CN1573566B

CN1573566B - 光刻装置

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Publication number: CN1573566B
Application number: CN2004100478240A
Authority: CN
Inventors: D·F·库伊佩; J·C·康普特; J·范埃克; J·F·莫莱纳亚; D·C·奥克维尔; J·W·M·C·蒂尤森; M·P·范德尔森; G·P·J·范德霍文; M·J·维沃德多克; M·G·帕尔多; G·J·维多斯; G·J·P·尼塞; P·F·格里维; J·范沃斯特; M·M·P·A·维梅伦; A·H·弗维
Original assignee: ASML Netherlands BV
Current assignee: ASML Netherlands BV
Priority date: 2003-05-30
Filing date: 2004-05-31
Publication date: 2010-06-23
Anticipated expiration: 2024-05-31
Also published as: CN1573566A; US20050012913A1; US8059261B2; KR100768947B1; EP1482363A1; TW200517788A; SG115701A1; TWI286677B; JP4200120B2; KR20040104401A; JP2004363589A

Abstract

一种具有掩模装置的光刻投影装置，所述掩模装置用于遮盖至少一个构图装置的部分，所述构图装置用于在投影光束将带图案光束成像在基底上之前对投影光束进行构图。所述掩模装置包括在第一方向遮盖所述构图装置的部分的第一掩模装置，以及在第二不同方向遮盖所述部分的第二掩模装置，其中所述第一和第二掩模装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近。

Description

光刻装置

技术领域

本发明涉及一种光刻投影装置，包括：

-用于提供辐射投影光束的照明系统，其中所述照明系统限定了一个焦平面，在使用中所述投影光束通过该焦平面；

-用于在一定位置支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；

-用于遮盖所述构图装置的至少一部分以挡住所述投影光束，所述掩模装置包括设置成在相对于所述位置的第一方向遮盖所述位置的部分的第一掩模装置，以及在相对于所述位置的第二不同方向遮盖所述位置的部分的第二掩模装置；

-用于保持基底的基底台；

-用于将带图案的光束成像到基底的目标部分上的投影系统。

背景技术

术语“构图装置”应广义地解释为能够给入射的辐射光束赋予带图案的截面的装置，其中所述图案与要在基底的目标部分上形成的图案一致；本文中也使用术语“光阀”。一般地，所述图案与在目标部分中形成的器件如集成电路或者其它器件的特殊功能层相对应(如下文)。这种构图装置的示例包括：

-掩模。掩模的概念在光刻中是公知的。它包括如二进制型、交替相移型、和衰减相移型的掩模类型，以及各种混合掩模类型。这种掩模在辐射光束中的布置使入射到掩模上的辐射能够根据掩模上的图案而选择性地被透射(在透射掩模的情况下)或者被反射(在反射掩模的情况下)。在使用掩模的情况下，支撑结构一般是一个掩模台，它能够保证掩模被保持在入射辐射光束中的所需位置，并且如果需要该台会相对光束移动。

-可编程反射镜阵列。这种装置的一个例子是具有一粘弹性控制层和一反射表面的矩阵可寻址表面。这种装置的基本原理是(例如)反射表面的已寻址区域将入射光反射为衍射光，而未寻址区域将入射光反射为非衍射光。用一个适当的滤光器，从反射的光束中滤除所述非衍射光，只保留衍射光；按照这种方式，光束根据可寻址表面的定址图案而产生图案。可编程反射镜阵列的另一实施例利用微小反射镜的矩阵排列，通过使用适当的局部电场，或者通过使用压电致动器装置，使得每个反射镜能够独立地关于一轴倾斜。再者，反射镜是矩阵可寻址的，由此已寻址反射镜以不同的方向将入射的辐射光束反射到未寻址反射镜上；按照这种方式，根据矩阵可寻址反射镜的定址图案对反射光束进行构图。可以用适当的电子装置进行该所需的矩阵定址。反射镜阵列的更多信息可以从例如美国专利US5,296,891和US5,523,193中获得，这些文献在这里引入作为参照。

-可编程LCD阵列，例如由美国专利US 5,229,872给出的这种结构，它在这里引入作为参照。如上所述，在这种情况下支撑结构可以是框架或者工作台，例如所述结构根据需要可以是固定的或者是可移动的。

为简单起见，本文的其余部分在一定的情况下具体以掩模和掩模台为例；可是，在这样的例子中所讨论的一般原理应适用于上述更宽范围的构图装置。

为了简单起见，投影系统在下文称为“镜头”；可是，该术语应广义地解释为包含各种类型的投影系统，包括例如折射光学装置，反射光学装置，和反折射系统。辐射系统还可以包括根据这些设计类型中任一设计的操作部件，该操作部件用于引导、整形或者控制辐射投影光束，这种部件在下文还可共同地或者单独地称作“镜头”。另外，光刻装置可以具有两个或者多个基底台(和/或两个或者多个掩模台)。在这种“多级式”器件中，可以并行使用这些附加台，或者可以在一个或者多个台上进行准备步骤，而一个或者多个其它台用于曝光。例如在US5,969,441和1998年2月27日申请的美国序列号为19/180,011(WO98/40791)中描述的二级光刻装置，这里作为参考引入。

光刻投影装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，构图装置可产生对应于IC一个单独层的电路图案，该图案可以成像在已涂敷辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(硅晶片)的目标部分上(包括一个或者多个管芯(die))。一般地，单一的晶片将包含相邻目标部分的整个网格，该相邻目标部分由投影系统逐个相继辐射。在目前采用掩模台上的掩模进行构图的装置中，有两种不同类型的机器。一类光刻投影装置是，通过将全部掩模图案一次曝光在目标部分上而辐射每一目标部分；这种装置通常称作晶片步进器。另一种装置(通常称作步进-扫描装置)通过在投影光束下沿给定的参考方向(“扫描”方向)依次扫描掩模图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底台来辐射每一目标部分；因为一般来说，投影系统有一个放大系数M(通常＜1)，因此对基底台的扫描速度V是对掩模台扫描速度的M倍。关于如这里描述的光刻装置的更多信息可以从例如美国专利US6,046,792中获得，该文献这里作为参考引入。

常常期望或者需要确保只有掩模的一部分由投影光束成像在基底上。例如，掩模可以包含多个图案，其中只有一个供给定曝光使用。还期望或者需要防止杂散光入射到基底上。在使用这种功能的光刻投影装置中一般地是通过在照明器中的中间平面提供一掩模遮蔽装置来实现的。

在步进系统中掩模相对于照明器固定，掩模遮蔽装置设置成靠近掩模，并相对于照明器和掩模固定。

常规的遮蔽装置包括至少一个可移动的叶片。在某些常规的装置中提供两组可移动的叶片。按照惯例这两组可移动叶片以机械方式连接到一支撑元件，每个支撑元件安装在公共的框架上。因此通常是这两组叶片以机械方式彼此连接。通常这两组叶片设置在照明器单元的一个平面内。每组可移动的叶片包括一对布置成可沿一个方向(Y方向)一起移动和分开的叶片，下文称其为Y-叶片，和另一对布置成可沿一垂直于Y-叶片的方向(X方向)一起移动和分开的叶片，下文称其为X-叶片。目前有两种类型的掩模掩蔽装置：用于静态曝光的遮蔽和用于扫描曝光的遮蔽。在静态曝光中，在曝光期间将掩模部分挡住。在扫描曝光中，在预定的时间范围将掩模部分挡住。

叶片设置成使得分别在X-叶片和Y-叶片之间有一预定距离。通常，Y-叶片设置成在扫描过程中可以移动，X-叶片虽然可以移动，但是在扫描过程中X-叶片设置成是静止的。如果X-叶片要移动，这通常发生在扫描之间。对于静态曝光X-叶片可以在曝光之间移动。对于扫描曝光，Y-叶片特别地设置成进行附加的移动，以利用辐射源对构图装置进行扫描。在扫描循环开始之前，叶片设置成防止任何辐射入射到构图装置上。在扫描循环开始时Y-叶片打开一扫描距离。在扫描循环结束时Y-叶片特别地移动到一个可防止光入射到构图装置上的位置，使得在扫描循环结束时没有光入射到构图装置上。

本发明人已经发现在常规的遮蔽装置中的问题。例如，当遮蔽装置设置成扫描掩模时产生的问题。由于需要更高的扫描速度，常规的遮蔽装置不能达到。特别地，在一些常规的遮蔽装置中连接的X-Y叶片的质量会产生惯性，这妨碍了Y-叶片进行足够快的加速和减速来分别打开到它们的扫描位置和关闭到扫描位置的末端。此外，高的移动质量不能够利用常规的电动机以满意地足够高的扫描速度移动，而不引起传递到装置的其它部件的干扰。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种装置和方法，其能够在扫描和静态曝光过程有效地遮蔽光刻投影装置中的掩模部分。

根据本发明可以在开头段落中描述的光刻装置中实现这个和其它目的，其特征在于第一和第二掩模装置以机械方式彼此分开布置地设置在焦平面附近。

这种方案具有的优点在于，第一和第二掩模装置是彼此分开且同时提供有效地遮蔽功能。另一个优点是来自第一掩模装置和装置框架的振动和干扰不会影响第二掩模装置，反之亦然。该分开的掩模装置比连接的掩模装置的质量更小，因此，需要较小的驱动力来移动掩模装置从而得到更大的加速度和扫描速度。

根据本发明的另一方面，提供一种光刻投影装置，其中所述第一掩模装置具有一冷却装置。

这种方案具有的优点在于，冷却第一掩模装置可以使掩模装置的第一组叶片的尺寸在投影光束(厚度)方向比常规叶片小。更薄的第一组叶片在焦平面区域占据的空间比常规叶片更小，使得第二组叶片也能够设置在焦平面附近，还可以提供具有锐边缘的良好遮蔽。

根据本发明的另一个方面，提供一种装置的制造方法，包括下列步骤：

-提供一至少部分由辐射敏感材料覆盖的基底；

-提供一使用照明系统的辐射投影光束；

-提供一用于在一个位置支撑构图装置的支撑结构，该构图装置用于根据需要的图案对投影光束构图；

-选择地遮盖至少一个所述构图装置的部分以挡住所述投影光束和带图案光束，使用第一掩模装置选择地在第一方向覆盖相对于所述位置的部分，并使用第二掩模装置选择地在第二方向覆盖相对于所述位置的部分；

-将已构图辐射光束投影到辐射敏感材料的目标部分·，

其特征在于所述第一掩模装置和第二掩模装置以机械方式彼此分开布置地设置在焦平面附近。

在用根据本发明的光刻投影装置的制造方法中，(例如在掩模中的)图案成像在至少部分由一层辐射敏感材料(抗蚀剂)覆盖的基底上。在这种成像步骤之前，可以对基底进行各种处理，如涂底漆，涂敷抗蚀剂和弱烘烤。在曝光后，可以对基底进行其它的处理，如曝光后烘烤(PEB)，显影，强烘烤和测量/检查成像特征。以这一系列工艺为基础，对例如IC的器件的单层形成图案。这种图案层然后可进行任何不同的处理，如蚀刻、离子注入(掺杂)、镀金属、氧化、化学-机械抛光等完成一单层所需的所有处理。如果需要多层，那么对每一新层重复全部步骤或者其变化。最终，在基底(晶片)上出现器件阵列。然后采用例如切割或者锯割技术将这些器件彼此分开，单个器件可以安装在载体上，与管脚等连接。关于这些处理的进一步信息可从例如Peter van Zant的“微芯片制造：半导体加工实践入门(Microchip Fabrication：A PracticalGuide to Semiconductor Processing)”一书(第三版，McGrawHill PublishingCo.，1997，ISBN 0-07-067250-4)中获得，这里作为参考引入。

在本申请中，本发明的装置具体用于制造IC，但是应该明确理解这些装置可能具有其它应用。例如，它可用于制造集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示板、薄膜磁头等等。本领域的技术人员将理解，在这种可替换的用途范围中，在说明书中任何术语“中间掩模版”，“晶片”或者“管芯(die)”的使用应认为分别可以由更普通的术语“掩模”，“基底”和“目标部分”代替。

在本文件中，使用的术语“辐射”和“光束”包含所有类型的电磁辐射，包括紫外辐射(例如具有365，248，193，157或者126nm的波长)和远紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm的波长范围)和粒子束，如离子束或者电子束。

附图说明

现在仅通过举例的方式，参照附图描述本发明的实施方案，其中：

图1表示根据本发明一实施方案的光刻投影装置；

图2表示根据本发明一实施方案的遮蔽装置；

图3a表示根据本发明一实施方案的遮蔽装置的三维总体外观；

图3b表示根据本发明一实施方案在示出了遮蔽叶片的图1中示出的光刻装置部分在YZ平面的横截面；

图4表示根据本发明一实施方案在示出了遮蔽叶片叠置的图1中示出的光刻装置部分在YZ平面的横截面；

图5表示根据本发明一实施方案安装在支撑元件上的遮蔽装置的X-叶片；

图6表示根据本发明一实施方案安装在支撑元件上的X-叶片的详细结构；

图7表示根据本发明一实施方案Y-叶片的支撑元件的平面图；以及

图8表示根据本发明一实施方案集成在C和Y元件支撑框架中的Z控制器的详细结构。

在图中相应的附图标记表示相应的部件

具体实施方式

图1示意性地表示了本发明一具体实施方案的一光刻投影装置。该装置包括：

-辐射系统Ex，IL，用于提供辐射投影光束PB(例如UV辐射)。在这种具体的情况下，辐射系统也包括辐射源LA；

-用于选择地从投影光束遮蔽掩模MA(例如中间掩模版)的部分的遮蔽装置MD，在其它实施方案中，掩模装置可用于选择地遮蔽带图案光束部分；

-中继光学系统RL，用于将经过遮蔽装置的辐射投影到掩模MA；

-第一目标台(掩模台)MT，设有用于保持掩模MA的掩模保持器，并与用于将该掩模相对于物体PL精确定位的第一定位装置连接；

-投影系统(“镜头”)PL(例如投影透镜)，用于将掩模MA的辐射部分成像在基底W的目标部分C(包括一个或多个管芯(die))上；

-第二目标台(基底台)WT，设有用于保持基底W(例如涂敷抗蚀剂的硅晶片)的基底保持器，并与用于将基底相对于物体PL精确定位的第二定位装置连接；

如这里指出的，该装置属于透射型(例如具有透射掩模)。可是，一般来说，它还可以是例如反射型(具有反射掩模)。另外，该装置可以利用其它种类的构图装置，如上述涉及的可编程反射镜阵列型。

辐射系统可以包括产生辐射光束的源LA(例如汞灯，氟化氪(Krypton-Fluoride)准分子激光器或等离子体源)。该光束直接或在横穿过如扩束器Ex等调节装置后，馈送到照明系统(照明器)IL上。照明器IL包括调节装置AM，用于设定光束强度分布的外和/或内径向量(通常分别称为σ-外和σ-内)。另外，它一般包括各种其它部件，如聚光器CO和积分器IN。聚光器CO将入射光投影到积分器IN上。积分器IN可以是例如由石英棒制成，并用于改善在光束的横截面上被投影的光束的强度分布。因此积分器IN改善了投影光束PB的照明均匀性。按照这种方式，照射到掩模MA上的光束PB在其横截面具有所需的均匀度和强度分布。

辐射系统还可以包括中继光学系统RL。优选地该中继光学系统是安装在光刻装置中的密封组件，其包括扩展光学系统，用于将投影光束导向掩模的反射镜，以及聚光器透镜和投影透镜。该中继光学系统RL的作用是将遮蔽装置的“成像”平面成像在中间掩模版的掩模“聚焦”平面。该中继光学系统RL是任选的。其主要功能是使遮蔽装置中具有非常小的边缘宽度的叶片成像，使投影透镜的入射光瞳的作用匹配，并给掩模提供均匀的照明。

应该注意，图1中的辐射源LA可以置于光刻投影装置的壳体中，但也可以远离光刻投影装置，其产生的辐射光束被(例如通过合适的定向反射镜的帮助)引导至该装置中。本发明和权利要求包含这两种方案。

在图1中，遮蔽装置MD设置在照明器IL和中继光学系统RL之间。然而，如图4所示，遮蔽装置MD可以直接设置在掩模MA的上面。该遮蔽装置MD是一空间滤光器。这些入射到遮蔽装置上的投影光束部分优选被反射或吸收。遮蔽装置将狭缝投影到掩模上。如下面所论述的，可控制遮蔽装置以控制狭缝的尺寸，其中投影光束从该狭缝中通过。

或者直接在经过遮蔽装置MD之后，或者在经过中继光学系统RL之后，光束PB与保持在掩模台MT上掩模保持器中的掩模MA相交。横向穿过掩模MA(或者在反射掩模的情况下被掩模MA反射)后，光束PB通过投影系统PL，该投影系统将光束PB聚焦在基底W的目标部分C上。在第二定位装置(和干涉测量装置IF)的辅助下，基底台WT可以精确地移动，例如在光束PB的光路中定位不同的目标部分C。类似地，例如在从掩模库中机械取出掩模MA后或在扫描期间，可以使用第一定位装置将掩模MA相对光束PB的光路短冲程模块(精确定位)，可以实现目标台MT、WT的移动。可是，在晶片步进器中(与步进-扫描装置相对)，掩模台MT可与短冲程致动装置连接，或者固定。

所示的装置可以按照二种不同模式使用：

1.在步进模式中，掩模台MT基本保持不动，整个掩模图像被一次投影(即单“闪”)到目标部分C上。然后基底台WT沿x和/或y方向移动，以使不同的目标部分C能够由光束PB照射；

2.在扫描模式中，基本为相同的情况，但是给定的目标部分C没有暴露在单“闪”中。取而代之的是，掩模台MT沿给定的方向(所谓的“扫描方向，例如Y方向”)以速度v移动，以使投影光束PB在掩模图像上扫描；同时，基底台WT沿相同或者相反的方向以速度V＝Mv同时移动，其中M是镜头PL的放大率(通常M＝1/4或1/5)。在这种方式中，可以曝光相当大的目标部分C，而没有牺牲分辨率。本发明特别适用于扫描模式。但是，本发明不限于在同步扫描中应用，在同步扫描时遮蔽装置设置成与构图装置一起移动或者是遮蔽装置的移动轮廓与构图装置不同。

图2示出根据本发明一实施方案的遮蔽装置。该遮蔽装置MD包括第一掩模装置和第二掩模装置。掩模装置可以是当其在使用中被定位时，用于选择性地遮盖构图装置所处的位置的平板或叶片或其他结构。遮蔽装置优选包括叶片4a，4b，6a，6b，它们优选排列为构成两组叶片：X-叶片组和Y-叶片组。将两组叶片相对于彼此机械分开。也就是说，叶片以这种方式安装，即在X或Y叶片产生的振动不会传递到Y或X叶片，反之亦然。X和Y叶片的安装在下文更详细地描述。叶片也可以被认为是适合于遮盖的板或其他结构。根据本发明的一个实施方案，在曝光过程中驱动Y叶片4a和4b，而使X-叶片6a和6b静止。但是本发明并不限于这一关系，Y-叶片可以静止，或者X-叶片可移动而Y-叶片静止。在扫描过程中移动的叶片，下文指的是Y叶片，通过软件和电子装置来控制。X-叶片同样用软件和电子装置来控制。要注意，根据当前观察到的惯例，Y-叶片沿Y-方向一起移动和分开，Y-方向也是扫描方向，即在扫描曝光中掩模台和基底台移动的方向。根据所需的扫描轮廓控制移动叶片的移动。在扫描周期结束时，将叶片设置为阻挡光源，从而防止光源照射到构图装置上。当扫描周期开始时，控制叶片移动，使光源照射到构图装置上。光源的尺寸决定什么被称为扫描狭缝。扫描狭缝的尺寸特别地由光源和石英棒来确定。沿Y-方向，通常是扫描方向的扫描狭缝宽度是可变的，并且根据如将要被曝光的掩模的尺寸等因素来选择。尽可能快地将叶片加速到扫描狭缝。通常叶片的加速度超过10m/s/s，达到45m/s/s的范围。在打开位置处，通常以超过500mm/s的预定扫描速度在掩模上扫描Y-叶片组。一旦已经扫描了掩模，就移动叶片使其设置为阻挡光源，由此防止光源照射到构图装置上。例如可以通过使打开的叶片朝彼此加速来阻挡光源，以便尽可能快地挡住狭缝。或者，只有叶片之一沿扫描方向移动来挡住狭缝。例如，拖动叶片(trailing blade)可以沿扫描方向移动，或者导向叶片可以沿着与扫描方向相反的方向朝拖动叶片移动。然而叶片的移动并不限于上述实施例，可以根据任何预定的扫描轮廓来控制本发明的叶片的移动。如果需要，叶片也可以保持静止，闭合的或者处于一不变的狭缝宽度。

叶片的控制装置包括驱动器8，用于产生高电平指令，这些指令被送入运动控制器7。通常，驱动器8是一种软件驱动器。根据高电平命令，可编程的运动控制器7产生送入放大器6的控制信号，放大器产生与控制信号一致的电流，从而驱动电动机绕组1。还提供一种位置测量装置3，该装置提供关于叶片4a，4b，6a，6b位置的数据。该数据经放大器6反馈回运动控制器7。

驱动叶片的电动机的至少一部分合并到多个叶片或一个叶片支撑元件中。图2中可见，每个叶片配有电动机1，2和位置测量装置3。电动机1，2包括至少一个电动机绕组1和磁铁2，该电动机绕组1不与其驱动的叶片接触。磁铁直接安装在中间部分19上，电动机绕组1置于磁铁周围。放置磁铁2的中间部分19像X叶片和Y叶片的叶片支撑元件的“盘柄”，磁铁集成在叶片的后端，即远离光学叶片边缘的一端。中间部分可以利用与叶片不相同的材料构成，但是这不是必需的。并且，也不一定用单片材料来制成叶片和中间部分19。

优选地，叶片由叶片支撑元件支撑。优选地，用于Y-叶片的叶片支撑元件包括非接触轴承。上述电动机1，2优选是非接触线性电动机。这些特点降低了叶片质量并增强了耐久性。另外，使用非接触轴承和电动机减少了摩擦力，反过来又使叶片经历更高的加速度而不会对系统中的其他部件产生扰动。这也导致叶片移动精度的提高，同时使叶片能以更高速度移动并以更高加速度被加速。

图2中，驱动器8的动作经中间部分19传送到叶片。电动机线圈优选设置在叶片支撑上，并安排为围绕中间部分19，而不是如常规一样设置在叶片上。因为发热线圈置于固定框架上，因此这种布置提供了没有移动电缆和软管的优点。因此，得到了较长的使用寿命。这种布置提供了以下额外的好处，不需要电缆连接移动部件，在驱动移动部件的电动机之间没有串扰，以及提高装置的使用寿命。优选地，磁铁2配有响应驱动信号的叶片。已经证明，根据本发明构造和驱动的叶片可以实现在晶片台上速度达到每秒550毫米的扫描，能够进一步经历45米/秒/秒的叶片加速度而保持小于10微米的跟踪误差。通过减小驱动机构中以及叶片本身上的移动部件的数量，能够提高可靠性。并且，例如已经消除了移动部件之间的滑动、

并且，图2中看到的是掩模台MT(和掩模MA)的平面图，该图示出掩模台(和掩模MA)相对于遮蔽装置的实施例的位置。通过定位装置(未示出)掩模台MT自己可移动。

在一个实施方案中，可以将遮蔽装置设置在掩模台MT上，由于遮蔽装置MD与掩模台MT机械连接，因此遮蔽装置MD随掩模台MT移动。在另一个实施方案中，可以将遮蔽装置MD与掩模台MT电子，磁性或静电连接。优选地，遮蔽装置可拆卸。另外，可以将遮蔽装置MD与定位装置PM的长冲程或短冲程模块，而不是与掩模台MT本身连接。

图2中，根据使用遮蔽装置MD遮盖掩模MA(或者构图光束)的程度选择地提供两对叶片4a，4b，6a，6b，其可按箭头所示方向移动。从图2中可以看出，两个叶片4a，4b通过非接触线性电动机1，2垂直于叶片6a，6b安装。叶片4a，4b沿Y-方向(Y-叶片)一起移动和分开，叶片6a，6b沿X-方向(X-叶片)一起移动和分开。在图2中可以利用电动机控制器7和驱动器8将所有的四个叶片连接到构图装置的电动机控制器和驱动器。

如前面所描述的，因此可以看出叶片通常进行两种类型的移动。第一种移动是挡住或打开入射到构图装置或带图案光束的光源中的一个。这些移动包括闭合/打开移动，在这种移动中一对中的两个叶片相对于彼此移动，从而调整被遮盖的掩模部分或带图案光束。第二种是跟踪(track)移动，其中这一对中的两个叶片按照相同的方向移动，从而保持掩模台移动的轮廓。如已经描述的，当叶片直接与掩模台连接时自动进行跟踪移动。

此外被加入到图1-4示出的实施方案中的是在扫描过程中，X-叶片是静止的。然而，X-叶片不限于此。可以提供电动机以使X-叶片相对于彼此移动。

图3a表示遮蔽装置MD的三维总体外观。特别地可以看出X-叶片6a，6b和Y-叶片4a，4b如何相对于积分器外壳9(包括例如积分器IN)设置。图3a中，沿投影光束PB的方向，Y-叶片4a，4b设置在X-叶片6a，6b的下游。在示出的实施方案中，X-叶片构造成能够承受投影光束PB的热冲击。然而，在另一个实施方案中，Y-叶片4a，4b可以设置在X-叶片6a，6b的上游。图3a能够看到狭缝形成叶片的形状。

图3b表示根据本发明一实施方案在示出了遮蔽装置MD的图1中示出的光刻装置部分在YZ平面的横截面。

参考图3b，进一步详细描述本发明的遮蔽装置特别是叶片的特征和它们相对于彼此的布置以及光刻装置的其它元件。根据本发明的一个方面，这两组叶片的结构和布置产生两组叶片彼此之间的分离和从叶片的机械连接到框架的分离。在本发明的一个实施方案中，叶片在空气轴承上浮动，而不是与框架机械连接。因此Y-叶片特别地不会受到X-叶片或框架的干扰，例如振动。特别地，与常规的遮蔽装置相反，X和Y叶片构造成可以排列的，使得它们的位置和机动性不是直接由另一组叶片的位置和机动性决定。将叶片分开会使可移动的质量减到最小。常规的可移动叶片重量超过600克，而根据本发明的叶片的质量是100克的量级。这可以利用直接驱动来实现，驱动电动机的磁铁集成在叶片或叶片支撑元件中，还可实现两组叶片彼此间的机械分离。

图3b示出了优选为石英棒的安装在积分器外壳9中的积分器IN。还示出了沿投影光束PB方向设置在积分器IN的下游处的遮蔽装置MD。要曝光的掩模MA(未示出)沿投影光束PB方向设置在中继光学系统的下游。遮蔽装置MD包括两组叶片4，6，其设置成选择地遮盖掩模MA的部分以挡住辐射光束。Y叶片4沿Y方向一起移动和分开，该方向也是掩模的扫描方向。原则上，X-叶片6在扫描过程中彼此之间不移动。因此，在扫描过程中X-叶片之间的距离是恒定的。然而，如果需要X-叶片可以按照扫描轮廓相对于彼此移动，其中的扫描轮廓由掩模上的图象宽度决定。

可以理解遮蔽装置相对于辐射系统和掩模的位置是重要的。辐射系统LA，Ex，IL通过辐射源，照明器和中继光学系统的光学元件在预定位置产生具有焦平面10的光束，该焦平面与大体上和掩模的放置平面(filed plane)共扼的平面相对应。虽然图3b示出了在位置10处的焦平面，但是焦平面可以变化。其中在沿Z方向相对于焦平面的叶片位置的匹配是必要的，优选地，使用如图8所示的Z控制器。

在常规的遮蔽装置中，所有的叶片具有一定的厚度，这对于叶片的机械稳定性是必需的，并使叶片能够承受由叶片阻挡的辐射施加给叶片的热负荷。其结果是在常规的遮蔽装置中所有的叶片连接在一起，并设置在光束的焦平面中。通常，由于叶片的厚度阻碍了叶片被设置在焦平面的临界极限中，因此不能将X和Y叶片分开。本发明的发明人已经发现能够将叶片不直接设置在焦平面，还能够将尖锐狭缝的光学边缘投影到掩模上。特别地，如果石英棒的末端沿Z方向设置在焦平面的边缘，Y-叶片沿Z方向设置在边缘的另一端，已经发现提供空间以和Y-叶片机械分开的方式设置X-叶片，同时还允许被清晰聚焦的狭缝被投影到构图装置。优选地，然而为了最佳的遮蔽将叶片设置在距光束的焦平面10的一定距离中，优选地该距离是50微米量级。

在图3b中，静止的叶片6也称为X叶片，优选设置在离可移动叶片4的距离小于200微米，优选在大约100微米的距离11内。在实例中示出的焦平面10位于静止的和移动的叶片之间。和积分器IN相关联的是容许偏差。在积分器IN的石英棒的下游端面和积分器外壳9之间的距离加上容许偏差用箭头13表示。静止的叶片设置在离石英棒的端面的距离12加上容许偏差13的位置。优选地，距离12小于100微米。在石英棒的端面和光束的焦平面之间的距离用箭头14表示，典型地该距离在300至600微米的量级。

从图3b可以看出，在扫描过程中静止的(或者X)叶片具有比在扫描过程中移动的(或者Y)叶片更薄的结构，以及静止的叶片设置在可移动叶片的光束上游。下面将更加详细地论述这种结构。本发明不限于下面给出的实例。可以想象的是在扫描过程中静止的叶片也可以是厚的，而在扫描过程中可移动叶片也可以是薄的。

遮蔽装置特别是叶片可以承受较大的来自投影光束辐射的热应力。如上面所提到的，叶片上的热负荷是为什么在常规的遮蔽装置中叶片具有较大厚度的一个原因，该厚度为1至3毫米。此外，常规的叶片冷却是受限制的。由遮蔽装置阻挡的辐射的能量对于遮蔽装置也是一个问题，因为它会影响装置元件和叶片自身。为了解决这个问题，叶片可以具有一可反射投影光束辐射的表面。在特定的实例中叶片具有一远紫外反射涂层。然而，只有这个还不够，此外本发明不能够使用所有的光源波长。

已经发现提供足够的冷却装置给叶片，特别地对于上游叶片，在图3b示出的实例中也就是X-叶片，可以减小该叶片的厚度。在一个实施方案中，将静止的叶片相对于移动叶片不对称地冷却，即对静止的或者上游叶片的冷却量和施加给另一组叶片的冷却量不同，优选地该冷却量更大。此外还发现通过将X-叶片冷却到充分的程度，可以减小X-叶片的厚度。如果冷却充分，X-叶片可以做成充分的薄，使得有足够的空间允许将Y-叶片设置在X-叶片的下游，同时位于焦平面的充分小的距离中以允许将充分精细的狭缝投影到构图装置。

根据本发明的优选实施方案在叶片支撑元件中设置冷却导管。这种导管可以不使用常规的空气软管。该导管具有不同的结构，可以用来提供不同的冷却剂，例如空气和/或水以进行冷却。为了冷却，在叶片支撑元件中设置导管。冷却剂从设置在支撑元件上的一个入口通过管道提供给一个出口。该出口优选包括一个设置在支撑元件中的开口。该管道优选靠近要冷却的叶片设置。通过管道使水在叶片的下面循环到优选设置在框架上的出口。下面参考图6和7更加详细地描述对遮蔽装置MD的冷却。

考虑到叶片所处的苛刻环境，对于叶片特别是X-叶片的材料选择是重要的。对于X和Y叶片的材料选择为远紫外和深远紫外提供了一个最佳的热膨胀系数(α)，导热性(λ)，耐磨损性和反射系数的组合。因此，在图中示出的叶片可以由例如陶瓷或金刚石制成。优选的叶片材料是化学汽相淀积金刚石(CVD金刚石)，铝，钨铜合金和碳化硅，所有这些材料都具有所需特性的良好的组合。特别地，CVD金刚石是优选的。X-叶片的厚度沿投影光束的方向优选地在大约0.4毫米量级。除了上面所提到的特性，X和Y-叶片的材料具有高的杨氏模量(Young‘s modulus)和低的密度，使得叶片既硬又尽可能的轻，从而减少叶片的移动质量。在图中示出的Y-叶片可以由例如铝或铝铍合金(AlBe)制成。优选的Y-叶片材料包括金属基体复合物，陶瓷，金刚石，铍合金和石磨。Y叶片的厚度在6毫米量级。但是，除了上面提到的材料，叶片还可以由任何适宜的材料制成，这些材料通常包括能够承受辐射，既硬重量又轻的，或者设有具有这些特性的涂层的材料。此外，一些材料例如某些陶瓷，这种陶瓷具有可以包括一个或多个冷却通道以散发由于入射辐射而引起的热量的优点，正如在欧洲申请号00304336.1(申请人的受托人：P-0183)中所描述的，该申请在此引入作为参考。

已经发现在叶片的未抛光表面的抗反射涂层将在遮蔽装置中不需要的反射光减少。这导致在光束构图的精确性方面得到提高。

图4表示在Y-Z平面中图2的遮蔽装置的横截面。特别地，图4示出了X和Y叶片的叠置。在平面中示出了X-叶片6。遮蔽装置MD设置在掩模的上面。此外在图4中，可以看出X-叶片6安装在叶片支撑元件15上，在该支撑元件上提供一散热片16。提供一夹紧装置17以将叶片夹紧在散热片上，使得在X叶片和散热片之间的良好的热接触加快对X叶片的冷却。在一个实施方案中，掩模装置包括一安装在叶片支撑元件上的叶片，其中具有高导热性的材料层18设置在所述叶片和所述叶片支撑元件之间。

图5表示安装在第一支撑元件15上的X-叶片，该支撑元件给叶片提供支撑。该支撑元件15包括一U形元件22，其中每个叶片的两相对边缘6c，6d由U形元件的两相对臂支撑。该支撑元件15还包括从每个U形元件的底部延伸出的部分23。为了支撑两个叶片，两个U形元件一起形成一H形元件。冷却装置24a设置在支撑元件15中。特别地，液体冷却例如水冷却可由冷却导管24a提供，虽然该导管可以用于气体冷却。在一个实施方案中，导管24b可以提供气体给X叶片的气体轴承。应该说明由导管24b提供气体也有助于冷却叶片。在图5示出的实施方案中，气体导管24b与叶片之间的距离大于水冷却导管24a与叶片之间的距离。特别地，气体和液体导管24a，24b是设置在支撑元件15的相对侧上的大体上平行的导管。此外或者视需要对于上面描述的冷却装置，该支撑元件15可以具有其它能够使遮蔽装置对热应力包括热循环具有改善作用的特征。该支撑元件15可以具有移动限制装置50，其将支撑元件在热应力中的移动减到最小，例如挠曲，弯曲等等。该移动限制装置50包括在支撑元件15中形成的功能部件51，52。该功能部件可以具有各种变化和结构。在图5示出的实施方案中，该功能部件包括在铰链51处连接的狭缝52。该铰链51由在支撑元件15中钻的孔形成。该功能部件的结构具有一定角度的弹性。已经知道通过以特定方式布置移动限制装置，可以显著地缓和支撑元件对热应力的反应。部件例如狭缝和翼板的尺寸和结构依赖于例如支撑元件的材料和热应力特性的因素。此外在支撑元件15上设置夹紧装置60。该夹紧装置包括一个或多个从支撑元件15延伸的指状元件以夹紧叶片。

图6表示安装在第一支撑元件15上的X-叶片的另一实施方案。如参考图5所描述的，X-叶片6的相对边缘6c，6d安装在支撑元件15的相对臂上。电动机磁铁2安装在磁铁支撑元件23上。该磁铁支撑元件23包括设置在U形元件15的相对臂之间的部分。图6中，示出了两个磁铁2，该磁铁是驱动叶片的电动机(未全部示出)的一部分。此外在支撑元件15上设置冷却结构16，19，24。该结构具有延伸穿过冷却结构的冷却导管24(以虚线示出)，优选地沿冷却结构的长度。此外提供连接导管用于连接安装在每个支撑元件15的臂上的冷却部分16中的冷却导管。冷却入口19中的一个也可以用作冷却出口19以允许循环冷却剂流出结构16，24。冷却装置可以通过各种流体冷却剂(包括气体和液体)提供冷却。优选的冷却剂是水。

设置在支撑元件15上的冷却结构部分优选分别与X-叶片的相对边缘6c，6d对准。在图6示出的实施方案中，X-叶片直接由冷却结构16支撑。然而，本发明不限于此，X-叶片也可以由支撑元件的框架支撑。此外一夹紧装置17设置在支撑元件上以夹紧叶片。该夹紧装置17包括多个弹性装置，该弹性装置布置成用于在X方向沿X-叶片的边缘6c，6d附着在X-叶片的表面。该弹性装置包括一L形弹簧，其沿Z方向向下朝叶片施加一个力。进一步设置一夹紧装置20，21防止沿X方向的横向移动。该夹紧装置20，21包括沿X方向设置在X叶片的相对边缘6c，6d的止动元件20和弹性装置21，其中该弹性装置21布置成沿X方向朝止动元件20施加一个力。该弹性装置21可以包括一弹簧，该止动元件20可以包括一固定砧。图6中该弹性装置21配置成一扁平材料块。在该扁平材料块中设置一L形切口以提供弹性。可以理解，根据材料的选择和在该部分切口的尺寸来确定夹紧装置的弹性。已经发现由夹紧装置17在Z方向和由夹紧装置20，21在X方向的组合夹紧作用可以给X-叶片提供稳定和精确的保持。特别地，可防止X-叶片沿X方向向前移动。

已经发现在X-叶片和滑动元件之间提供良好的导热性是重要的，该叶片可以承受大的热应力，还发现无论滑动元件，叶片和任何夹紧元件经受任何热膨胀将叶片夹紧在滑动元件上必须是有效且稳固的。对于Y-叶片，术语“滑动元件”是Y-叶片自己。对于X-叶片，术语“滑动元件”是叶片支撑元件，叶片是它的一部分。此外还发现在常规的掩模装置中满足这两种条件引起的问题。为了克服该问题，提供如图6所示的双面的夹紧装置。在该优选的实施方案中，利用夹紧装置17将X-叶片夹紧在支撑元件15的两个侧面上，如上面所描述的。夹紧装置17夹住X-叶片的上表面。这种方案的优点是：夹紧和夹持元件的热膨胀在X方向被同等地补偿，同时使叶片保持牢固的夹紧，因此可精确地对准。在另一个优选的实施方案中，在叶片和冷却本体之间设置银箔层。该银箔层具有良好的导热性。这种方案具有另一个特别的优点，其可减小热点温度并保持叶片和冷却本体之间良好的热接触。该热点限定为叶片的中心，位于参考数字6的附近。图6中所示出的这种方案允许叶片沿Y方向设置在任何一侧的夹紧装置17之间膨胀。这表示在热负荷下，叶片6e的前边缘沿X方向大体上保持在相同的位置，从而可以保持明显的阴影投影。因此，在热负荷下，X-叶片在其遮蔽性能的精确度方面几乎没有显著的下降。

图6还示出了在支撑元件15的两相对臂上设置的叶片减震器18，该叶片减震器以缓冲器的形式用来减少或吸收施加在支撑元件15上的任何扰动冲击。支撑元件15还具有在支撑元件后端的气体轴承(未示出)。还提供气体轴承预负荷簧片22，其用于对设置在支撑元件15上的气体轴承预加载荷。该气体轴承预负荷簧片22优选由金属例如铁制成。遮蔽装置设置在外壳中，靠近支撑元件15，在外壳的静止部分设置构成气体轴承部件的磁铁。该磁铁布置在外壳中以对预负荷簧片22施加一个力。该气体轴承施加一个与磁铁施加的力相反的力给预负荷簧片。因此，通过一个恒定的磁力和恒定的气体压力，可以得到很高硬度的气体轴承。

图7表示对于Y-叶片4a，4b另一种支撑元件70的平面图，其特别地示出了用于支撑Y-叶片和冷却结构的气体轴承。以虚线表示的Y-叶片4a，4b设置在凹座79中，该凹座形成在第二支撑元件70中。在凹座79的中心示出的是一通孔82的轮廓，投影光束可从该通孔中通过(Y-叶片可部分地在该通孔上移动)。图7中示出的是支撑Y-叶片的气体轴承的详细结构。一气体入口71设置在支撑元件70中。通过该入口71引入空气，然后通过形成在支撑元件70中的导管80。一稍微凸起的部分74形成在凹座79的底板上。导管80与形成在凸起部分74中的开口75连接。当将气体引入入口71时设置在凹座79中的Y-叶片由离开开口75的气体支撑。在使用中，Y-叶片与支撑元件70分开。因此，Y-叶片不会受在它和支撑元件70之间的摩擦力影响。这样移动Y-叶片可以使用很少的能量，并且可以以增加的速率使Y-叶片加速。如图7所示，可以通过多个气体轴承。在使用中Y-叶片可以与机器机械分开。

扫描Y-叶片需要冷却。如上面所描述的通过气体轴承导引叶片。第二支撑元件70包括一气体轴承表面76。该气体轴承表面是静止的，并由冷却系统72，73，81进行流体冷却。Y-叶片也由冷却系统72，73，81冷却。将流体冷却剂优选地是水引入形成在支撑元件70中的入口72。通过导管81将流体提供给形成在支撑元件70中的出口73。当导管设置在所述凹座中时，优选设置在支撑元件70中以横跨Y-叶片的宽度。使用中，气体轴承使Y-叶片升高到支撑结构上面大约10-20微米。会产生从叶片通过空隙的热传导，该空隙形成在叶片的下侧和已冷却的气体轴承的气体轴承表面76之间。这种特定的方案的优点在于，可以充分地冷却Y-叶片而不用提供连接到可移动叶片的气体或流体软管。这增加了遮蔽装置的使用寿命和精确度，还减少了Y-叶片组件的移动质量。

在另一个优选的实施方案中，当Y-叶片开始过热时，控制X-叶片使其用作热遮蔽。例如，如果Y-叶片设置在闭合布置中，同时X-叶片设置在打开或者部分打开的布置中，投影光束将全部或者部分地(根据X-叶片之间的距离)入射到Y-叶片。这就使得Y-叶片过热。然而，此外这会导致如图7所示的气体轴承损坏。为了防止这个问题发生，对于特定的用量(dosage)，如果光入射到Y-叶片的时间大于预定持续时间，控制器将使X-叶片移动到遮蔽Y-叶片挡住光源的位置。通过这种方式，把X-叶片当作热遮蔽保护Y-叶片。如前面所描述的，X-叶片构造成相对于投影光束非常稳固，能够承受所有的投影光束的冲击而不遭受不利的影响。

参考图5、6和7可以理解，第一和第二掩模装置布置在装置中，并可相对于彼此机械分开。特别地，第一和第二支撑元件是机械分开的。优选地X-叶片和Y-叶片组件是模块部件。X-叶片组件和Y-叶片组件是两个可彼此分开和独立测试的可装配模块。如图2-4和8所示整个模块可彼此装配来使用。为此X-叶片组件和Y-叶片组件的某一部分彼此连接。但是，不必将X-叶片与Y-叶片连接。这具有的优点是包括由X-叶片的移动引起的振动的扰动不会影响Y-叶片，反之亦然。因此和常规的装置相比更容易装配和测试掩模装置。特别地，不必拆卸整个装置就能够装配分开的组件。这节省了时间和人力。

已经发现，在操作过程中光刻装置中会累积静电电荷。这对某些传感器和电路会产生不利的影响。为了克服这个问题，在一个优选的实施方案中，至少一个叶片具有静电放电棒，使得静电电荷向该静电放电棒传导，从而远离感光传感器和电子电路。这种方案具有保护静电感光元件的优点。该放电棒可以在X-叶片和Y-叶片中的一个或两个上设置。然而，优选的，该棒设置在Y-叶片上。优选地，该棒包括一安装在一个叶片上的细锥形的棒。选择其尺寸和材料以提供最佳的静电导体并具有最小的质量。作为实例该棒可以由铜制成。

驱动叶片的电动机由软件控制，该软件包括控制电动机的指令表。在常规的叶片组件中，公知的是叶片会彼此碰撞。这不仅会损坏叶片，而且如果关闭装置来进行修理将影响生产。在一个优选的实施方案中，提供传感器用于检测叶片的位置并提供反馈给控制装置。改写提供指令给电动机的软件以考虑测定的位置数据，并将软件设计成消除叶片彼此接触的可能性。通过这种方式，驱动电动机的控制软件防止了移动的X或Y叶片组的碰撞以及在一个X叶片和一个Y叶片之间的碰撞。

参考图3a和3b如前面所描述的，不需要调整叶片在Z方向的位置，以便使叶片相对于焦平面和其它元件对准。通常，可以通过在支撑它们的框架上移动包括X和Y叶片组件的整个装置来实现调整。这是不方便的且麻烦的。

图8表示根据本发明一克服了上述问题的实施方案的详细特征。特别地，图8示出了用于控制X和Y叶片组件在Z方向的位置的控制螺母25，其中Z方向也是光轴的方向。分别安装如图6和7所示的设置在X和Y组件中的框架27。该X和Y组件在图8中用参考标记28表示，并由框架27支撑。投影光束通过在Z方向的开口31投影。可以看出当打开Z控制螺母25时，其给底板26施加一个力，该底板配有控制器铰链。支撑X和Y(子)组件的框架27保持固定在其自己的支撑框架上。优选地，Z-方向控制器25集成在框架27中。

特别地，该Z控制器是一个调节装置，其包括作用在弹性元件上的螺母25，该螺母沿Z方向依次给X和Y组件28施加一个力。还设置有控制锁定螺母29和Z控制锁定装置30，一旦X和Y组件到达所期望的位置就将其沿Z方向保持在期望的位置。

已经发现叶片特别是通常设置在Y-叶片的上游的X-叶片不与积分器IN的石英棒相接触是重要的，因为如果接触的话，石英棒会损坏。为了克服这个问题，在石英棒的下游端的附近设置一个传感器以判断叶片是否进入出口表面的预定距离内，由操作员使用检测信号来控制Z控制器使叶片在Z方向远离出口表面移动。这种方案提高了装置的可靠性，减小了损坏积分器IN的危险。

上面已经描述了本发明的实施方案，同时可以理解本发明可以不同于所描述的进行实施。说明书不是要限制本发明。

Claims

1.一种光刻投影装置，包括：

-用于在一定位置支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案将图案赋予投影光束；

-用于遮盖所述构图装置的至少一部分以挡住所述投影光束的遮蔽装置，所述遮蔽装置包括设置成沿第一方向移动的第一遮蔽装置，以及沿相对于所述位置垂直于所述第一方向的第二不同方向移动的第二遮蔽装置；

-用于保持基底的基底台；

-用于将带图案的光束成像到基底的目标部分上的投影系统，

所述第一和第二遮蔽装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述焦平面附近，其中每个所述第一和第二遮蔽装置支撑在各独立的第一和第二支撑元件上；

所述第二遮蔽装置由气体轴承支撑在所述第二支撑元件上，所述气体轴承冷却所述第二遮蔽装置。

2.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置由第一冷却装置冷却。

3.一种如权利要求2所述的光刻投影装置，其中所述第一冷却装置包括一集成在所述第一支撑元件中的第一冷却结构。

4.一种如权利要求3所述的光刻投影装置，其中所述第一冷却结构包括一入口，冷却流体通过该入口引入；所述冷却流体通过的冷却导管；和所述冷却流体从所述第一冷却结构流出的出口。

5.一种如权利要求2所述的光刻投影装置，其中所述第一冷却装置提供水冷却。

6.一种如权利要求2所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置和所述第二遮蔽装置被彼此独立地冷却。

7.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置包括安装在叶片支撑元件上的至少一个叶片，其中在所述叶片和所述叶片支撑元件之间设置具有高导热性的材料层。

8.一种如权利要求7所述的光刻投影装置，其中所述材料是银。

9.一种如权利要求1所述光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置包括在投影方向厚度小于0.5毫米的叶片。

10.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二遮蔽装置分别包括第一和第二对可移动叶片。

11.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置包括自化学汽相淀积金刚石，铝，钨铜合金和碳化硅中的一种材料制成的叶片。

12.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二遮蔽装置分别由非接触线性电动机驱动而能够移动。

13.一种如权利要求12所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二遮蔽装置中的至少一个具有磁铁，所述磁铁分别构成所述各自的非接触线性电动机的一部分。

14.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二遮蔽装置分别包括一对布置成彼此移动靠近或分开的叶片。

15.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第二支撑元件包括气体轴承表面，气体从所述气体轴承表面通过以支撑所述第二遮蔽装置，所述第二支撑元件还包括第二冷却结构以冷却所述气体轴承表面。

16.一种如权利要求15所述的光刻投影装置，其中所述第二冷却结构包括一入口，冷却剂通过该入口引入；所述冷却剂通过的冷却导管；和所述冷却剂从所述冷却结构流出的出口。

17.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中通过空隙能够从所述第二遮蔽装置传导热量，所述空隙是由在所述第二遮蔽装置和所述第二支撑元件之间的所述气体轴承形成的。

18.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置当其设置在闭合位置时，遮挡所述第二遮蔽装置免受所述投影光束照射。

19.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置和所述第二遮蔽装置中任一个是模块部件。

20.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置和所述第二遮蔽装置中至少一个具有静电放电装置。

21.一种如权利要求20所述的光刻投影装置，其中所述静电放电装置包括设置在所述第一遮蔽装置和所述第二遮蔽装置中至少一个的叶片上的棒，以保护所述光刻投影装置。

22.一种如权利要求10所述的光刻投影装置，其中利用一控制装置控制所述第一和第二遮蔽装置中任一个的一对叶片，以避免任何叶片之间的碰撞。

23.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二支撑元件中的任一个或两者具有调节装置，该调节装置用于在投影光束方向调节所述第一和第二遮蔽装置中的任一个或两者的位置。

24.一种如权利要求23所述的光刻投影装置，其中所述调节装置包括一作用在弹性元件上的螺母，所述螺母和所述弹性元件安装在框架上。

25.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述构图装置沿扫描方向移动，所述第一遮蔽装置和第二遮蔽装置中的一个的移动方向沿扫描方向，而所述第一遮蔽装置和第二遮蔽装置中的另一个的移动方向沿大致垂直于所述扫描方向的方向。

26.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一遮蔽装置包括一叶片，所述光刻投影装置还包括一设置在叶片的在第一方向上的两个相对端处的夹紧装置，该夹紧装置用于将所述叶片夹紧在叶片支撑元件上，使得所述叶片由所述叶片支撑元件支撑在第一方向上的所述相对端。

27.一种如权利要求1所述的光刻投影装置，其中所述第一和第二遮蔽装置中的任一个的至少一部分具有一抗反射涂层。

28.一种器件制造方法，包括以下步骤：

提供至少部分地覆盖有一层辐射敏感材料的基底；

采用照明系统提供辐射投影光束；

在一定位置提供构图装置，所述构图装置用于根据所需的图案对投影光束进行构图；

选择地遮盖所述构图装置的至少一部分以挡住所述投影光束，利用能够沿第一方向移动的第一遮蔽装置选择地遮盖所述部分，以及利用能够沿与所述第一方向垂直的第二方向移动的第二遮蔽装置有选择地遮盖所述部分，

将带图案的辐射光束投影到辐射敏感材料层的目标部分上，

所述第一遮蔽装置和第二遮蔽装置以机械上彼此分开布置的方式设置在所述投影光束的焦平面附近；

其中，将每个所述第一和第二遮蔽装置支撑在各独立的第一和第二支撑元件上；

通过气体轴承将所述第二遮蔽装置支撑在所述第二支撑元件上，所述气体轴承冷却所述第二遮蔽装置。