托架5上，并通过基板传输机构在水平方向移动，在基板4移动的过程中，设置在其上部的加热器6对其进行加热，为下一步的镀膜做准备。在镀膜室1内，用于蒸镀到基板4表面的MgO膜料填充到四个(两行两列式排列)回转的炉床3内，同时从四台电子枪2发射出的电子束7分别通过角度控制桶12上的孔13打到四个炉床3的MgO膜料上，使其蒸发，沉积在基板4上，形成PDP介质保护膜，角度控制桶12上盖开的通孔14用于蒸发膜料的通过，由于角度控制桶12的限制，蒸发到基板4上的MgO膜料的上靶角度处于0到a之间，减小了MgO膜料的上靶角度，可得到性能均匀的MgO介质保护膜。

参见图5，与炉床3一一对应的通孔14为圆形、椭圆形或任意多边形，还可用其它形式构成，通孔14的大小和形状彼此可以相同也可以不相同。

角度控制桶12与炉床3可同心也可非同心配置。

从图6中可以看出二次电子发射系数随膜料的上靶角度而变，所以限制膜料上靶角度对MgO介质保护膜的性能提高是十分必要的。本发明采用了角度控制装置，将上靶角度控制在一定范围之内，从而可以得到性能均匀性优良的MgO介质保护膜。

Claims (5)

1.具有角度控制的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，包括镀膜室(1)，其上方设置有基板传输机构和加热器(6)，镀膜室(1)开口处设置开口板(8)，镀膜室(1)内设置环形炉床(3)，镀膜室(1)的壁上与炉床(3)对应处设置电子枪(2)，其特征在于，所述镀膜室(1)内还设置有角度控制装置。

2.根据权利要求1所述的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，其特征在于，所述角度控制装置包括支撑杆(9)，支撑杆(9)垂直固定于镀膜室(1)内，炉床(3)的上方、支撑杆(9)的上端固定角度控制板(10)，角度控制板(10)上开有与炉床(3)数量相等的通孔(11)，且通孔(11)与炉床(3)的位置对应。

3.根据权利要求2所述的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，其特征在于，所述通孔(11)为圆形、椭圆形或任意多边形。

4.根据权利要求1所述的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，其特征在于，所述角度控制装置包括角度控制桶(12)，所述角度控制桶(12)与炉床(3)数量相等，且放置在每个炉床(3)上，角度控制桶(12)上与电子枪(2)对应处开孔(13)，角度控制桶(12)上盖开通孔(14)。

5.根据权利要求4所述的等离子体显示屏介质保护膜形成装置，其特征在于，所述通孔(14)为圆形、椭圆形或任意多边形。

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