CN1751005A - 用于生产具有中等折射指数的光学层的蒸汽沉积材料 - Google Patents

用于生产具有中等折射指数的光学层的蒸汽沉积材料 Download PDF

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Abstract

本发明涉及用于生产平均折射率光学层的蒸发材料，它含有氧化铝和氧化钆，氧化镝和/或氧化镱。本发明还涉及它的生产方法和它的用途。

Description

用于生产具有中等折射指数的光学层 的蒸汽沉积材料
本发明涉及用于生产具有中等折射指数的光学层的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和氧化钆，氧化镝和/或氧化镱。
为了表面的保护或为了实现某些光学性质，光学组件一般被提供有薄涂层。这些光学组件包括，例如，光学透镜，柔性焦距透镜组，照相机的透镜，双目望远镜或对于其它光学仪器，光束分离器，棱镜，反光镜，窗户窗格玻璃等等。
这些涂层能够通过硬化和/或提高该化学品对机械、化学品或环境影响的损害作用的耐受性而被用于该表面的处理。然而在很多情况下，这一表面涂层的目标是降低反射，它尤其被施涂到柔性焦距透镜组，摄影镜头等等上。然而，还存在着其中希望有提高的反射率的一些应用或另外必须具有所限定的折射指数或吸收性能的光学层，例如用于干涉镜，光束分离器，滤热器或冷光镜的生产。此类层的最佳性能一般通过选择合适的涂料，各层厚度以及包括(若合适的话)具有不同折射指数的不同材料的单层-或多层结构来设定。因此，例如，在反射率降低型涂层中，有可能在整个可见辐射谱中实现低于1％的反射率减少。
已知的是，上述涂层能够通过施涂不同材料的薄层来生产，该不同材料尤其包括氧化物，如SiO2，TiO2，ZrO2，MgO，Al2O3，而且包括氟化物，如MgF2，以及这些物质的混合物。
涂料在这里根据目标光学性质和根据材料的加工性能来选择。
光学基材的涂敷通常通过使用高真空蒸汽沉积方法来进行。在这一方法中，首先将基材和含有蒸汽沉积物质的烧瓶放置于合适的高真空蒸汽沉积装置中，该装置随后被抽空，和该蒸汽沉积物质通过加热和/或电子束轰击而蒸发，其中蒸汽沉积材料以薄层形式沉淀在基材表面上。相应的装置和方法是普通的先有技术。
已知的是此类物质的仅仅有限的选择，它们适合于中等折射指数的涂层的生产，一般具有在1.6和1.9之间的折射指数。所使用的起始原料是，例如，铝，镁，钇，镧和镨的氧化物，以及氟化铈，氟化镧或它们的混合物。
然而，用于中等折射指数的层的生产中的优选起始原料是氧化铝。
虽然这些材料本身适合用于中等折射指数的层的生产，但是它们具有许多缺点，使得它们的实际用途变得更困难。
因此，这些物质具有，例如，高熔点和沸点，它们常常也是致密的。然而为了改进可用性，起始原料需要在蒸发开始之前完全地熔化，因为仅仅以这一方式才能确保均匀的和足够的蒸发速度。这是均匀和一致厚的层的沉积的先决条件。
然而，氧化镁和氧化钇在常用的工作条件下不会完全地熔化，例如由于氧化钇的升华趋势，使得难以充分蒸发，意味着用它所生产的层一般在层厚度上有变化。对于氧化镁和氧化镧，汽相淀积伴随着多孔层的形成，后者吸收水分和因此变得不稳定。另外，MgO以碳酸盐形式结合来自于湿空气中的CO2。氟化铈和氟化镧也形成不均匀的层，不具有必不可少的硬度和耐久性。
对于需要在1.7和1.8之间的折射指数的专门应用，例如氧化铝(n＝1.63)和氧化钇(n＝1.85)不能以纯净形式使用。
因此之故，已经有很多的尝试利用合适添加剂来降低基体材料的熔点。同时，折射指数也能够具体地通过添加剂的添加来设定。
然而，当选择所要添加的材料时，必须指出，只有在宽范围的辐射谱中不具有或没有显著吸收的材料是合适的。这里特别重要的是没有从近红外区经由可见光谱区到接近UV波长范围(至多约200nm)的吸收。因此之故，例如氧化镨和氧化钕不适合用作添加剂，因为它们在这一范围内具有最大吸收。
然而，混合体系的使用也由于其它方面的理由被证明是困难的，因为混合体系在很多情况下非一致性地蒸发，即在蒸发过程中它们的组成发生变化。然而，沉积层的组成也会随着改变。所形成的不均匀层不再具有可再现的均匀的折射指数。如果，按照一般的常规，包括多个层的层体系被施涂于基材上，则这一问题似乎更加突出。
US3,934,961公开了三层抗反射涂层，在该基材上的第一层由氧化铝和氧化锆组成。因此有可能设定在1.63和1.75之间的中等折射指数的各个层。虽然这一类型的层在可见光谱区中没有显示出吸收，但是，然而在实践中已经发现，金属氧化物不均匀地蒸发和因此导致不均匀的层。
DE-A 42 19 817描述了用于中等折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料，它由通式La1-xAl1+xO3的化合物组成，其中x＝0-0.84。这一化合物是从氧化镧和氧化铝的混合物制备的。然而，氧化镧包含会导致了提高的对潮湿大气的敏感性，因为氧化镧吸收水分。仅仅为了最大程度减少相关的加工问题，因此需要在制备过程中尽可能早地以及在蒸汽沉积材料的加工过程中较迟地采取复杂措施。然而，所形成的层在任何情况下在提高的大气湿度水平下是不稳定的。另外，镧具有自然放射性同位素，它用作γ射线发射体和能够对于在从上述化合物生产的光学层中的敏感组件例如检测器引起缺陷和损害。附加的缺点在于混合物在蒸发之前接受1600℃或更高的烧结温度，这会引起对于所使用的设备和装置的损坏，例如对于熔化坩埚和加热盘管的损坏。
根据日本公开说明书JP-A-2000-171609，通式Sm1-xAl1+xO3的化合物，其中-1＜x＜1，用于中等折射指数的层的生产。这一材料在蒸发过程中不会改变它的组成，但是由于钐离子而具有在约400nm的波长下的吸收谱带，这限制在可见光谱区外的使用，尤其在紫外线里光谱区中。另外，钐也具有自然放射性同位素，它以15％的高相对频率存在并且，作为α发射体，同样具有以上早已描述的缺点。为了烧结混合物，约1500℃的温度是需要的。
镧系元素中的元素的其它氧化物在光学层中作为单一物质使用。
因此，例如，US4,794,607描述了具有氧化钆的减反射层的半导体激光器。氧化铝的薄中间层提高了氧化钆层对激光的附着性。能够用氧化钆层达到的折射指数没有进行描述。
DE-A 33 35 557公开了具有约1.6的折射指数的合成树脂透镜，它包括在反射率减少用的多层体系中的一层中的氧化镱。能够用这一氧化镱层达到的折射指数没有提及。氧化镱与其它物质的混合物没有进行描述。
本发明的目的是提供用于具有中等折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料，它具有高耐久性，对水分、酸和碱不敏感，具有低放射性，在宽的光谱范围中是透明的和不吸收的，在熔化和蒸发过程中不改变它的最初组成，仅仅需要较低的烧结温度，以及借助于它能够获得中等折射指数的层，后者具有上述性能：折射指数可以具体地设定在1.7和1.8之间。
根据本发明的目的可通过用于中等折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料来实现，它包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物。
根据本发明的目的也可通过用于中等折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料的制备方法来实现，其中氧化铝与选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
另外，本发明涉及包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物的蒸汽沉积材料用于中等折射指数的光学层的生产中的用途。
根据本发明的蒸汽沉积材料包括氧化铝和选自氧化钆(Gd2O3)、氧化镝(Dy2O3)和氧化镱(Yb2O3)中的至少一种化合物。这里的混合物的摩尔组成决定了能够利用蒸汽沉积材料生产的层的折射指数。纯氧化铝导致层的折射指数为约1.63。这对于需要1.7到1.8的折射指数的某些应用是太低的。氧化钆、氧化镝或氧化镱的纯层的折射指数，取决于层厚度和施涂法，在1.55和1.85之间变化。这些物质的添加因此在大多数情况下使得折射指数得以提高，与纯氧化铝的层相比。
混合物的摩尔组成因此根据必不可少的折射指数来设定。它能够在宽的范围内变化并且在二元混合物中是1∶99到99∶1(mol％)。如果使用选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的多种化合物，则这些成分的每一种是以对于三元混合物而言的至多98mol％的量存在和对于四元混合物而言至多97mol％的量存在。
20-80mol％的氧化铝和80-20mol％的选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物的比率在这里是特别理想的，但尤其是40∶60到60∶40的比率。
除了所需折射指数的可靠的设定(在1.7和1.8之间的范围内)之外，这一混合物还带来了与氧化钆、氧化镝或氧化镱的纯层相比而言的不一般的经济优点，因为氧化铝是更容易获得的和价格比较低廉的。
氧化铝与氧化钆和/或氧化镝和/或氧化镱的三元或四元混合物的使用能够有利于折射指数的精确控制。在能够设定的1.6-1.9范围内的中等折射指数的变化幅度因此得以提高。
除了能够生产出具有在预先确定的范围内的折射指数的层的可能性之外，根据本发明的蒸汽沉积材料还具有许多其它优点。虽然它们是混合物，但是它们均匀地蒸发，即在蒸发过程中它们的组成几乎保持不变。中等折射指数的均质层因此能够可再现地生产。如果具有不同折射指数的各种材料的多层体系是一种在另一种的表面上沉积而成，则是特别理想的。另外，与最初计算的系统值的显著偏差将通过中等折射指数的层的数量来产生。
所获得的光学层在宽的光谱范围中是透明的，即从约250nm到约7μm，并且在这一范围内仅仅具有极低的吸收。尤其在可见里光谱区中，它们完全没有吸收。这使得它们特别适合用于偏振光束分离器和二向色滤光片。
根据本发明的蒸汽沉积材料进一步具有改进的耐久性，它主要在潮湿-温暖的环境中具有积极效果。因为起始原料对于大气湿度是稳定的，它们处理起来简单并且在蒸汽沉积材料的制备和进一步加工中不需要采取特殊的保护措施。此外，用这些材料所生产的光学层突出表现于在潮湿-温暖大气中的高稳定性和对于酸和碱的高稳定性。
本发明的蒸汽沉积材料的附加优点在于所使用的物质不具有放射性同位素。蒸汽沉积材料本身或用其生产的层因此都不发出放射线，意味着安全措施是不必要的并且预计在这方面对于与该层接触的光学组件或检测器没有损坏。
根据本发明的蒸汽沉积材料通过一种方法制备的，其中氧化铝与选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
在这里的起始组分的摩尔混合比取决于用该混合物施涂所形成的层的目标折射指数并能够在宽范围内变化，即对于二元混合物而言从1∶99到99∶1mol％和对于在三元混合物中这些氧化物中的一种是以至多98mol％的比率以及对于四元混合物而言至多97mol％的比率。
20-80mol％的氧化铝和80-20mol％的选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物的比率在这里是特别理想的，但尤其是40∶60到60∶40的比率。
这些组分彼此彻底地混合，随后利用本身已知的合适压缩措施来压缩和成型。然而，也有可能在合适的载体中制备混合组分的悬浮液，它被成型和随后干燥。合适的载体是，例如，水，如果需要，可以在其中添加粘结剂如聚乙烯醇，甲基纤维素或聚乙二醇，和，如果需要，添加助剂，例如润湿剂或防沫剂。在悬浮操作之后是成型。在这种情况下，各种已知的技术，如挤出、注塑或喷雾干燥，都能使用。所获得的成型体进行干燥和脱除粘结剂(例如通过烧除)。这是为了混合物的更好处置和计量来进行的，因此还能够实现连续蒸汽沉积过程。混合物所转化成的成型体因此没有限制。合适的成型体是促进简单处置和良好计量的全部那些成型体，它们在采用根据本发明蒸汽沉积材料的基材的连续涂敷中和在为此目的所需的补给过程(replenishmentprocess)中起着特殊作用。优选的成型体因此是各种片状成型体，丸，盘形，截头圆锥体，晶粒或微粒，棒条体或珠粒。
成型的混合物随后烧结。在这里的烧结过程能够在各种条件下进行。一般说来，根据本发明的蒸汽沉积材料在空气中烧结。然而，该烧结过程也能够在减压下或在惰性气体例如氩气中进行。特别理想的是，所需的烧结温度在一些情况下显著低于用于现有技术的中等折射指数的层的其它合适蒸汽沉积材料。它们在空气中或在减压下或在惰性气体中是大约1300-1600℃。这些较低温导致了设备和装置例如熔化坩埚和加热盘管的较低热负荷，意味着它们的寿命得以延长。
所形成的成型的烧结产品在贮存、运输和引入到蒸发装置中的过程中保持了它们的形状，并且在整个后续的熔化和蒸发过程中在它们的组成上是稳定的。
在烧结和冷却之后，根据本发明的蒸汽沉积材料即可用于具有在1.6和1.9之间的折射指数的中等折射指数的光学层的生产。
根据本发明的蒸汽沉积材料可用于涂敷所有合适的基材，后者由已知的合适材料例如各种玻璃或塑料组成，并且呈现窗格，棱镜，薄片，成型基材如透镜、柔性焦距透镜组、摄影镜头等的形状。它们的性质，尺寸，形状，材料和表面质量没有限制并且仅仅受到基材在涂敷装置中的可用性的限制，因为基材能够被引入到该装置中并且必须在其中遇到的温度和压力条件下保持稳定。已证明理想的是在涂敷操作之前和过程中加热该基材，因此蒸汽沉积材料接触到预热基材。然而，这一措施本身是现有技术中已知的。
所使用的蒸汽沉积过程通常是高真空的蒸汽沉积过程，其中在合适烧瓶(它已知为蒸发坩锅或蒸发舟皿)中的蒸汽沉积材料与所要涂敷的基材一起被引入到真空装置中。
该装置随后被抽空，并且该蒸汽沉积材料通过加热和/或电子束轰击来引起蒸发。该蒸汽沉积材料是以薄层形式沉淀在基材上。
在蒸发过程中，添加氧以便确保各层的完全氧化。此外，在涂敷操作中能够进行基材的离子轰击(离子辅助的沉积，等离子体辅助的沉积)，以便提高各层的密度和以便改进粘合性，尤其对于未加热基材的粘合性。
多个的层常常一个在另一个之上地被沉积在基材上。通过各层的折射指数的适当选择，因此有可能具体地设定所需的光学性质，例如反射减少，反射增加或为整个体系的预定折射指数的设定。然而，在光学基材上这一类型的多层排列在一段时间以来本身是已知的并且常常使用。
根据本发明的蒸汽沉积材料可用于在合适基材上生产粘附的中等折射指数的光学层，后者在宽的光谱范围中是非吸收的，是透明和均匀的，具有在约1.6到约1.9范围内的中等折射指数，在潮湿-温暖环境中是稳定的和对酸和碱是稳定的以及不发出放射性辐射。
本发明在下面利用多个实施例来解释，但本发明不限于实施例。
实施例1
Al2O3和Dy2O3的混合物
21.11g的氧化铝(50mol％)和77.21g的氧化镝(50mol％)彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1300℃下在空气中锻烧4小时。在冷却之后，该片被引入电子束蒸发器例如Leybold A700Q装置的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约300℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力，以实现完全氧化。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约280nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。层厚度通过使用振动石英层厚度测量仪器来测定。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.70的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1％。
实施例2
Al2O3和Yb2O3的混合物
20.11g的氧化铝(50mol％)和81.57g的氧化镱(50mol％)彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1300℃下在空气中锻烧4小时。冷却的片随后被引入电子束蒸发器例如Leybold A700Q蒸汽沉积装置的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约300℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约280nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.76的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1％。
实施例3：
Al2O3和Gd2O3的混合物
21.56g的氧化铝(50mol％)和76.67g的氧化钆(50mol％)彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1300℃下在空气中锻烧4小时。在冷却之后，该片被引入在LeyboldA700Q蒸汽沉积装置中的电子束蒸发器的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约300℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约240nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.71的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1％。
实施例4：
Al2O3和Yb2O3的混合物
14.46g的氧化铝(40mol％)和83.65g的氧化镱(60mol％)彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1300℃下在空气中锻烧4小时。在冷却之后，该片被引入在LeyboldA700Q蒸汽沉积装置中的电子束蒸发器的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约300℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约240nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.80的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1。
实施例5：
Al2O3、Dy2O3和Gd2O3的混合物
21.7wt％(50mol％)的氧化铝，39.69wt％(25mol％)的氧化镝和38.57wt％(25mol％)的氧化钆彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1500℃下在空气中锻烧4小时。在冷却之后，该片被引入在Leybold L560蒸汽沉积装置中的电子束蒸发器的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约250℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约270nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.72的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1。
实施例6：
Al2O3、Dy2O3、Gd2O3和Yb2O3的混合物
21.31wt％(50mol％)的氧化铝，25.97wt％(16.66mol％)的氧化镝，25.42wt％(16.66mol％)的氧化钆和27.47wt％(16.68mol％)的氧化镱彼此彻底地混合，直至形成均匀混合物为止。这一混合物被成型为片，它在1500℃下在空气中锻烧6小时。在冷却之后，该片被引入在Leybold L560蒸汽沉积装置中的电子束蒸发器的坩锅中。将石英玻璃和眼镜冕玻璃BK7的纯化基材放入到该装置的基材夹持器中。该装置被抽空到2×10-3Pa的压力。基材被加热至约250℃。氧然后进入该装置到达到2×10-2Pa的压力。蒸汽沉积材料的片随后被加热到约2100℃的蒸发温度，和具有约290nm厚度的层被蒸汽沉积在基材上。在冷却之后，该装置用空气充填，并且取出已涂敷的基材。使用分光光度计测量透射和反射光谱，并从其计算层厚度和折射指数。所施涂的层是均匀的并在500nm的波长下具有1.73的折射指数。在300-900nm范围内的吸收被测得是低于1％。
耐久性试验：
在实施例1到4中获得的涂敷基材进行各个耐久性试验。在这些中，基材在各种条件下在各种介质中贮存。
贮存在： 条件：
去离子水 在室温下6小时
沸腾的去离子水 10分钟
盐水溶液 在去离子水中4.5wt％，6小时，室温
盐酸溶液 0.01摩尔浓度，在室温下6小时(pH 2)
氢氧化钠溶液 0.01摩尔浓度，在室温下6小时(pH 12)
结果：在各自试验之后在任何样品玻璃中没有观察到施涂层的脱离。斑点和/或雾化不是明显的。
透射和反射光谱的分析：
对于在实施例1到4中获得的涂敷基材和由涂有Al2O3的石英基片组成的对比样品，透射和反射光谱是在上述耐久性试验之后进行测定并与未试验的基材的透射和反射光谱比较来进行评价。获得下列结果：
试验                                 物质
    Al2O3/Yb2O3     Al2O3/Dy2O3     Al2O3/Gd2O3     Al2O3
去离子水     +     +     +     +
沸煮试验     +     +     +     -
NaCl溶液     +     +     +     +
HCl溶液     -     +     ？     ？
NaOH溶液     +     +     +     -
+未改变的光谱
-显著改变的光谱
？多少改变的光谱
根据这些结果，Al2O3/Dy2O3的层显示出关于它们的机械耐久性和在接触到潮湿-温暖环境或接触到酸和碱之后谱的可变性而言的最佳结果。尤其，它们比纯Al2O3的层更耐久。包括氧化镱和氧化钆组分的层比Al2O3/Dy2O3的层更耐久，但显著地好于纯Al2O3的层。

Claims (16)

1.用于中等折射指数的光学层的生产中的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物。
2.根据权利要求1的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的一种化合物。
3.根据权利要求1的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的两种化合物。
4.根据权利要求1的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝以及氧化钆、氧化镝和氧化镱。
5.根据权利要求1或2的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和氧化镝。
6.根据权利要求1、2或5中一项的蒸汽沉积材料，它包括氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的一种化合物，按照从1∶99到99∶1mol％的比率。
7.根据权利要求1、2、5或6中一项的蒸汽沉积材料，它包括20-80mol％的氧化铝和80-20mol％的选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物。
8.根据权利要求1的蒸汽沉积材料的制备方法，其中氧化铝与选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的至少一种化合物混合，混合物被压缩或悬浮，成型和随后烧结。
9.根据权利要求8的方法，其中氧化铝和选自氧化钆、氧化镝和氧化镱中的一种化合物按照1∶99到99∶1mol％的比率进行混合。
10.根据权利要求8或9的方法，其中氧化铝与氧化镝混合。
11.根据权利要求8到10的方法，其中烧结是在1300到1600℃的温度下，在空气流入的情况下进行的。
12.根据权利要求8到10的方法，其中烧结是在1300到1600℃的温度下，在减压下或在惰性气体中进行的。
13.根据权利要求8到12的方法，其中混合物被成型为片，丸，盘形，截头圆锥体，晶粒，微粒，棒条体或珠粒。
14.根据权利要求1到7中任何一项的蒸汽沉积材料用于中等折射指数的光学层的生产中的用途。
15.具有在1.6-1.9范围内的折射指数的中等折射指数的光学层，它包括根据权利要求1到7之一的蒸汽沉积材料。
16.多层光学体系，包括具有在1.6-1.9范围内的折射指数的至少一种中等折射指数的光学层，所述中等折射指数的光学层包括根据权利要求1到7之一的蒸汽沉积材料。
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