CN1603264A - 截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明属于建筑玻璃材料、汽车用玻璃材料和照明灯具玻璃技术领域。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是：玻璃基片上镀有红外线反射膜层和紫外线截止膜层。紫外线截止膜层为氧化钛－氧化铈膜层，氧化钛和氧化铈的质量比例为10－90％∶10－90％。红外线反射膜层为透明宽带隙半导体氧化物膜层，透明宽带隙半导体氧化物膜层为下列3种之一：(a).In₂O₃∶Sn膜层，(b).SnO₂∶Sb膜层，(c).ZnO∶Al膜层；In₂O₃∶Sn膜层中，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％；SnO₂∶Sb膜层中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％；ZnO∶Al膜层中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％。本发明紫外线截止率高，不影响玻璃的可见光透射率；并且具有节能功能。其制备方法简单。

Description

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃及其制备方法

技术领域

本发明属于建筑玻璃材料、汽车用玻璃材料和照明灯具玻璃技术领域，具体涉及一种用磁控溅射法在玻璃基片上镀制截止紫外线/反射红外线双重功能膜层的玻璃及其制备方法。

背景技术

紫外线会使高分子有机物老化。在一些特殊的场合需要阻止紫外线从玻璃射入或射出。居室、博物馆、汽车内的物质，例如：纸张、织物、某些珍贵文物等在紫外线的照射下会老化、变质。

目前，制备阻挡紫外线玻璃的方法是，在玻璃组分中添加铈离子，Ce⁺³起强的空穴俘获中心的作用，Ce⁺⁴起强的俘获电子的作用，这样就使照射所产生的电子和空穴被铈离子俘获，它们的吸收带正好处于紫外区。紫外线被阻挡的量与玻璃厚度和铈的掺入量有关。存在的问题是，尽管铈离子吸收紫外线，但是还会有部分透射玻璃；另外，用熔制法制备玻璃吸收紫外线，工艺复杂，铈离子的添加量不易控制。

红外线会通过玻璃传递，夏季使室内温度升高，冬季使室内取暖的热量流向室外，二者都会使空调的制冷或制热电能增加。在玻璃上镀氧化物反射红外线膜，可以达到节能的目的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃及其制备方法，截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的紫外线截止率高，不影响玻璃的可见光透射率；并且具有节能功能。其制备方法简单。

为了实现上述目的，本发明的技术方案是：截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是：玻璃基片上镀有红外线反射膜层和紫外线截止膜层，紫外线截止膜层位于玻璃基片的最外层或者红外线反射膜层位于玻璃基片的最外层。

所述的紫外线截止膜层为氧化钛-氧化铈膜层，氧化钛-氧化铈膜层中，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛10-90％，氧化铈10-90％。

所述的有氧化钛-氧化铈膜层厚度为：10～500纳米。

所述的红外线反射膜层为透明宽带隙半导体氧化物膜层，透明宽带隙半导体氧化物膜层为下列3种之一：(a).ITO(In₂O₃∶Sn)膜层，(b).SnO₂∶Sb膜层，(c).ZnO∶Al膜层；所述的In₂O₃∶Sn膜层中，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％；所述的SnO₂∶Sb膜层中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％；所述的ZnO∶Al膜层中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％。

所述的红外线反射膜层厚度为：10～500纳米。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，其特征是包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛10-90％，氧化铈10-90％；透明宽带隙半导体氧化物靶材为下列3种之一：(a).In₂O₃和Sn靶材，(b).SnO₂和Sb靶材，(c).ZnO和Al靶材；所述的In₂O₃和Sn靶材中，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％，所述的SnO₂和Sb靶材中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％，所述的ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气或在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压范围为0.10Pa-3.0Pa，溅射时氩氧混合气体中氧气所占质量百分比为0＜至≤90％；采用下述两种方式之一进行镀膜：(a).先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，在此基础上，再由透明宽带隙半导体氧化物靶材进行磁控溅射镀外层膜得产品；(b).先由透明宽带隙半导体氧化物靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，在此基础上，再由氧化钛-氧化铈靶材进行磁控溅射镀外层膜得产品。

所述的步骤玻2)中的玻璃基片镀膜时采用在线加热，热处理温度为20～800℃。

所述的步骤玻2)中得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用离线热处理，热处理温度为20～800℃，热处理时间为10-120分钟。

本发明用磁控溅射法在玻璃基片上镀有红外线反射膜层和紫外线截止膜层，紫外线截止膜层除铈离子吸收紫外线外，Ti离子在波长为380nm左右也有强烈吸收，Ti和Ce离子复合，能完全截止紫外线，紫外线截止率高，不影响可见光透过率。在玻璃基片上镀有红外线反射膜层，能够反射红外线，具有节能功能。本发明可以使玻璃同时具有截止紫外线和反射红外线双重功能。本发明的制备方法与现有的在玻璃组分中添加铈离子熔制玻璃制备的紫外线吸收玻璃相比，具有工艺简单灵活的特点。采用在线加热或离线热处理可以使膜与玻璃的结合更加牢固，可以使薄膜的析晶更加完整。

镀膜玻璃能够完全截止紫外线，根据膜层的厚度调节镀膜玻璃的可见光透射率在30～85％变化，镀膜玻璃的反射色从淡黄到浅黄变化；避免紫外线透过玻璃而使室内的物质老化、变质；同时镀膜玻璃对波长大于2.5微米的红外线反射率大于75％，达到阻止热量从玻璃传递的目的；使该镀膜玻璃具有截止紫外线/反射红外线双重功能。在建筑玻璃、汽车玻璃和灯具玻璃工业方面具有广泛的应用，前景广阔。

具体实施方式

实例1：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为1/3；透明宽带隙半导体氧化物靶材为In₂O₃和Sn靶材，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％∶50.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa；先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，膜层厚度为210nm，在此基础上，再由In₂O₃和Sn靶材继续镀膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，In₂O₃∶Sn膜层厚度为180nm。由镀膜设备中的膜厚控制仪控制膜层厚度。

(3).对得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用不在线加热——指镀膜过程中玻璃不被加热，加热温度为200℃，加热时间为30分钟。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(In₂O₃∶Sn膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率78％，380nm以下波长的紫外线截止99.9％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于81％；膜层反射色呈淡黄。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例2：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为1/3；透明宽带隙半导体氧化物靶材为In₂O₃和Sn靶材，In₂O₃∶Sn的质量比例为99.0∶1.0；

(2).磁控溅射镀膜：在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa，溅射时氩氧混合气体中质量比例为氧气∶氩气＝1∶20；先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，膜层厚度为210nm，在此基础上，再由In₂O₃和Sn靶材继续镀膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，In₂O₃∶Sn膜层厚度为180nm。

(3).对得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用不在线加热，加热温度为800℃，加热时间为10分钟。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(In₂O₃∶Sn膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率80％，380nm以下波长的紫外线截止97％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于79％；膜层反射色呈淡黄。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例3：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为3/2；透明宽带隙半导体氧化物靶材为ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％％∶15.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa，溅射时氩氧混合气体中质量比例为氧气∶氩气＝1∶20；先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，氧化钛-氧化铈膜层厚度为210nm；在此基础上，再由ZnO和Al靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，ZnO∶Al膜层厚度为210nm。

(3).对得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用不在线加热，加热温度为20℃，加热时间为120分钟。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(ZnO∶Al膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率78％，380nm以下波长的紫外线截止98％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于79％；膜层反射色呈淡黄。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例4：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，其特征是包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为3/2；透明宽带隙半导体氧化物靶材为ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的质量比例为99.9％∶0.1％％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa，先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，氧化钛-氧化铈膜层厚度为210nm；在此基础上，再由ZnO和Al靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，ZnO∶Al膜层厚度为180nm。

(3).对得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用不在线加热，加热温度为100℃，加热时间为60分钟。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(ZnO∶Al膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率78％，380nm以下波长的紫外线截止99.9％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于76％；膜层反射色呈淡黄。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例5：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为3/2；透明宽带隙半导体氧化物靶材为SnO₂和Sb靶材，SnO₂和Sb靶材中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％∶20.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa，先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，氧化钛-氧化铈膜层厚度为210nm，在此基础上，再由SnO₂和Sb靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，SnO₂∶Sb膜层厚度为180nm；采用玻璃基片在线加热，玻璃基片进入镀膜室开始，到镀二层膜结束，一直加热，加热温度为220℃。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(SnO₂∶Sb膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率78％，380nm以下波长的紫外线截止99.9％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于75％；膜层反射色呈淡黄绿。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例6：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，靶材中氧化铈和氧化钛的质量比为3/2；透明宽带隙半导体氧化物靶材为In₂O₃和Sn靶材，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％∶50.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.4Pa，溅射时氩氧混合气体中氧气所占质量百分比为5％；先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，氧化钛-氧化铈膜层厚度为210nm，在此基础上，再由In₂O₃和Sn靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，In₂O₃∶Sn膜层厚度为180nm；采用玻璃基片在线加热，玻璃基片进入镀膜室开始，到镀二层膜结束，一直加热，加热温度为20℃。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为氧化钛-氧化铈膜层，外层为反射红外线膜层(In₂O₃∶Sn膜层)。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率80％，380nm以下波长的紫外线截止97％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于79％；膜层反射色呈淡黄。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例7：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛10％，氧化铈90％；透明宽带隙半导体氧化物靶材为SnO₂和Sb靶材，SnO₂和Sb靶材中，SnO₂∶Sb的质量比例为99.9％∶0.1％；

(2).磁控溅射镀膜：在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为0.10Pa，溅射时氩氧混合气体中质量比例为氧气∶氩气＝0.01∶1；先由SnO₂和Sb靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，SnO₂∶Sb膜层厚度为10nm，在此基础上，再由氧化钛-氧化铈靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，氧化钛-氧化铈膜层厚度为10nm；采用玻璃基片在线加热，玻璃基片进入镀膜室开始，到镀二层膜结束，一直加热，加热温度为800℃。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为反射红外线膜层(SnO₂∶Sb膜层)，外层为氧化钛-氧化铈膜层。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率85％，380nm以下波长的紫外线截止95％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于76％。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例8：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛90％，氧化铈10％；透明宽带隙半导体氧化物靶材为In₂O₃和Sn靶材，In₂O₃和Sn靶材中，In₂O₃∶Sn的质量比例为60.0％∶40.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为3.0Pa，溅射时氩氧混合气体中质量比例为氧气∶氩气＝0.9∶1；先由In₂O₃和Sn靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，In₂O₃∶Sn膜层厚度为500nm，在此基础上，再由氧化钛-氧化铈靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，氧化钛-氧化铈膜层厚度为500nm。

(3).对得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用不在线加热，加热温度为220℃，加热时间为40分钟。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为反射红外线膜层(In₂O₃∶Sn膜层)，外层为氧化钛-氧化铈膜层。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率80％，380nm以下波长的紫外线截止99％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于86％。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。

实例9：

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛50％，氧化铈50％；透明宽带隙半导体氧化物靶材为ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的质量比例为90.0％∶10.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压为2.0Pa，先由ZnO和Al靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，ZnO∶Al膜层厚度为500nm，在此基础上，再由氧化钛-氧化铈靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，氧化钛-氧化铈膜层厚度为10nm；采用玻璃基片在线加热，玻璃基片进入镀膜室开始，到镀二层膜结束，一直加热，加热温度为600℃。

截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃内层为玻璃基片，中间为反射红外线膜层(ZnO∶Al膜层)，外层为氧化钛-氧化铈膜层。截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的性能如下：可见光透过率80％，380nm以下波长的紫外线截止96％；波长大于2.5微米的红外线反射率大于86％。镀膜玻璃的理化性能符合“镀膜玻璃理化性能测试标准”中规定的国家标准。本发明的镀膜玻璃不仅具有截止紫外线功能，还同时具有反射波长大于2.5微米红外线的能力，并且有与玻璃基片相一致的可见光透过率。

Claims (8)

1.截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是：玻璃基片上镀有红外线反射膜层和紫外线截止膜层，紫外线截止膜层位于玻璃基片的最外层或者红外线反射膜层位于玻璃基片的最外层。

2.根据权利要求1所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，其特征是：所述的紫外线截止膜层为氧化钛-氧化铈膜层，氧化钛-氧化铈膜层中，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛10-90％，氧化铈10-90％。

3.根据权利要求2所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，其特征是：所述的有氧化钛-氧化铈膜层厚度为：10～500纳米。

4.根据权利要求1所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，其特征是：所述的红外线反射膜层为透明宽带隙半导体氧化物膜层，透明宽带隙半导体氧化物膜层为下列3种之一：(a).In₂O₃∶Sn膜层，(b).SnO₂∶Sb膜层，(c).ZnO∶Al膜层；所述的In₂O₃∶Sn膜层中，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％；所述的SnO₂∶Sb膜层中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％；所述的ZnO∶Al膜层中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％。

5.根据权利要求4所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃，其特征是：所述的红外线反射膜层厚度为：10～500纳米。

6.截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，其特征是包括如下步骤：

1).首先对待镀膜玻璃基片进行清洗、干燥后，进行预真空过渡；

2).然后采用磁控溅射镀制方法镀制膜层：(1).配制2种靶材：氧化钛-氧化铈靶材由氧化钛和氧化铈组成，氧化钛和氧化铈各组份所占质量百分比为：氧化钛10-90％，氧化铈10-90％；透明宽带隙半导体氧化物靶材为下列3种之一：(a).In₂O₃和Sn靶材，(b).SnO₂和Sb靶材，(c).ZnO和Al靶材；所述的In₂O₃和Sn靶材中，In₂O₃∶Sn的质量比例为50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％，所述的SnO₂和Sb靶材中，SnO₂∶Sb的质量比例为80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％，所述的ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的质量比例为85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％；

(2).磁控溅射镀膜：在纯氩气或在氧氩混合气体氛围中对玻璃基片进行磁控溅射镀膜，溅射气压范围为0.10Pa-3.0Pa，溅射时氩氧混合气体中氧气所占质量百分比为0＜至≤90％；采用下述两种方式之一进行镀膜：(a).先由氧化钛-氧化铈靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，在此基础上，再由透明宽带隙半导体氧化物靶材进行磁控溅射镀外层膜得产品；(b).先由透明宽带隙半导体氧化物靶材对玻璃基片进行磁控溅射镀内层膜，在此基础上，再由氧化钛-氧化铈靶材进行磁控溅射镀外层膜得截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃。

7.根据权利要求6所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，其特征是：所述的步骤玻2)中的玻璃基片镀膜时采用在线加热，热处理温度为20～800℃。

8.根据权利要求6所述的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃的制备方法，其特征是：所述的步骤玻2)中得到的截止紫外线/反射红外线双重功能镀膜玻璃采用离线热处理，热处理温度为20～800℃，热处理时间为10-120分钟。