CN1669922A - 一种沉淀二氧化硅的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种沉淀二氧化硅的制备方法，包括将碱金属的硅酸盐加水溶解配制成盐溶液a，将2价或高于2价的金属离子的可溶性盐用作阻聚剂，加水配制成盐溶液b，用盐溶液a和盐溶液b在温度为10℃－80℃的条件下进行反应，得到反应混合物c，将反应混合物c加热到60℃－95℃后，加入酸化剂进行酸化、并调节pH值为1－5，得到反应混合物d1，然后保温熟化3分钟－100分钟，制得反应混合物d2，将反应混合物d2进行过滤、洗涤、干燥，制得超细沉淀二氧化硅。这种沉淀二氧化硅，分散崩解性能良好，广泛应用于塑料、涂料、油漆、日用化工、医药、农药等领域。

Description

一种沉淀二氧化硅的制备方法

技术领域

本发明涉及一种沉淀二氧化硅的制备方法。

背景技术

沉淀二氧化硅是疏松的、细分散的絮状结构的二氧化硅，它是一种应用广泛的无机精细化工材料。目前，以碱金属的硅酸盐溶液为原料制备沉淀二氧化硅的方法主要有以下三种：1、酸沉淀法，即分阶段加酸酸化碱金属的硅酸盐溶液，沉淀出二氧化硅，如中国专利号为94117058.6、96109937.2和德国专利申请号DE-A1467019所公开的技术方案；2、溶胶法，它是以硅溶胶为原料，通过加入某些物质使硅溶胶凝聚的方式来制备沉淀二氧化硅，如中国专利号为96104972.3所公开的技术方案；3、凝胶法，它是以含水硅凝胶为原料来制备沉淀二氧化硅，如中国专利申请号为02151276.0所公开的技术方案。

用上述的酸沉淀法、溶胶法和凝胶法制备沉淀二氧化硅，其共同的弊端是：由于酸碱反应的过程中无法避免酸的局部过浓现象，无法有效地消除或减弱导致沉淀二氧化硅制备过程中凝胶成分生成的诱导因素，即硅酸分子之间的直接接触而通过氢键迅速聚集，因而无法避免硅酸聚集作用的发生，而防止凝胶成分的生成又是制备超细级、分散崩解性能好的沉淀二氧化硅的关键。因此，用酸沉淀法、溶胶法和凝胶法是很难制备出分散崩解性能良好的超细沉淀二氧化硅。

发明内容

本发明的目的是提供一种超细、分散崩解性能良好的沉淀二氧化硅的制备方法。

为了实现上述的目的，所提供的沉淀二氧化硅的制备方法，包括以下的步骤：

A、将碱金属的硅酸盐加水溶解，配制成含有二氧化硅浓度为0.1mol/l-1.5mol/l的盐溶液a；

B、将浓度为0.2mol/l-1.5mol/l(以金属离子计)的2价或高于2价的金属离子的可溶性盐用作阻聚剂，加水配制成浓度不低于0.1mol/l(以金属离子计)的盐溶液b；

C、用盐溶液a和盐溶液b在温度为10℃-80℃的条件下进行反应，得到反应混合物c；

D、将反应混合物c加热到60℃-95℃后，加入酸化剂进行酸化、并调节pH值为1-5，得到反应混合物d1，然后保温熟化3分钟-100分钟，制得反应混合物d2，酸化剂选用强酸溶液，包括硫酸、硝酸、盐酸、甲酸、乙酸或草酸，其浓度为15％-25％(wt)；

E、将反应混合物d2进行过滤、洗涤、干燥，制得沉淀二氧化硅。

下面对上述的步骤作更加具体的说明。

作为原料的碱金属的硅酸盐是硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂中的任意一种、任意两种的混合物或全部三种的混合物，最好为硅酸钠，也就是水玻璃，其摩尔模数(SiO₂/Na₂O)为2-3.6、比重为1.0-1.4、波美度为30-40、二氧化硅的重量百分含量为20-28％。

盐溶液a中二氧化硅浓度的大小主要是根据对将要制备的沉淀二氧化硅的性能参数的要求而定，为了得到一次粒径较小的二氧化硅，盐溶液a中二氧化硅的浓度为0.2-0.6mol/l。

根据不同的制备目的，可以先在盐溶液a中加入不同种类的表面活性剂，搅拌使其混合均匀，表面活性剂包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2～5％，优选0.25～3％。选择表面活性剂的标准要依据用来阻聚的阳离子的种类和C步骤中的工艺过程来确定。

根据对所要制备的沉淀二氧化硅的要求，用作阻聚剂的金属离子包括Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺、Cu²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺、Pb²⁺或Ni²⁺，优选Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺或Al³⁺金属离子，在保证与上述金属离子形成的相应的盐可溶于水的前提下，选用的阴离子包括SO₄ ^2-、NO₃ ^2-或Cl^-，所配制的盐溶液b的浓度在0.1mol/l-饱和溶液的范围中选择，优选0.2-1.5mol/l。

用于反应的盐溶液a和盐溶液b配制好之后，进入C步骤，该步骤中所发生的反应往往是Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺、Cu²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺、Pb²⁺或Ni²⁺多价金属离子、尤其是Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺或Al³⁺金属离子与碱金属的硅酸盐溶液发生沉淀反应，从而生成不溶性的硅酸盐沉淀物的过程。

在C步骤中盐溶液a和盐溶液b发生反应的过程有三种选择方式：

第一种选择方式是：在搅拌条件下将盐溶液b加入到盐溶液a中，直至反应混合物c的pH值为7-9，优选7.5-8，比较好的做法是在加入前，先用酸调节盐溶液b的pH值为3-6后，再加入到盐溶液a中；

同时可以先在盐溶液a中加入盐溶液a重量的0.2％-5％的阴离子表面活性剂，搅拌均匀，然后再加入已经酸化的盐溶液b；

还可以在盐溶液a中先加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2-5％，搅拌均匀后，再加入浓度为15％-20％(wt)的稀酸至pH值为8-11，最后加入盐溶液b，直至反应混合物c的pH值为7-8。

第二种选择方式是：将盐溶液a加入到盐溶液b中，直至反应混合物c的pH为7-9，比较好的做法是先用酸调节盐溶液b的pH值为3-6，然后加入盐溶液a；

反应结束后可以向反应混合液中加入阴离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，搅拌均匀，表面活性剂的用量为反应混合液总重量的0.2-5％，优选0.25-3％。

第三种选择方式是：将盐溶液a和盐溶液b同时加入到pH值为4-6的强酸稀溶液中，直至反应混合物c的pH值为7-10；

可以预先在盐溶液a中加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2-5％，优选0.25-3％。

第C步骤的反应温度优选50℃-70℃。

C步骤中制备的反应混合物c，可以先在与该步骤的反应温度相同的温度下保温熟化5分钟-60分钟，再进行D步骤，也可以比该步骤的反应温度高出10℃-20℃的温度下保温熟化10分钟-30分钟，再进行D步骤。

D步骤中得到的反应混合物d1，保温熟化的时间优选20分钟-60分钟。

第E步骤中，如果使用喷雾干燥，可以直接得到粉状或粒状的沉淀二氧化硅。为了得到改性产品，另一种做法是在过滤、洗涤之后，先将滤饼打浆，然后加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或者非离子表面活性剂进行改性，最后再进行干燥，表面活性剂的加入量为浆料中沉淀二氧化硅净重量的0.1％-3％，优选0.2％-1％。

如果要求产品中外加的金属离子的量比较小，洗涤时先用稀酸溶液洗涤，然后再用水洗，为了减少杂质成分，稀酸溶液所选用的酸的种类要和D步骤中酸化浸出金属离子时所使用的强酸的种类相同。

为了加强表面活性剂的使用效果，在盐溶液a中加入有机溶剂，有机溶剂包括醇类、酮类、醚类、环己烃或胺类有机物，其中醇类优选乙醇，酮类优选丙酮，醚类优选乙醚，有机溶剂的加入量为盐溶液a体积的5％-60％。

当然，在不使用表面活性剂的情况下，为了增强所制备的沉淀二氧化硅的分散效果，在盐溶液a或者反应混合物d1中加入有机物分散剂，有机物分散剂包括醇类分散剂或胺类分散剂，其加入量为盐溶液体积的0.2％-10％。

上述相关使用酸的工艺中，所使用的酸是无机酸或有机酸，无机酸包括硫酸、盐酸或硝酸，有机酸包括甲酸、乙酸或草酸，优选硫酸或盐酸。

用本发明所述的方法制备沉淀二氧化硅，其突出优点是能有效阻止硅酸迅速聚集、避免生成凝胶，Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺等这些金属离子和碱金属的硅酸盐溶液反应时生成不溶性的硅酸盐沉淀。Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺等这些金属离子在碱性条件下和硅酸作用，有效封闭位于聚硅酸核粒表面的硅氧四面体的游离顶硅羟，由于硅酸分子之间的聚集是通过硅氧四面体的游离顶硅羟之间的氢键完成的，所以，Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺等这些金属离子封闭位于聚硅酸核粒表面的硅氧四面体的游离顶硅羟之后，可以有效阻止硅酸的凝聚，起到分散作用。同时，在酸化剂酸化溶出这些金属离子的过程中，也能起到类似的作用。在一定的酸碱度下，这些金属离子的存在，可以改变二氧化硅的表面电性，使其能与阴离子表面活性剂作用，从而使一些阴离子表面活性剂在沉淀二氧化硅的制备过程中，起到对沉淀二氧化硅进行表面改性的作用，并在一定程度上屏蔽聚硅酸核粒表面的硅氧四面体的硅羟基，防止硅酸分子凝聚作用的发生。

特别是，本方法所使用的金属离子为多价金属，在沉淀凝聚的过程中，往往可以同时和多个硅酸分子作用而沉淀，这样当其被酸溶出之后，在原来金属离子存在的位置上就会留下空穴，因此就能起到造孔的作用，扩大沉淀二氧化硅微粒内部的孔容，从而能制备出一些特殊性能的沉淀二氧化硅，这些特殊性能的沉淀二氧化硅，在诸如橡胶等各种弹性体材料中，应用效果很好。同时，用本发明的方法也可以制备出各种性能参数的沉淀二氧化硅，广泛应用于塑料、涂料、油漆、日用化工、医药、农药等领域。

具体实施方式

例1

配制0.5mol/l的硫酸镁溶液，使用25％的硫酸溶液调节其pH值为3.5。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、二氧化硅含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.1mol/l的硅酸钠溶液，向1升0.1mol/l的硅酸钠溶液中加入50ml浓度为0.2mol/l的十二烷基苯磺酸钠，充分搅拌均匀，将加十二烷基苯磺酸钠的有硅酸钠溶液升温到70℃，在搅拌下，逐渐把经过酸化的0.5mol/l的硫酸镁溶液加入其中，维持温度不变，有白色沉淀物生成，直到反应混合物的pH值达到8.0，搅拌保温30分钟进行熟化，向悬浊液中加入1mol/l硫酸，调节pH值到2，在温度为70℃下保温熟化60分钟，抽滤浆料，并用水洗涤，得到的滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得白色块状的沉淀二氧化硅，质地疏松，十分容易粉化得到粉状沉淀二氧化硅。使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在1um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量            ≥90％

BET比表面积          320m²/g

吸油值DBP            3.71cm³/g

加热减量             5.68％

灼烧减量             3.85％。

例2

配制1mol/l的硫酸镁溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、二氧化硅含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.5mol/l的硅酸钠溶液，向1升该硅酸钠溶液中加入硅酸钠溶液重量0.6％的十八烷基三甲基氯化铵，使用1mol/l的盐酸溶液调节pH值为10.5，升温到70℃，在搅拌下，把1mol/l的硫酸镁溶液缓慢加入，并保持温度不变，直到溶液的pH值达到8.0，此过程中有白色沉淀物生成，混合完全之后得到白色悬浊液，向悬浊液中加入1mol/l硫酸，调节pH值到4，在温度为80℃下保温熟化60分钟，抽滤浆料，得到的滤饼用0.5mol/l的硫酸溶液洗涤两次，然后用水洗，滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得白色块状的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在1.4um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量               ≥90％

BET比表面积             179m²/g

吸油值DBP               2.67cm³/g

加热减量                4.56％

灼烧减量                3.25％。

例3

配制1mol/l的硫酸镁溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、二氧化硅含量为27％、比重为1.357的硅酸钾溶液稀释制成二氧化硅含量为1.3mol/l的硅酸钾溶液，在搅拌下，将该溶液缓慢加入到1升温度为70℃的1mol/l的硫酸镁溶液中，并保持温度不变，直到溶液的pH值达到8.0，此过程中有白色沉淀物生成，混合完全之后得到白色悬浊液，向悬浊液中加入1mol/l硫酸，调节pH值到4，在温度为80℃下保温熟化60分钟，按硅酸钾溶液重量的1.5％加入Span-80，搅拌10分钟，抽滤浆料，得到的滤饼用0.5mol/l的硫酸溶液洗涤两次，然后用水洗。滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得白色块状的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在2.5um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量                ≥90％

BET比表面积              192m²/g

吸油值DBP                2.53cm³/g

加热减量                 4.52％

灼烧减量                 3.20％。

例4

配制20℃的氯化钙饱和溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、二氧化硅含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.5mol/l的硅酸钠溶液，在搅拌下，将该溶液加入到1升饱和氯化钙溶液中，直到溶液的pH值为7.5，有白色的沉淀物生成，升温到65℃，搅拌保温熟化30分钟后，得到白色的悬浊液，升温到80℃后，加入1mol/l的盐酸溶液，调节pH值等于3，搅拌保温熟化50分钟后，静置到温度至室温时加入35ml乙二醇，搅拌10分钟，过滤，滤饼用1mol/l的盐酸溶液洗涤两次，然后用水洗，过滤后滤饼在温度为120℃烘箱内干燥4小时，即得白色块状的沉淀二氧化硅，十分疏松，易粉化，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在3.0um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量              ≥90％

BET比表面积              210m²/g

吸油值DBP                3.20cm³/g

加热减量                 4.53％

灼烧减量                 3.21％。

例5

配制1mol/l的氯化钙溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、二氧化硅含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.5mol/l的硅酸钠溶液，在搅拌下，将温度为20℃的该溶液加入到1升浓度为1mol/l、温度为20℃的氯化钙溶液中，直到溶液的pH值为7.5，有白色的沉淀物生成，升温到65℃，搅拌保温熟化30分钟后，得到白色的悬浊液，升温到90℃，加入1mol/l的盐酸溶液，调节pH值等于3，搅拌保温熟化50分钟后过滤，滤饼用1mol/l的盐酸溶液洗涤两次，然后用水洗，过滤后滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得白色块状的沉淀二氧化硅，十分疏松，易粉化，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在3.3um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量                     ≥90％

BET比表面积                   192m²/g

吸油值DBP                     2.71cm³/g

加热减量                      4.51％

灼烧减量                3.25％。

例6

配制0.5mol/l的氯化钡溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、SiO₂含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.2mol/l的硅酸钠溶液，向1升该溶液中加入50ml的丙三醇，充分搅拌均匀，在搅拌下，将加有丙三醇的硅酸钠溶液和适量的0.5mol/l的氯化钡溶液同时加入到200ml、pH值为6的硫酸溶液中，生成白色的沉淀物，直到悬浊液的pH值达到8.5，反应完全之后得到白色悬浊液，向悬浊液中加入1mol/l盐酸，调节pH值到2，在温度80℃下保温熟化60分钟，抽滤浆料，并用0.5mol/l的盐酸溶液洗涤两次，然后用水洗，滤饼在温度为120℃烘箱内干燥4小时，即得白色的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在0.38um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量                  ≥90％

BET比表面积                365m²/g

吸油值DBP                  3.77cm³/g

加热减量                   5.26％

灼烧减量                   4.23％。

例7

配制0.5mol/l的氯化钡溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、SiO₂含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.2mol/l的硅酸钠溶液，向1升该溶液中加入50ml的丙三醇，充分搅拌均匀，然后加入硅酸钠溶液重量的0.2％的十六烷基三甲基氯化铵。在搅拌下，将加有丙三醇、十六烷基三甲基氯化铵的硅酸钠溶液和适量的0.5mol/L的氯化钡溶液同时加入到200ml、pH值为6的硫酸溶液中，生成白色的沉淀物，直到悬浊液的pH值达到8.5，反应完全之后得到白色悬浊液，向悬浊液中加入1mol/l盐酸，调节pH值到2，在温度为80℃下保温熟化60分钟，抽滤浆料，并用0.5mol/l的盐酸溶液洗涤两次，然后用水洗，滤饼在温度为120℃烘箱内干燥4小时，即得白色的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在0.50um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量                  ≥90％

BET比表面积                358m²/g

吸油值DBP                  3.25cm³/g

加热减量                   5.70％

灼烧减量                   4.16％。

例8

配制0.1mol/l的氯化铝溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、SiO₂含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.2mol/l的硅酸钠溶液，向1升该溶液中加入50ml的正丁醇，充分搅拌均匀，在搅拌下，将浓度为0.1mol/l的氯化铝溶液缓慢加入到加有正丁醇的、温度为80℃的硅酸钠溶液中，加入过程中保持温度不变，随着氯化铝溶液的加入，生成白色的沉淀物，直到反应底液的pH值为7.8，氯化铝溶液加入结束之后，得到白色悬浊液，继续在温度为80℃下保温30分钟，向悬浊液中加入1mol/l盐酸，调节pH值到2，在温度为80℃下保温熟化60分钟，抽滤浆料并洗涤，滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得白色的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在3um，几个常见的物理化学指标为：

SiO₂含量                  ≥90％

BET比表面积                145m²/g

吸油值DBP                  3.21cm³/g

加热减量                   4.37％

灼烧减量                   3..43％。

例9

配制1mol/l的氯化钙溶液。

将模数(SiO₂/Na₂O)为3.2、SiO₂含量为27％、比重为1.357的硅酸钠稀释制成二氧化硅含量为0.5mol/l的硅酸钠溶液，在搅拌下，将溶液加入到1升浓度为1mol/l的氯化钙溶液中，有白色的沉淀物生成，直到悬浊液的pH值到8.5，搅拌10分钟，得到白色悬浊液，再加入1mol/l的盐酸溶液，调节溶液的pH值等于3，升温到80℃，保温搅拌30分钟后过滤，滤饼用1mol/l的盐酸溶液洗涤两次，然后用水洗掉杂质离子，滤饼用500ml的水打浆，然后加入含有1.2g阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵的水溶液，混合均匀，加热到30℃，在此温度下持续搅拌1小时-2小时，进行表面改性，抽滤浆料并洗涤，滤饼在温度为120℃的烘箱内干燥4小时，即得经过表面改性的沉淀二氧化硅，使用日本岛津SA-CP3离心沉降式粒度分布仪测试超声崩解之后的平均粒度d₅₀在1um。

Claims (20)

1、一种沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是包括以下的步骤：

A、将碱金属的硅酸盐加水溶解，配制成含有二氧化硅浓度为0.1mol/l-1.5mol/l的盐溶液a；

B、将浓度为0.2mol/l-1.5mol/l(以金属离子计)的2价或高于2价的金属离子的可溶性盐用作阻聚剂，加水配制成浓度不低于0.1mol/l(以金属离子计)的盐溶液b；

C、用盐溶液a和盐溶液b在温度为10℃-80℃的条件下进行反应，得到反应混合物c；

D、将反应混合物c加热到60℃-95℃后，加入酸化剂进行酸化、并调节pH值为1-5，得到反应混合物d1，然后保温熟化3分钟-100分钟，制得反应混合物d2，酸化剂选用强酸溶液，包括硫酸、硝酸、盐酸、甲酸、乙酸或草酸，其浓度为15％-25％(wt)；

E、将反应混合物d2进行过滤、洗涤、干燥，制得沉淀二氧化硅。

2、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是碱金属的硅酸盐是硅酸钠、硅酸钾、硅酸锂中的任意一种、任意两种的混合物或全部三种的混合物。

3、根据权利要求2所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是碱金属的硅酸盐是硅酸钠，其摩尔模数(SiO₂/Na₂O)为2-3.6、比重为1.0-1.4、波美度为30-40、二氧化硅的重量百分含量为20-28％。

4、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是先在盐溶液a中加入不同种类的表面活性剂，搅拌使其混合均匀，表面活性剂包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2-5％。

5、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是用作阻聚剂的金属离子包括Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Al³⁺、Cu²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺、Pb²⁺或Ni²⁺。

6、根据权利要求5所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是用作阻聚剂的金属离子是Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺或Al³⁺。

7、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是在C步骤中，在搅拌条件下将盐溶液b加入到盐溶液a中，直至反应混合物c的pH值为7-9。

8、根据权利要求7所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是先用酸调节盐溶液b的pH值为3-6后，再加入到盐溶液a中。

9、根据权利要求8所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是先在盐溶液a中加入盐溶液a重量的0.2％-5％的阴离子表面活性剂，搅拌均匀，然后再加入已经酸化的盐溶液b。

10、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是在盐溶液a中先加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2-5％，搅拌均匀后，再加入浓度为15％～20％(wt)的稀酸至pH值为8-11，最后加入盐溶液b，直至反应混合物c的pH值为7-8。

11、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是在C步骤中，将盐溶液a加入到盐溶液b中，直至反应混合物c的pH为7-9。

12、根据权利要求11所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是先用酸调节盐溶液b的pH值为3-6，然后加入盐溶液a。

13、根据权利要求11或12所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是反应结束后向反应混合液中加入阴离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，搅拌均匀，表面活性剂的用量为反应混合液总重量的0.2～5％。

14、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是将盐溶液a和盐溶液b同时加入到pH值为4～6的强酸稀溶液中，直至反应混合物c的pH值为7-10。

15、根据权利要求14所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是预先在盐溶液a中加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或非离子表面活性剂，表面活性剂的用量为盐溶液a重量的0.2～5％。

16、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是E步骤中，在过滤、洗涤之后，先将滤饼打浆，然后加入阳离子表面活性剂、两性表面活性剂或者非离子表面活性剂进行改性，最后再进行干燥，表面活性剂的加入量为浆料中沉淀二氧化硅净重量的0.1％-3％。

17、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是E步骤中，洗涤时先用稀酸溶液洗涤，然后再用水洗。

18、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是在盐溶液a中加入有机溶剂，有机溶剂包括醇类、酮类、醚类、环己烃或胺类有机物，有机溶剂的加入量为盐溶液a体积的5％～60％。

19、根据权利要求1所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是在盐溶液a或者反应混合物d1中加入有机物分散剂，有机物分散剂包括醇类分散剂或胺类分散剂，其加入量为盐溶液体积的0.2％-10％。

20、根据权利要求8、10、12、14或17所述的沉淀二氧化硅的制备方法，其特征是所使用的酸是无机酸或有机酸，无机酸包括硫酸、盐酸或硝酸，有机酸包括甲酸、乙酸或草酸。