CN1508780A - 用于记录/重现装置的细长型光拾取传动机构 - Google Patents

Abstract

一种能包括透镜支架的光拾取传动机构，该透镜支架具有用于把光会聚在光盘上，安装在其一侧且在一预定的方向被启动的物镜，和多个彼此面对面的轭架的磁体。在这多个磁体之间可装置一聚焦线圈和一跟踪线圈，且配置在Y轴方向，通过与磁体的电磁力在聚焦和跟踪方向启动透镜支架。

Description

用于记录/重现装置的细长型光拾取传动机构

技术领域

本发明涉及用于记录/重现装置的光盘驱动器，更具体地说，涉及光拾取传动机构及其方法。

背景技术

一种用于重现存储在光盘中已记录信号的装置称之为光盘驱动器。这样一种光盘具有一个光拾取单元和一个物镜驱动单元，它用于能使光点跟踪光盘信号轨道的一个中心，使得在来自物镜的会聚光束上，把光盘的与光盘转动有关的表面振动和偏心率等的影响减小或减到最小。这样，一种物镜驱动单元称之为光拾取传动机构。该物镜驱动单元能使具有装在其上的物镜的启动单元(在以后称之为“透镜支架”)朝上/下，左/右等移动来完成诸如会聚在光盘信息记录表面的光束的聚焦和跟踪的传动功能。

另外，在用于如笔记本这样的便携式电脑中光盘驱动器的光拾取传动装置应制成尽可能的薄和尽可能的轻来满足诸如空间限制和掌握方便等方面的技术规格。尤其是，由于在反射镜和光盘驱动器的物镜之间的间隙是决定光盘驱动器即光拾取传动机构总高度的主要因素，所以需要一种减小间隙的结构。为要满足这必要的规格，需要一种前凸型的物镜用于细长型光拾取传动机构。

将在下面描述一种现有技术的细长型光拾取传动机构。如图1和2所示，现有技术的细长型光拾取传动器100包括装在透镜支架102一侧前表面上的前凸型物镜101，沿着在透镜支架102中部形成的，具有第一外壳凹槽102a的线圈架110的周界面绕制聚焦线圈103，和绕在聚焦线圈103一侧左/右部分的跟踪线圈104。

另外，拾取器基座106具有从其突出的U字型轭架106a，而磁体105附着在突出轭架106a的一个横向表面(面对的表面)上。这样的磁体105和轭架106a分别朝第一外壳凹槽102a和第二外壳凹槽102b突出，这样，磁体105彼此面对。

在拾取器的基座106中，利用螺母120和螺孔108a和106c把放在离轭架106a一预定距离的支架106b，框架109，附在框架后表面的电路基义108结合并固定起来。另外，通过连接在框架109和固定在透镜支架的两个横向表面的中央部位把透镜支架102支承起来。

聚焦线圈103装配在围绕第二外壳凹槽102b的周界面，而在聚焦线圈103的两个前侧上都装置了跟踪线圈104。形成在透镜支架102的内部部分的单个凹槽被线圈架110分成第一外壳凹槽和第二外壳凹槽102a和102b，而围绕线圈架就是聚焦线圈103和跟踪线圈104绕制的地方。

每个跟踪线圈104的一个边侧部分位于磁体105之间。而且，每个跟踪线圈104面朝彼此面对面的磁体105的左/右侧。

在这结构中，如果在聚焦线圈103和跟踪线圈104中加一电流，则聚焦和跟踪线圈103和104每个都受到聚焦和跟踪线圈103和104与磁体105的电磁互作用力而与透镜支架102在一起移动。聚焦线圈103和跟踪线圈104在按照费雷明左手法则的方向受到与磁体的互作用力。

此时，如果聚焦和跟线圈103和104与磁体105的互作用使得电磁力加到聚焦和跟踪线圈103和104上，则线圈架110在聚焦方向(Z)和跟踪方向(Y)与透镜支架102一起移动。移动突出在透镜支架102一侧的物镜101来控制光点聚焦在光盘上的位置(未示出)。

如图2和3所示，使用上面描述的磁路结构，透镜支架102的质量中心位置(G)处于跟踪线圈104和聚焦线圈103之间。此时，位于两磁体105之间的第一聚焦线圈103a的操作中心位置(C1)形成在第一聚焦线圈103a的左/右侧中部和线圈原度中部的交点上，以及跟踪线圈104的操作中心位置(C2)形成在跟踪线圈左/右侧的中部和线圈厚度中部的交点上。因此，聚焦和跟踪线圈103和104的各操作中心位置(C1、C2)位于不同的点上。这是由在两磁体105之间具有通过的聚焦线圈103和在聚焦线圈103的一个外侧(例如，左/右两侧)具有跟踪线圈104的结构而产生的。

另外，把包括具有装配着线圈103和104的线圈架110在内的透镜支架102的质量中心位置(G)设计在位于聚焦和跟踪线圈103a和104的操作中心位置(C1、C2)与质量中心位置(G)在一个位置上的一致会使该传动机构在最好的即最佳操作状态下运行。当质量中心(G)与两个线圈103a和104的操作中心位置(C1、C2)都不一致，但是可让只有一个中心位置是一致的，则线圈的工作特性被恶化。

因此，要把质量中心(G)设计在位于线圈103a和104的操作中心位置(C1、C2)之间。但是，即使在这种场合，由于透镜支架102的质量中心位置(例如，中心位置的移动)是不一致的，所以在透镜支架102在偏斜方位(例如，不是在准确的Y和Z方向)移动这一点上在聚焦或跟踪操作时，存在着一个缺点。另外，第二聚焦线圈103b的操作中心位置(C3)位于聚焦线圈103的对面一侧。由于这些位置(C3，103b)的泄漏磁通量位于磁体105的后面，所以，它与聚焦操作相反方向的力起作用。

图4a和4b示出在图1光拾取中传动机构线圈的，磁通量密度和向量的分布图。如图4a所示，如果在线圈103中施加电流，则聚焦线圈103有非平衡分布的磁通量密度。就是说，在磁体105之间的第一聚焦线圈103a部分，具有由磁体105互作用而集中起来的磁通量，但是由于在轭架后表面上的第二聚焦线圈103b部分，被轭架106a阻挡，所以它不受磁体105影响。

图4b示出现有技术跟踪线圈的磁通量分布和矢量分布。由于跟踪线圈104配置在磁体105的左/右侧，所以磁通量集中在磁体105的中央方向上。

如图5所示，在轭架106a内侧的第一聚焦线圈103a受到与磁体105互作用产生的电磁力，而在轭架106a外侧的第二聚焦线圈103b被轭架106a阻挡而较少受到或不受到磁体105的影响。另外，如图5所示，磁体105的磁力线与磁体105的中央偏离得较少，而在磁体105的边上则有很大散布。同时，该磁力线从轭架106a偏离而泄漏到外面。位于轭架106a外面的第二聚焦线圈103b受到这个泄漏磁通量的影响。

如图5所示，来自聚焦线圈103的箭头示出了根据用费雷明左手法则的磁力线分布施加到聚焦线圈103的力的大小和方向。正如上面所述，即使在外面的第二聚焦线圈103b也受到泄漏磁通量所影响的力。而相对于来自聚焦线圈103总的力来说，这造成了力的不非衡分布。就是说，如图6所示，施加到位于轭架106a内部第一聚焦线圈103a的力(Fu)和施加到位于轭架106a外部第二聚焦线圈103b的力(Fd)是不平衡的。因此，出现俯仰模式(示于图10a)，在该模式中线圈架110和透镜支架102前后摇摆。就是说，线圈架110和透镜支架102在图6中的箭头(P)方向摇摆。

另外，在外面的第二聚焦线圈103b不是用来作聚焦操作的，因此光拾取传动器机构，的灵敏度被所绕线圈的质量增加和电阻增加而降低。因而，它阻碍了随着取决于光盘的高倍率速度能力而来的一个高速度。

另一方面，在取决于轨道方向(T)的左/右跟踪线圈104的移动时，由于该移动中心位置和质量中心位置(G)彼此不一致，所以有滚动的模式出现(示于图10b)。如图7所示，当线圈架110在停止状态时，光拾取传动机构100的总质量中心(G)和线圈架110的移动中心位置(H)彼此是一致的。诸附图中的箭头示出了由磁体105施加到跟踪线圈104的力的大小和方向。施加到跟踪线圈104的力的大小取决于磁通量和流径跟踪线圈104电流的大小，且在电流是不变的情况下只取决于磁通量的大小。因此，磁通量在磁体105的中央部分是最大的，而在其外面的边缘处逐渐变小。又一次，如图7所示，当跟踪线圈在中间位置时，由于磁通量关于跟踪线圈104的中央是对称分布的，所以可让跟踪线圈的质量中心位置(G)和移动中心位置(H)彼此一致。

但是，如图8所示，如果线圈架110被聚焦线圈103向上聚焦，则由磁体105施加到跟踪线圈104的力朝跟踪线圈104向下被偏移。因而，由于线圈架110的向下跟踪的力大于其向上跟踪的力，所以在箭头方向(R1)产生了转矩。与此相反，如图9所示，如果线圈架被聚焦线圈103向下聚焦，由磁体105施加到跟踪线圈104的力朝跟踪线圈104向上被偏移。因而，由于线圈架110向上的跟踪力大于其向下的跟踪力，所以在箭头方向(R2)产生了转矩。结果，根据线圈架110的聚焦操作，与跟踪线圈104的移动中心位置(H)未能与质量中心位置(G)一致，这个不一玻造成在箭头所示方向(R1、R2)滚动的滚动模式。

在现有技术透镜支架102中，光拾取传动机构的频率特性由装置在两侧的金属丝悬架107的刚度所决定。但是，由于光拾取传动机构本身是一个装置结构，它有一个振动频率，而当光拾取传动机构在该频率上再叠加振动时，在透镜动架102的固有振动模式时它是共振的。

在具有透镜支架的现有技术光拾取传动机构中，透镜支架被振动得在一种整个透镜支架被变形的模式中具有扭转或变转的模式。在现有技术透镜支架中，聚焦操作或跟踪作应在初始变形频率为17.2kHz之前完成，所以，在重现的高倍率速度时，聚焦或跟踪控制变得困难。由于在透镜支架中的这个类型的振动模式造成物镜同时振动，使光束直接受到影响，这样就难于控制应跟着光盘的传动机构。

另外，透镜支架102的固有振动频率是由透镜支架102的形状所决定的一个特性。物镜101被透镜支架本身的振动模式一起振动。因而，由于光束是失真的，所以随着这光盘的控制特性受到严重的影响。

在如上所述的现有技术结构中，在传动机构中的诸如俯仰模式和滚动模式的转动振动模式能在聚焦和跟踪操作时影响相位和基本频率特性的振动，而造成光信号的恶化。如果增加磁体105的尺寸来增加用于改良交流电灵敏度的磁通量密度，由于泄漏通量也会一起增加，所以造成子共振。因此，对增加磁通量密度有一个限度。而且，在高倍率速度与高密度光记录和重现装置中，更会严重地发生俯仰模式和滚动模式现象，从而，造成光信号的退化。

另外，现有技术光拾取传动机构，有一缺点，因为当在高通的频率范围内包括高维共振频率时，则当线圈架在变形时，物镜被变形即在线圈架中物镜位置也被改变，从而造成光盘来被准确地聚焦。因而，不能准确读出光盘的轨道信号，从而造成重现退化或不可能重现。

通过引用把上面的资料结合在此，在其中有属用于附加的即另一些细节，特性和/或技术背景的恰当说明。

发明内容

本发明的一个目的至少是要解决上面的诸问题和/或缺点并至少提供下述的诸优点。

本发明的另一目的是提供一种光拾取传动机构，它基本上排除由于现有技术的限制和缺点而引起的一个或更多的问题。

本发明的另一目的是提供一种构造成使透镜支架具有质量中心位置和力中心位置相一致的光拾取传动机构。

本发明的另一目的是提供一种细长型光拾取传动机构，在其中，与透镜支架在一起的在两个磁体间工作的线圈被排列在Y轴方向，使得透镜支架的质量中心信置和力中心位置对齐。

本发明的另一目的是提供一种细长型光拾取传动机构，在其中，聚焦圈和跟踪线圈全部配置在透镜支架的工作区范围内，并在两磁体之间，使得所绕线圈的表面分别面朝磁体。

本发明的另一目的是提供一种细长型光拾取传动机构，在其中，为了驱动特性的高录敏度和稳定性，聚焦线圈的力中心位置和跟踪线圈的力中心位置在X轴方向上的一个位置可以是彼此一致的。

本发明的另一目的是提供一种细长型光拾取传动机构，在其中，把在两磁体间彼此以不同方向绕制的线圈，在两个磁体间配置有相当宽的距离间隔，使得可减小或消除由反电动力引起的轭架振动，并可改良伺服随动装置稳定性。

本发明的另一目的是提供一种细长型光拾取传动机构，它在透镜支架中有一构筑得能让线圈安置并固定在那里的线圈支架，以便减轻透镜支架的重量以保证驱动可靠性。

为获得至少这些目的和其它优点的全部或部分，并根据本发明的意图，正如在这里具体实施的和广泛描述的，提供了一种细长型光拾取传动机构，它包括具有装在它的一侧用来在光盘上会聚光的物镜的透镜支架，其中把透镜支架构筑得在聚焦和跟踪方向移动，具有多个第一支架部件的基座，每个支架有一磁体附着在那里，其中磁体彼此面对着面以及具有聚焦线圈和在跟踪方向直接串联附着到聚焦线圈的至少一个跟踪线圈，其中透镜支架包括从那里延伸的第二支承部件，构筑来支承在磁体间的驱动部件，且其中驱动部件在聚焦和跟踪方向随着，磁体的电磁力来启动透镜支架。

为进一步获得至少这些目的和其它优点的全部或部分，并根据本发明的意图，正如在这里具体实施的和广泛描述的，提供了一种光拾取传动机构，它包括一基座，这基座包括具有多个彼此面对面磁体的磁支承单元，构筑成要在跟踪和聚焦方向被区动的透镜支架，这透镜支架包括装在其第一侧部分的物镜和装在位于两个磁体间的其第二侧部分上的磁驱动单元，其中，透镜支架质量中心位置基本上与磁驱动单元的力中心位置相一致。

为进一步获得至少这些目的和其它优点的全部或部分，并根据本发明的意图，正如在这里具体实施的和广泛描述的，提供了一种细长型光拾取传动机构，它包括彼此面对面固定的，在其间具有磁场区的单磁体，具有装在其一侧用于启动的物镜，并具有对称地装置在磁体的磁场范围中彼此直接连接的跟踪和聚焦线圈的透镜支架，用于承透镜支架的框架和用于把框架柔性地附着到透镜支架的多个金属丝悬架。

为进一步获得至少这些目的和其它优点的全部或部分，并根据本发明的意图，正如在这里具体实施的和广泛描述的，提供了一种形成光拾取传动机构的方法，它包括制作在其中有一传动区的透镜支架，绕制聚焦和跟踪线圈，把至少一个跟踪线圈直接附着到至少一个聚焦线圈以形成沿着透镜支架的跟踪方向延伸的驱动单元，把物镜连接到透镜支架的第一侧，而把驱动单元连接到透镜支架的第二侧，并把透镜支架柔性地附着到框架，使得该驱动单元完全地被支承在启动区中。

本发明另外的优点，目的，和特性将部分地在下面的叙述中公布，而部分则在下面的描述后对本领域中的一般技术人员就会变得清晰，或从本发明的实践中学会。可以认识和实现正如在所附权利要求书中特别提供的本发明的目的和优点。

附图说明

本发明将参考下面的附图作出详细的描述，在这些附图中相同的参考数字指的是相同的元件，

其中：

图1示出现有技术细长型光拾取传动机构的透视图；

图2示出图1的部分侧截面图；

图3示出在现有技术光拾取传动机构的磁路中用于代表质量中心位置和力中心位置的线圈和磁体的平面图；

图4a-4b是示出聚焦与跟踪线圈的磁通量分布和矢量的图；

图5和6是示出在现有技术光拾取传动机构的磁力线和转矩的图；

图7到9是示出在现有技术光拾取传动机构的由跟踪线圈引起的滚动模式；

图10a和10b是在现有技术光拾取传动机构中，用于示出俯仰模式，滚动横式和摇摆模式的频率对相位的关系图；

图11是根据本发明较佳实施例示出的细长型光拾取传动机构的透视图；

图12示出图11的透镜支架的拆散透视图；

图13a和13b是示出图11的线圈和磁体结构的图；

图14是根据本发明的一实施例示出的在磁体间的距离和互连长度的图；

图15a和15b是根据本发明的一实施例示出的在光拾取传动机构中的聚焦和跟踪线圈的磁通量/向量的分布图。

图16a和16b是根据本发明的一较佳实施例示出的光拾取传动机构的频率/相位关系图；

图17是根据本发明另一实施例示出的细长型光拾取传动机构的透视图；

图18是示出图17的透镜支架拆散的透视图；以及

图19a和19b示出图17的线圈和磁体结构的图。

具体实施方式

图11是根据本发明一实施例示出的光拾取单元传动机构的图。如图11到13所示，该光拾取传动机构可包括透镜支架202，这支架具有从其上部分一侧突出并安装在其上的物镜201，并有第一和第二外壳凹槽202a和202b并在内部段有线圈支架220。可把聚焦线圈203放在透镜支架202中部的线圈支架上并水平地绕制使基本上具有矩形的形状，而可把跟踪线圈204放在聚焦线圈203的前、后横向表面上的线圈支架上并垂直地绕制使具有矩形的形状。但是，本发明并不想要受到如此限制。因为线圈的形状是可改变的。附着到那里的轭架206a和磁体205可以拾取器基座206突向透镜支架202的第一和第二外壳凹槽202a和202b。金属丝悬架207可在它们在左/右侧分别支承透视支架202。可把主基底208电连接到线圈203和204，而固定到拾取器基座206背后的框架209可支承金属丝悬架207。

较佳的是，单磁体205通过单极(N：S)面向线圈203和204，且它具有的面向区域比聚焦线圈203和跟踪线圈204的组合区域更宽。

另外，光拾取传动机构200可用聚焦线圈203的一个内部中心位置可以是聚焦的力中心位置，对称跟踪力中心位置和透镜支架质量中心位置，来表出它的特征。另外，如图13a-b所示，在两磁体间的距离可以是3.6mm。

透镜支架202可具有一种结构，在该结构中，用于支承线圈203和204的线圈支架220(例如，如图12所示)是整体地形成在附着于透镜支架内部两侧的第一和第二外壳凹槽202a和202b之间。

如图11到13所示，在光拾取传动器机构200中，在透镜支架202的上部一侧装着物镜201，而在透镜支架202和框架209的两侧都连接一对金属丝悬架207在一预定的自由设下来支承透镜支架202。可为附着到框架209后表面的主基底208和位于透镜支架202的左/右横向表面的基底(例如，接触点)211流通电流而对金属丝悬架电连接。

如图12所示，透镜支架202可具有形成在内部段另一侧的第一和第二外壳凹槽202a和202b，并有整体形成在第一和第二外壳凹槽202a和202b之间的线圈支架220。线圈支架220可以在Y轴方向上透镜支架202的内底面上，并有形成在其中央的具有+字形的凸台224，和放在或形成在其左/右两侧的跟踪线圈位置凹槽222。较佳的是，把聚焦线圈203密接并组合到+字形凸台224上面，而把跟踪线圈204放在线圈位置凹槽222上。由于聚焦线圈203可平卧地放置，而跟踪线圈204可直立地放置，所以聚焦线圈203和左/右跟踪线圈204可紧凑地组合在Y轴的方向上。

较佳的是，把聚焦线圈203和跟踪线圈204用结合工艺彼此紧凑地组合起来，然后放置于即固定到线圈支架220。因此，可省去用来固定聚焦和跟踪线圈的线圈架来减轻相对于现有技术透镜支架的重量。而且，可在+定形凸台224的周界和外部之间填塞树脂215，在透镜支架202中向内地形成凸台225的凹槽225a，分别来固定线圈203和204。

另外，由于在透镜支架202的第一和第二外壳凹槽202a和202b中能放置形成在拾取器基座206上的U形轭架206a，而磁体205可附着到轭架内部横向表面，所以，水平绕制的聚焦线圈203的两个横向表面都面对磁体205，而以矩形垂直绕制的跟踪线圈204的两个横向表面都面对磁体205的左/右侧。作为一个实施例，该磁体具有单极性。

线圈支架220的基座可包括彼此各不相同的薄层。这样，线圈支架220的十字形凸台224的基座223具有的高度不同于线圈位置凹槽222底表面226的高度，以便调节聚焦线圈203的高度和跟踪线圈204的高度。透镜支架202可用一种材料(例如，塑料)与线圈支架224的十字形凸台222，基座223，和线圈位置凹槽222的底部表面整体地形成，或也可在分离的组合式结构来制作。

如图13a和13b所示，本发明的诸实施例可用在磁体205之间配置线圈203和204的结构。磁体205的中心可面对聚焦线圈203，而在磁体205的两侧分别配置左/右跟踪线圈204。就是说，每个线圈是沿着示于图11的Y轴方向配置的。而且，较佳的是，由于磁体205具比聚焦线圈203和跟踪线圈204的面对着面的区域有更宽的区域，所以磁通量分布可依靠聚焦和跟踪线圈203和204的聚焦和跟踪操作来取得平衡。

由于磁体205配置在聚焦线圈上定中心为的前/后，而跟踪线圈204配置在它的左/右，所以聚焦线圈203的中心位置可以是质量中心位置，同时也可以是取决于聚焦或跟踪操作的力中心位置，换句话说，在两磁205之间的中心位置(G)较佳地成为质量中心位置和取决于启动的中心位置。这就是说，聚焦线圈203的操作中心位置和沿定在聚焦线圈203中心的Y轴方向装置的两个跟踪线圈204的力矩中心位置能在一个位置(G)上彼此一致。如把透镜支架202的质量中心位置构筑得与一个位置(G)一致，则可让线圈的操作中心位置与透镜支架202的质量中心位置一致。因而，由于线圈203和204的中心位置(G)能较佳地变为质量中心位置和取决于启动的力中心位置或聚焦线圈203的中心位置能变为跟踪线圈204的力中心位置，在磁体205之间的中心能变为质量中心位置和取决于启动的力中心位置。

因而，质量中心位置和取决于透镜支架202的聚焦驱动或/和跟踪驱动的操作中心位置，较佳的是具有在沿着示于图11的X轴方向在一中心位置(G)彼此相一致的结构，而且，由于磁体203面向聚焦线圈203的两侧，所以，可减少或阻止泄漏磁通量，而可更精确地即一点不错地移动一个移动的物体(例如，透镜支架)。

如果把电流加到配置在两磁全205之间的聚焦线圈203或/和跟踪线圈204，则线圈会受到磁体205的互作用电磁力，而可集体地移动聚焦线圈203和跟踪线圈204，与透镜支架202，根据弗雷明左手法则来决定聚焦线圈203和跟踪线圈204的受力方向。

当聚焦和跟踪线圈203和204与磁体205的互作用造成加到该线圈的电磁力，该线圈结构(例如，线圈本身)和移动物件(例如，透镜支架)能在聚焦方向(Z轴)或跟踪方向(Y轴)移动。因而，当物镜201移动来调节在光盘上聚焦的光点位置时，透镜支架202就会移动(未示出)。

图14示出根据本发明的一实施例中跟踪线圈和磁体的侧视图。如图14所示，依据跟踪线圈204和磁体205相对于现有技术的跟踪线圈，可额外提供互连长度(l)，从而来改善伺服随动装置的稳定性。而且，在磁体205之间的距离(d)比现有技术的距离要宽，这样，可减少或消除由磁体205之间互作用产生的反电磁力(例如：反EMF)来改善性能。

现在来描述根据本发明的光拾取传动机构的操作。这些操作可应用到传动机构200并用它来作描述。不过，不想使诸实施例受到这样的限制。

图15a和15b是示根据本发明的一实施例中光拾取传动机构的聚焦和跟踪线圈的磁通量/向量的分布图。图15a示出两磁体205和聚焦线圈203的磁通量分布。如图15a示出两磁体205和聚焦线圈203的磁通量分布。如图15a所示，如果把恒定方向的电流加到聚焦线圈203，则磁通量分布从面对着磁体205的一个横向表面朝向左/右横向表面的中心向前起作用来完成聚焦操作。这样，由于该实施例能利用全部聚焦线圈，所以能减少或消除泄漏的磁通量，而在没有基本损耗的情况下，能很大地取得磁通量的主量。与此相反，现有技术的缺点是具有从在磁体外的聚焦线圈产生的泄漏磁通量(见图1)。

图15b示出在两磁体和跟踪线圈之间产生的磁通量分布。如图15b所示，如果把恒定方向的电流加到跟踪线圈204，则磁通量分布从面向磁体205的该横向表面朝向上/下横向表面的中心向前起作用，来完成跟踪操作。

在示于图11的结构中，透镜支架的频率特性通过模拟示出在第一频率(例如21.6kHz)有弯曲状态，而示出在第二频率(例如，27.8kHz)有扭转状态。与已在现有技术结构中产生初始变形的17.2kHz频率相比，初始变形产生在21.6kHz，因此，约4.4kHz的差数能保证在高倍率快速重现状态中放大聚焦或跟踪的控制区，使得能提供高临界程度的伺服随动机构增益，能提供较高临界程度的频率或能改善或保证伺服随动机构的稳定性。

图16a-16b是示出根据图11的实施例，在叠加聚焦振动和叠加跟踪振动时，在透镜部分测量的频率/相关系图，在这关系图中，由于聚焦力中心位置和跟踪力中心位置是较佳地彼此一致的，所以质量中心位置可与X轴的焦点力中心位置的一个位置相一致。因而，俯仰模式和摇摆模式被减少到几乎不存在，而驱动特性则愈来愈稳定。

图16a根据本发明一较佳实施例，在一种类型的光拾取传动机构中叠加聚焦振动时的相位与频率的关系图，而在俯仰模式中俯仰相位延迟具有+0.14°的值。图16b是在叠加跟踪振动时的相位与频率的关系图，而摇摆相位延迟具有-0.05°的值和滚动相位延迟具有+4.10°的值。在现有技术光拾取传动机构中，聚焦力中心位置和跟踪力中心位置彼此是隔开一些距离的，而质量中心位置应放在适当的地方(例如，在...之间)，使得俯仰相位延迟＝+5.31°，摇摆相位延迟＝-5.38°)，而在滚动模式中的相位延迟则具有+4.62°的值。

图17到19b示出根据本发明另一实施例的光拾取传动机构。如图17到19b所示，该传动机构包括在其一侧具有物镜301的透镜支架302，并在它的另一侧，在第一和第二外壳凹槽302a和302b之间较佳的是整体地有线圈支架320。而且，在第一和第二外壳凹槽302a和302b中装置着相互对着面的磁体305和轭架306a，以及聚焦线圈303和跟踪线圈304配置在两磁体305之间的线圈支架320上。

可把在线圈支架320上的跟踪线圈304面对面，且是上/下地装置。与多个磁体的中心留有一点距离，而把聚焦线圈305面对面装置，且是左/右地，离开多个磁体305的两侧都留有一点距离。较佳的是，线圈支架320在透镜支架，302的第一和第二外壳凹槽302a和302b之间整体地形成，而用来支承跟踪线圈一个表面(例如，后面)的跟踪线圈的支承凸台322可在其中央部形成上/下地，以及用来支承聚焦线圈的聚焦线圈支承凸台324可在其中央部左/右地形成。

如图17到19b所示，透镜支架302较佳的是在其一侧的上部具有物镜301，且在其另一侧可构筑磁路。就是说，在另一侧透镜支架的第一和第二外壳凹槽302a和302b中装置有磁体305和轭架306a。如图18所示，形成在第一和第二外壳凹槽302a和302b之间的线圈支架302上，可以是线圈303和304。轭架306a可以从拾取器基座306突出，或也可从轭架板通过分离的连接单元突出。

线圈支架320可具有直立地形成在其中央部分前/后的跟踪线圈凸台322，并有形成在其两侧的聚焦线圈凸台322的外横向表面上分别装置有跟踪线圈304，使得它们分别面对磁体305的中央部分，而在聚焦线圈的支承凸台324上装置有聚焦线圈303，使得它们分别面对磁体305的横向表面部分。

此时，如图19a和19b所示，彼此分开一点距离装置的跟踪线圈304的中心和聚焦线圈303的中心可以彼此一致，且线圈303和304的中心可与透镜支架302的质量中心位置(G)一致，就是说，在透镜支架302的启动区范围和磁体305的磁场区之内较佳的是装置线圈303和304，这样能使透镜支架302的启动中心和透镜支架的质量中心共同放在一个位置(G)上。在透镜支架302另一侧的中央部位可配置成十字型的线圈303和304，使得十字型的线圈303和304的中心位置(G)变成为透镜支架302的质量中心位置和取决于聚焦和跟踪启动的力中心位置。

如图17到19b所示，磁驱动部分的中心(例如，磁体和线圈)可以是透镜支架的质量中心位置和同时是取决于跟踪和聚焦驱动的力中心位置，这位置较佳地放在透镜支架的启动区或磁体的磁区范围之内的位置。而且，一聚焦线圈结构和一聚焦线圈结构可以是(例如，至少每种各一个)对称地配置在透镜支架的另一侧，使得它们即使在两根轴或三根轴启动之时也能更稳定地被驱动。

较佳的是，在沿着透镜支架的X轴方向的一位置上装备具有能使质量中心位置，聚焦操作中心位置，和跟踪操作中心位置一致的光拾取传动机构，为的是能减少泄漏磁通量而可增加磁通量的主量。另外，可省去线圈架来减少质量，从而实现高灵敏度，另外，可在两磁体之间即在磁场区内装置这两种线圈，这样，相对于现有技术增加了两磁体间的空隙，从而减少了由于反电动力(例如，back EMF)引起的轭架振动量，这种振动可通过磁体间短距离间隙产生。就是说，可以减少或消除由另外磁力影响的一个要素。

如上所述，一种光拾取传动机构的诸实施例及其方法具有各种优点。在一种光拾取传动机构的诸实施例中，可把聚焦线圈和跟踪线圈配置在两磁体之间，以便使光拾取传动机构的质量中心位置和取决于跟踪和聚焦驱动的力中心位置能共同放在一个位置上，这样，可增加驱动可靠性和传动机构稳定性。而且，从透镜支架省去了线圈架来减轻透镜支架的重量，以及线圈支架可与透视支架是一体的，而透镜支架的两个横向表面可由线圈支架支承在安装线圈的位置上来减少透镜支架的变形。可把跟踪和聚焦线圈对称地集中在两磁体之间(例如，包括至每种一个线圈结构)，使得在两磁体之间的距离可取得较宽来减小反电动力。另外，把聚焦线圈和跟踪线圈对称地配置在两磁体之间来减少诸如因为在力中心位置和质量中心位置之间的差异而产生的滚动模式和俯仰模式的现象效应。

上述的诸实施例和优点仅是示例性的，且并不把它当作对本发明的限制。可容易地把本说明书尖用到其它类型的装置，力求把本发明的描述作为说明，并不限制权利要求书中提出的范围。许多可替换、修改和变化的装置对本领域中的技术人员是显而易见的。在权利要求书中，力求把方法加功能的条项用来覆盖在此描述的，作为完成所述功能的各种结构，且不仅是结构的诸等价方案而且还是等价的诸种结构。

Claims (23)

1、一种细长型光拾取传动机械，其特征在于，包括：

透镜支架，具有用来把光会聚在光盘上的装在其一侧的物镜，其中该透镜支架被构筑得在聚焦和跟踪方向作移动；

基座，具有多个第一支承部件，每个部件具有附着在那里的磁体，其中诸磁体彼此面对着面；以及

驱动部件，具有一聚焦线圈和至少一个在跟踪方向，直接串联附着到聚焦线圈的跟踪线圈；

其中透镜支架包括第二支承部件，它从那里延伸，构筑来在磁体间支承驱动的部件，而其中该驱动部件通过与磁体的电磁力在聚焦和跟踪方向启动透镜支架。

2、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，第二支承部件与透镜支架整体地形成。

3、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，该聚焦线圈被装置成面向磁体的中央部位，而两个跟踪线圈则被装置成分别面向磁体的左和右侧。

4、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，第二支承部件具有面对着磁体中央部位的一位置上形成的聚焦线圈的支承凸台来配置水平绕制的聚焦线圈，而透镜支架具有在聚焦线圈的支承凸台两侧形成的线圈位置凹槽来配置垂直绕制的跟踪线圈。

5、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，把聚焦线圈装置成分别面向磁体左和右侧的至少一侧，而把两跟踪线圈装置成分别面向每个磁体的中央部位。

6、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，第二支承部件具有分别面向各磁体中央部位的第一和第二跟踪线圈的支承凸台，而每一支承凸台支承一个垂直绕制的跟踪线圈，以及其中第二支承部件具有分别面对着磁体左和右侧的聚焦线圈的支承凸台，而每一个支承凸台支承一个水平绕制的聚焦线圈。

7、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，第二支承部件具有面对着磁体中央部分的至少一个线圈的支承凸台来支承绕制的聚焦线圈和跟踪线圈中的一个线圈，并具有在线圈的支承凸台侧形成的线圈位置部位来支承其它所绕制的线圈，而其中每个磁体具有单极。

8、根据权利要求7所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，线圈的支承凸台支承一水平绕制的聚焦线圈，而线圈位置部位是一个支承垂直绕制的跟踪线圈的凹槽。

9、根据权利要求7所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，线圈的支承凸台支承一垂直绕制的跟踪线圈，而线圈位置部位是一个支承水平绕制的聚焦线圈的凹槽。

10、根据权利要求1所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，配置在第二支承部件上的聚焦线圈和跟踪线圈是用树脂来固定的。

11、一种光拾取传动机构，其特征在于，包括：

基座，它包括具有多个彼此面对面的磁体的磁体支承单元；

透镜支架，构筑成要在跟踪和聚焦方向上被驱动，该透镜支架包括装在其第一侧部位上的物镜和装在其第二侧部位上位于两磁体间的磁驱动单元，其中透镜支架的质量中心位置基本上与磁驱动单元的力中心位置相一致。

12、根据权利要求11所述的传动机构，其特征在于，磁驱动单元包括在彼此不同方向绕制的且固定地附着在一起的线圈。

13、根据权利要求12所述的传动机构，其特征在于，磁驱动单元的线圈包括：

聚焦线圈，构筑成面向多个磁体的中央部位，并在矩形下水平绕制；以及

第一和第二跟踪线圈，构筑成面向诸磁体的左和右侧，并直接附着到聚焦线圈的横向表面。

14、根据权利要求12所述的传动机构，其特征在于，磁驱动单元的线圈包括：

垂直绕制成矩形的面对着磁体中央部位的跟踪线圈；以及

第一和第二聚焦线圈，面对着诸磁体的左和右侧，并直接附着到跟踪线圈的横向表面。

15、根据权利要求11所述的传动机构，其特征在于，磁支承单元的磁体具有单极性。

16、根据权利要求11所述的传动机构，其特征在于，磁驱动单元的力中心位置包括聚焦线圈的力中心位置和跟踪线圈的力中心位置。这两个位置每个基本上与透镜支架的质量中心位置相一致。

17、根据权利要求11所述的传动机构，其特征在于，包括连接在透镜支架的第一端部和在柜架的第二端部的一对金属丝悬架，以规定的自由度来支承透镜支架。

18、一种细长型光拾取传动机构，其特征在于，包括：

固定成彼此面对面的，在其中间具有磁场区的单磁体；

透镜支架，具有装在其一侧用于启动的物镜，并且有在磁体的磁场区中彼此直接连接的，对称装置着的跟踪和聚焦线圈；

框架，用于支承透镜支架；以及

多个金属丝悬架，用于把框架柔性地附着到透镜支架。

19、根据权利要求18所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，透镜支架包括：

第一和第二外壳凹槽，每个凹槽具有位于其中的一个单磁体，以及

在Y轴方向形成的线圈支架，使聚焦和跟踪线圈放在第一和第二外壳凹槽之间。

20、根据权利要求19所述的细长型光拾取传动机构，其特征在于，线圈包括：

聚焦线圈，位于在磁体间的中央部位，并具有面向磁体的水平绕制的表面，以及

左/右侧跟踪线圈，位于磁体的左/右侧，并有面向两磁体的垂直绕制的表面。

21、根据权利要求20所述的传动机构，其特征在于，线圈支架具有聚焦线圈的支承凸台，它具有固定到该处的聚焦线圈，并在聚焦线圈的支承凸台和透镜支架内横向表面之间较低水平处有一跟踪线圈的位置凹槽。

22、根据权利要求19所述的传动机构，其特征在于，聚焦线圈配置在线圈支架的左和右侧以面向诸磁体的左和右侧，而跟踪线圈垂直地配置在线圈支架的中央以面对磁体的中央。

23、一种形成光拾取机构的方法，其特征在于，包括：

制作具有光拾取机构的透镜支架；

绕制聚焦和跟踪线圈；

直接把至少一个跟踪线圈附着到至少一个聚焦线圈以形成沿透视支架的跟踪方向延伸的驱动单元；

把物镜连接到透镜支架的第一侧；

把驱动单元连接到透镜支架的第二侧；以及

把透镜支架柔性地附着到框架，以便把驱动单元完全支承在传动机构范围中。

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