CN1470900A - 用于印版成象的紧凑型装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种紧凑的用于印版(12)的成象装置(10),具有一定数目的光源(14)及用于在印版上产生一定数目的光源(14)的象点(16)的投影光学组件(18),其中投影光学组件(18)包括至少一个由折射光学部件(32,56,58,60,62,64)组成的宏光学组件(20),其特点在于,从光源(14)到象点(16)的光束路径(22)两次经过宏光学组件(20)。该节省结构空间的成象装置(10)可使用在印刷机(90)的印刷装置(88)中。

Description

用于印版成象的紧凑型装置
技术领域
本发明涉及一种用于印版的成象装置,具有一定数目的光源及用于在印版上产生一定数目的光源的象(像)点的投影光学组件,其中投影光学组件包括至少一个由折射光学部件组成的宏光学组件。
背景技术
为了形成印刷模、尤其是印版的结构,在其接收油墨及排斥油墨的区域上通常首先在未形成结构时的一个状态、例如接收油墨的状态中,使印版现有表面部分地受到电磁射线的作用、尤其是不同波长的热或光的作用,以便在受到作用的位置上产生另一状态、例如排斥油墨的状态。为了合乎目的地、精密及快速地进行印版的曝光,通常使一定数目各自可控的光源、尤其是激光器光源并行运行,它们以排的阵列或矩阵布置,及通过投影光学组件投影到印版的表面上,它被设置在投影光学组件的成象区中。
在所述类型装置的投影光学组件上为了一个印版的成象,在印版曝光装置或印刷装置中,将对其提出应满足不同功能的一系列要求。一方面,一部分投影光学组件具有尽可能将一定数目的光源无误地投影到象点上的全局性目标。该部分在表达上将被称为“宏光学组件”(Makrooptik)。另一方面,投影光学组件的其它部分或宏光学组件的部分具有自身的另外功能、例如满足焦点位置适配的可能性。
通常光源阵列由一定数目的各自可控二极管激光器、最好由单波模二极管激光器组成,它们相互以一定距离、典型地隔开相等距离地布置在半导体衬底上及具有在晶体断裂面上被精确定义的共同出射面(IAB,各自可控的二极管激光器棒)。因为该二极管激光器的光发射锥角在两个相互基本正交的对称面中具有不同的张度,因此具有光学校正的必要性,以便减小出射光的不对称发散。可以进行张角比例的个别适配。该校正在各个光源上相对一部分投影光学组件进行,这部分也被称为微光学组件(Mikrooptik)。
现有技术公开了一系列投影光学系统,它们专用于实现图象载体成象的二极管激光器列的投影。例如由文献US4,428,647公开了一种具有半导体激光器阵列的成象装置,对于它的每个激光器分别配置了一个位于附近的用于发散校正的透镜。接着,半导体激光器的光通过一个物镜聚光及被聚焦在一个图象载体上。由文献EP 0 878773 A2公开了一种具有各自可控二极管激光器阵列的成象装置。其投影光学组件具有一个微光学组件及一个宏光学组件。该宏光学组件是两侧上远心的共焦点透镜结构。由在先申请的DE 101 15 875.0公知了一种具有一个光源阵列的成象装置。其投影光学组件包括一个产生光源中间虚拟图象的微光学组件及一个宏光学组件,后者包括具有共同曲率中心点的一个凸反射镜及一个凹反射镜、即所谓的开路型(Offner-Typ)的组合及它产生中间虚拟图象的真实图象。
这些由现有技术公知的方案是共同的,即与它们的功能相比需要大的结构空间。很难实现改动或附加另外的功能。因为一方面在这种机器中结构空间非常有限,另一方面印版曝光装置或用于实现成象装置的印刷装置的结构或构型很少可以变更,需要减小投影光学组件所需的结构空间,而不限制其必要的功能。此外,在印刷机上或印版曝光装置上的投影光学组件遭受震动或振动,由此现有技术中公知的光学结构通常不能简单地转用在印版曝光装置上或一个印刷机的印刷装置中。
发明内容
本发明的任务在于,提出一种用于印版成象的紧凑型装置,它允许简单地组合在印刷机的印刷装置所提供的结构空间中。
根据本发明该任务将通过具有权利要求1特征的印版成象装置来解决。本发明的进一步有利构型是从属权利要求中的特征。
根据本发明,用于印版的成象装置具有一定数目的光源及用于在印版上产生一定数目的光源的象点的投影光学组件。投影光学组件包括至少一个由折射光学部件或光学元件、尤其是一定数目的透镜组成的宏光学组件,从光源到象点的光束路径两次经过宏光学组件。在表达方面,光束路径一词应理解为该一定数目的光源的所有光束路径。尤其是折射光学部件被两次地经过。它们是这样的折射光学部件,即实际有助于产生该一些数量象点的折射光学部件。与具有一次光束路径的宏光学组件相比,通过光束路径的多次经过或重新经过宏光学组件就可以在相同功能的情况下使宏光学组件更紧凑及节省结构空间。光源的数目也可为1,但最好设有多个光源。光源可布置成一维(最好为直线)或两维阵列,特别是均匀的布置、最好是笛卡儿坐标布置。光源及象点彼此形成单值的函数关系。象点位于彼此分离的位置上。象点可密集地或最好彼此非密集地布置,即它们的距离可大于待设置的印刷点的最小距离。在印版上彼此以最小印刷点距离单位相邻的象点的距离最好是一个自然数,它与象点(光源)的数目互质(teilerfremd)。印版最好是一个胶版印版。
在此,光束路径可是非中心地通过宏光学组件。尤其是,在第一路径上通过宏光学组件的光束路径是不同于在第二路径上通过宏光学组件的光束路径。此外,光束路径与宏光学组件的光轴对称地延伸,尤其是第一路径可以相对于第二路径对称地延伸。
光束路径可这样地两次通过宏光学组件,即宏光学组件的第一主平面及第二主平面位于宏光学组件的一侧上。宏光学组件可这样地实施:物(一定数目的光源)及图象位于宏光学组件的一侧上。换句话说,光束路径在第一路径上以第一方向通过宏光学组件及在第二路径中以与第一方向相反的方向通过宏光学组件。
在印版的成象装置的一个优选实施形式中,宏光学组件配置有至少一个反射镜,尤其是平面反射镜。该宏光学组件可这样地实施,即光束路径在第一路径中以第一方向通过宏光学组件,直到光到达至少一个反射镜上,然后在其第二路径中以与第一方向相反的方向通过宏光学组件。该宏光学组件近似地相应于双倍大的光学装置。换句话说,由一定数目的光学元件组成的宏光学组件由于一个或多个反射镜在光学上倍增或加倍,其中该一个或多个反射镜使光反射到一个对称的通过宏光学组件的第二通路中。
在根据本发明的印版的成象装置中,宏光学组件可包括至少一个作成自适应(adaptiv)光学组件的部分或相配的反射镜的至少一个可被作成自适应的。尤其是所配置的反射镜中至少一个作成自适应的,即作成具有可变的曲率半径或可变的表面结构。通过曲率半径的变化其图象宽度可被改变。曲率半径的变化相对自适应反射镜的延伸尺度是小的。该自适应反射镜也可实现对通过宏光学组件的光束路径上的光波前的操作,例如达到聚焦/散焦的轴向变化。自适应反射镜可为补偿投影误差的可调节元件。自适应反射镜可为膜片反射镜、静电反射镜、双态压电反射镜、压电驱动的(例如抛光铣削的)金属反射镜或类似的反射镜。
在根据本发明的印版成象装置的一个有利实施形式中,宏光学组件至少包括一个可移动的透镜,对此变换地,可包括一个可移动的反射镜。可移动的透镜尤其有利,因为尽管透镜运动仍可保持宏光学组件远心。当印模或印版被张紧在滚筒上,该固定经常导致干扰的凸面(“plate bubble”),它的量级可达若干个100微米。由于凸面该印版表面可处于激光束的有用聚焦区域以外,以致这种对聚焦位置的远离使激光束的功率密度不足以达到可接收的成象结果。
通过在宏光学组件中可移动的透镜能以简单的方式作到:激光束的聚焦位置在光轴方向上移动(变焦点)。对变焦点的精确度要求由激光束的景深清晰度产生。根据本发明的装置可作到简单结合焦点移动的功能。该装置在最后的光学部件与印版之间具有确定的距离,其中该距离通过焦点的移动不会改变。同时可达到可移动透镜的移动路径与焦点位置改变之间的良好变换比例。
在印版的成象装置的一个有利实施形式中,光源是各自可控的激光器。每个光源相应于单个可寻址的具有成象光束的成象通道。这些光源尤其可发射红外(优选)、可见光或紫外范围中的光。在有利的进一步构型中激光器可被调节和/或脉动地工作在纳(10-9)秒、皮(10-12)秒或飞(10-15)秒范围中。尤其,各自可控的激光器可为二极管激光器或固体激光器。各自可控的激光器可被组合在一个或多个棒中,尤其可涉及一个或多个各自可控的二极管激光棒(IAB)、最好是单光模的。一个典型的IAB包括4至1000个激光器,尤其是30至260个激光器。激光器优选基本上均匀间隔地设在IAB中,尤其在一个直线(一维阵列)中或在一个栅格(两维阵列)上。
在本发明印版的成象装置中,可沿光束路径在一定数目的光源的后面设有一个微光学组件,沿光束路径,该微光学组件设在宏光学组件的前面。对于二极管激光器、尤其在一个棒中的二极管激光器,微光学组件主要用于光束直径的适配:由于在IAB前侧的各个激光束的直径很小,典型地,在水平方向即慢轴上为几个微米及在垂直方向即快轴上为几个微米,在两个轴上光束直径的适配需要彼此无关地进行,以便达到印版上所需的直径,典型地在水平或垂直方向上为几个微米。将力图达到在基模上的尽可能理想的高斯激光束,因为它具有最高的自然景深清晰度及由此对于焦点移动或凸面(“plate bubble”)最不敏感。最好激光器工作在单模方式中。在各自可控的激光器的后面可设置一个微光学组件,由激光器射出的光束的光束直径通过该微光学组件在两个相互正交的轴中可彼此无关地被影响、即可彼此无关地被调节。微光学组件的象点(中间图象)可为真实的或虚拟的。尤其是,微光学组件产生一定数目光源的一个虚拟的、放大的中间图象,该图象通过宏光学组件被投影。
尤其有利的是,在根据本发明的印版的成象装置中,一定数目光源的光通过至少一个光偏转元件入射到宏光学组件中。通过该措施其结构可作得更紧凑。最好使用一个帕罗棱镜代替反射镜对作为光偏转元件,以便使一定数目的光源的光入射到宏光学组件中。借助帕罗棱镜也可实现对通过宏光学组件的光束路径的调节。
在一个有利的实施例中,根据本发明的装置的宏光学组件是两侧上远心的(Telezentrisch)。在这方面应指出,在聚焦时的远心例如可在根据本发明的装置的宏光学组件中借助一个自适应反射镜或一个可移动透镜来保持。换句话说,借助上述焦点移动将改变物-象距离,其中目标距离是固定的。通过在整个区域中远心的光束路径可达到:与光束传播(光轴)正交的方向上的图象大小不能或仅可以很小的容差、典型为±1微米被改变。此外,以有利的方式考虑了:宏光学组件实质上实现无尺寸改变的投影,尤其优选为1∶1的投影。宏光学组件的焦距最好是无限的。
在根据本发明装置的一个有利实施例中,宏光学组件后面沿光束路径设有一个用于调节图象大小的校正光学组件。该校正光学组件可实现很高的象点位置精确度及最好也用于很精确地调节图象尺寸。最好校正光学组件是由两个透镜组成的变焦物镜。该变焦物镜本身如宏光学组件那样是两侧上远心的。在图象尺寸适配时保持该远心。
在根据本发明装置的一个有利实施例中,在印版上光源的一定数目的象点中相邻的象点基本上具有均匀的距离a,其中距离a是最小印刷点距离p的整数倍。尤其在一个有利的方式中,光源的数目为n,其中n与数(a/p)互质,由此可进行印版成象的一种无冗余的隔行扫描方法。显然n及(a/p)两者不能同时为1。
在根据本发明的印版成象装置的一个优选实施例中,待成象的印版可被接收在一个可旋转的滚筒上。对此变换地,一个可旋转的滚筒的表面可构成一个印版。换句话说,印版可为平板形(具有一个边缘线)或套筒形(具有两个边缘线)的印版。它们可以是单次描绘(常规的)、可重新涂层或可重新描绘的印版。在根据本发明装置的表达上,印版也可理解成所谓的数字式印版。数字式印版是一个表面,该表面用作印刷油墨的中间载体,当它转移到印刷材料上前。
在此,该表面本身被结构化成接收油墨或排斥油墨的区域,或仅结构化地通过成象设置印刷油墨。数字印版可通过与激光束的相互作用被结构化成一些区域,它们使印刷油墨转移到或不转移到印刷材料上或中间载体上。数字印版的结构形成可在印版上油墨前或后发生。印版例如也可对于在热转移方法中的使用基本上由印刷油墨本身形成。
根据本发明的成象装置可特别有利地应用在印版曝光装置或印刷机的印刷装置中。印刷装置可包括一个或多个用于成象的装置。多个装置可这样布置,以致它们在时间上可并列地曝光一个印版的一些部分区域。具有一个或多个本发明印刷装置的本发明印刷机可为成幅材料加工机或页张加工机。页张加工机通常包括续纸器、收纸器及一个或多个继续加工站、如涂漆装置或干燥装置。成幅材料加工机的后面可设置折边装置。作为根据本发明印刷装置或根据本发明印刷机基础的印刷方法可为直接或间接的平版印刷方法,苯胺印刷方法,胶版印刷方法,数字式印刷方法或类似的印刷方法。
在根据本发明的构思方面也涉及在印版的成象装置中相对一个印版的位置改变象点的相对位置的方法,该成象装置具有一定数目的光源及用于在印版上产生一定数目的光源的象点的投影光学组件,其中投影光学组件包括至少一个宏光学组件。根据本发明方法的特征在于:移动宏光学组件中的一个透镜,光束路径两次经过该宏光学组件。在使用由光束路径两次经过的宏光学组件的情况下,可通过宏光学组件中的一个透镜的移动来改变物-象距离,其中物体距离是固定的。其中以有利方式保持远心。最好根据本发明的方法借助在该说明中描述的印版的成象装置来实施。
附图说明
现在将借助以下的附图及对它们的描述来说明本发明的其它的优点、有利的实施形式及进一步构型。附图各为:
图1:根据本发明的印版成象装置的投影光学组件的一个优选实施形式的视图,
图2:根据本发明的印版成象装置的宏光学组件的一个优选实施形式的视图,其中部分图A表示垂直平面中的视图及部分图B表示水平平面中的视图,
图3:根据本发明的一个印版滚筒上的印版成象装置的一个优选
实施形式的概要视图,
图4:根据本发明的一个印刷机的印刷装置中的印版的成象装置的一个优选实施形式的概要视图。
具体实施方式
图1表示根据本发明的印版成象装置的投影光学组件的一个优选实施形式的视图。该投影光学组件18沿着其光束路径22包括从一定数目的光源14-在一个优选实施例中为可个别控制的二极管激光棒(IAB)-出发的一个微光学组件34,一个帕罗棱镜(Porroprisma)48,一个宏光学组件20,一个物镜、它引起1∶1的影象,及一个校正光学组件50。投影光学组件18产生光源14数目的一些象点16。图1的左上方表示出用于定量的毫米比例尺。
借助微光学组件34可使光束直径在垂直于传播方向(光轴)的两个彼此正交的方向上相互无关地受影响。它可实现待成象点大小的适配。图2用于详细地说明微光学组件34,它包括一个快速轴向透镜36及一个慢速轴向透镜38。所述数目的光源14及微光学组件34可被共同地封装在一个壳体内。帕罗棱镜48、或两个反射镜用于使光入射到宏光学组件20的多透镜的1∶1物镜及用于校准图象平面中的光束。帕罗棱镜48的内侧面通过全部反射用作光偏转元件46。宏光学组件20包括第一透镜56,第二透镜58,第三透镜60,第四透镜62,第五透镜64,一个可移动透镜32(移动方向由双箭头表示)及一个反射镜30。宏光学组件的各透镜及反射镜30围绕光轴24轴向对称地设置。光束路径22不是沿光轴24延伸,而是非中心或偏离轴线的。通过优选的高反射率镀层的反射镜30可反射光及通过宏光学组件20相对第一路径重新但对称地在光轴24旁反射。换句话说,光束路径22折叠地通过宏光学组件20。宏光学组件20的第一主平面26及第二主平面28-尤其对称地-位于宏光学组件20的一侧上。在图1所示的优选实施形式中,宏光学组件20的前面设有一个帕罗棱镜48。结果是光源14所在的反射主平面27的点被投影到宏光学组件20的第二主平面28上。
为了象点16焦点位置的适配,将合乎目的地改变两次被光束路径穿过的宏光学组件20的物-图象距离。这在该实施形式中是通过可移动透镜32的移动来实现的。由于两次通过及宏光学组件20的适当设计将达到可移动透镜32的移动与象点16的焦点位置改变之间的良好变换比,一个距离s的移动将引起m*s的位置改变,其中m>>1。通过宏光学组件20的光束路径是远心的。为了精细地校正图象大小,在图1所示的实施形式中在宏光学组件20的后面设置了一个具有第一透镜52及第二透镜54的远心校正光学组件50。该远心校正光学组件50是一个两透镜变焦物镜,它允许在正、负不大的百分之几如0.9至1.1的范围中无级地调节图象大小。
图2是根据本发明的印版成象装置的宏光学组件的一个优选实施形式的视图。在部分图A中表示垂直平面中的视图,其中示出垂直方向42及从图纸平面中出来的水平方向40;而部分图B表示水平平面中的视图,其中示出水平方向40及进入图纸平面的垂直方向42。图2A及2B的左上方各表示出用于定量的毫米比例尺。在优选实施形式中,微光学组件34由一个快速轴向透镜36及一个慢速轴向透镜38组成。快速轴向透镜36是一个单面抛光的玻璃纤维,它用于减小其快速轴向上一定数目的光源14的所有光束的发散。慢速轴向透镜38是由一定数目的圆柱形透镜组成的阵列,它的数目与光源数目一致,其中每个单透镜用于减小与透镜对应的光源14的光束的发散。该微光学组件34是这样设计的,即它产生一个虚拟的中间图象44。
图3是根据本发明的一个印版滚筒上的印版的成象装置的一个优选实施形式的概要视图。图3中示出被接收在印版滚筒66上的一个印版12的成象装置10。一些光源14-这里是单个棒型可控二极管激光器-的光束借助一个微光学组件34被整形,然后借助一个帕罗棱镜48被入射到具有反射镜30的宏光学组件20中。光束路径22两次穿过宏光学组件20及接着通过一个校正光学组件50。光源14将以象点16投影在印版12上。为了比较成象装置10的投影光学组件的焦点位置来确定印版12的位置,其中组合了一个三角测量传感器68。该传感器光70在印版12的表面上被反射,由此可确定距离。印版表面可具有若干100微米量级的明显凸面(“platebubble”),由此将通过可移动透镜32来进行焦点位置的改变。三角测量传感器68可在印版12的一个位置上进行测量,它通过在转动方向80上印版滚筒66的转动在较后的时刻才达到象点16的图象区。它也可涉及这样一个位置,即沿印版滚筒66的轴向相对象点16错开的位置。一定数目的光源14与一个激光器驱动器72相连接,后者与一个控制单元形成功能连接。
图4表示根据本发明的一个印刷机的印刷装置中的印版成象装置的一个优选实施形式的概要视图。在印刷机90的一个印刷装置88中配置有一个用于印版滚筒66上的印版12的成象装置10。例如三个成象光束76在印版12的一个图象区82中产生三个象点16。印版滚筒66可绕其轴78在转动方向80上转动,该成象装置10可在平行于轴78的平移方向86上移动。通过各象点16张紧的直线最好基本上与印版滚筒66的轴78平行地定向。印刷点在印版12上由象点16产生,这些象点在印版滚筒66的转动及成象装置10平移的共同作用下将沿螺旋状路径84(螺旋线)在印版12的两维表面上被引导。
在平移方向86上的进给量及转动方向80上的转动最好这样来协调,即印版12无冗余地这样被扫过,以致可设置密集布置的印刷点。为了使其上通过象点16设置印刷点的一个印版12的两维表面的这些部位用一些成象光束76(与设置在一个还是多个成象装置上无关)无冗余地被扫过,对于从在时间上安排在前的步骤中被成象的位置到在时间上随后的步骤中被成象的位置的通过,需考虑一定的进给量调节。尤其当在一个成象步骤中通过n个成象光束76在非紧密地位于印版12上的一些位置上设置n个印刷点时,进给量调节需特别严格地满足,所述非紧密即为它们的距离不是最小的印刷点距离p(典型为10微米)。如果考虑印版的方位角,当在已成象的印刷点之间在时间上随后的步骤中设置印刷点时,可实现紧密的成象。该方案也被以概念“隔行扫描(interleaving)方法”公知。例如给出在文献DE100 31 915 A1或文献US2002/0005890A1中,它的公开内容结合于此作为参考,用于印版曝光的隔行扫描方法的特征是:在给定最小印刷点距离p的情况下,对于在一个张紧直线上的一排n个成象通道彼此具有均匀的间距,它们的在印版上的相邻象点具有间距a,该间距是最小印刷点距离p的多倍,当自然数n及(a/p)互质(teilerfremd)时,可保证在张紧直线方向上无冗余地进给距离(np)。考虑内插规则将导致彼此交错的象点的螺旋状路径84。沿着一个方位角的张紧直线,一个螺旋状路径84上的象点16将被设置在在先时刻已被设置的另外的螺旋状路径84的象点16之间。最好在根据本发明的印刷装置88中使用根据本发明的成象装置10以隔行扫描方法、尤其是文献DE100 31 915 A1中所述的隔行扫描方法来成象印版12。

Claims (25)

1.用于印版(12)的成象装置(10),具有一定数目的光源(14)及用于在印版上产生一定数目的光源(14)的象点(16)的投影光学组件(18),其中投影光学组件(18)包括至少一个由折射光学部件(32,56,58,60,62,64)组成的宏光学组件(20),其特征在于:从光源(14)到象点(16)的光束路径(22)两次通过宏光学组件(20)。
2.根据权利要求1的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:光束路径(22)是非中心的。
3.根据权利要求1或2的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:光束路径(22)与宏光学组件(20)的光轴(24)对称地延伸。
4.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:宏光学组件的第一主平面(26)及第二主平面(28)位于宏光学组件(20)的一侧上。
5.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:为宏光学组件(20)配置有至少一个反射镜(30)。
6.根据权利要求5的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:宏光学组件(20)包括至少一个作成自适应光学组件的部分或至少一个反射镜(30)被作成自适应的。
7.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:宏光学组件(20)至少包括一个可移动的透镜(32)。
8.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:光源(14)是各自可控的激光器。
9.根据权利要求8的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:各自可控的激光器(14)是二极管激光器或固体激光器。
10.根据权利要求8或9的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:各自可控的激光器(14)被组合在一个棒中。
11.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:在一定数目的光源(14)的后面设有一个微光学组件(34),该微光学组件设在宏光学组件(20)的前面。
12.根据权利要求8,9或10所述的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:在各自可控的激光器(14)后面设有一个微光学组件(34),由激光器射出的光束的光束直径通过该微光学组件后在两个相互正交的轴中可彼此无关地被影响。
13.根据权利要求11或12的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:微光学组件(34)产生一个虚拟中间图象(44),该图象通过宏光学组件(20)被投影。
14.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:一定数目的光源(14)的光通过至少一个光偏转元件(46)入射到宏光学组件(20)中。
15.根据权利要求9的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:一定数目的光源(14)的光通过一个帕罗棱镜(48)入射到宏光学组件(20)中。
16.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:宏光学组件(20)是两侧远心的。
17.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:宏光学组件(20)实现基本上1∶1的投影。
18.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:在宏光学组件(20)后面设有一个用于调节图象大小的校正光学组件(50)。
19.根据权利要求15的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:校正光学组件(50)是由两个透镜(52,54)组成的变焦物镜。
20.根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:在印版(12)上光源(14)的一定数目的象点(16)中相邻的象点(16)基本上具有均匀的距离a,其中距离a是最小印刷点距离p的整数倍。
21.根据权利要求20的印版(12)的成象装置(10),其特征在于:光源(14)的数目为n,其中n与数(a/p)互质。
22.印刷装置(88),其特征在于:设有至少一个根据以上权利要求中一项的印版(12)的成象装置(10)。
23.印刷机(90),其特征在于:设有至少一个根据权利要求22的印刷装置(88)。
24.在印版(12)的成象装置(10)中相对一个印版(12)的位置改变象点(16)的位置的方法,该成象装置具有一定数目的光源(14)及用于在印版上产生一定数目的光源(14)的象点(16)的投影光学组件(18),其中投影光学组件(18)包括至少一个宏光学组件(20),其特征在于:移动宏光学组件(20)中的一个透镜(32),从光源(14)到象点(16)的光束路径(22)两次经过该宏光学组件。
25.根据权利要求24的相对一个印版(12)的位置改变象点(16)的位置的方法,其特征在于:使用根据权利要求1至21中一项的印版(12)的成象装置(10)。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101827707B (zh) * 2007-10-17 2012-01-25 伊斯曼柯达公司 创建均匀成像表面
US9513484B2 (en) 2012-09-07 2016-12-06 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Method and device for focusing laser light
CN107015430A (zh) * 2017-05-18 2017-08-04 北京爱格信达科技有限公司 3d放映装置及3d放映系统
CN112307030A (zh) * 2020-11-05 2021-02-02 金蝶软件(中国)有限公司 一种维度组合获取方法及相关设备

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4435613B2 (ja) 2003-10-14 2010-03-24 ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト 版の画像付け装置
JP5311887B2 (ja) * 2008-06-09 2013-10-09 キヤノン株式会社 走査型表示装置
JP6056770B2 (ja) * 2011-12-20 2017-01-11 株式会社ニコン 基板処理装置、デバイス製造システム、及びデバイス製造方法
JP2014130297A (ja) * 2012-12-29 2014-07-10 Cerma Precision Inc 投影光学系、露光装置、スキャン露光装置及び表示パネルの製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4031418A1 (de) * 1989-10-04 1991-04-18 Mitsubishi Paper Mills Ltd Abtastaufnahmevorrichtung und plattenherstellungsverfahren
DE59105735D1 (de) * 1990-05-02 1995-07-20 Fraunhofer Ges Forschung Belichtungsvorrichtung.
JP3355631B2 (ja) * 1991-07-05 2002-12-09 ソニー株式会社 レーザ製版装置及び製版方法
US5745153A (en) * 1992-12-07 1998-04-28 Eastman Kodak Company Optical means for using diode laser arrays in laser multibeam printers and recorders
JP3856881B2 (ja) * 1996-05-17 2006-12-13 株式会社リコー 光走査装置
US5930019A (en) 1996-12-16 1999-07-27 Fuji Xerox Co., Ltd. Light scanning device, optical device, and scanning method of optical device
IL120841A (en) * 1997-05-16 2001-07-24 Creoscitex Corp Ltd Writing heads with an array of laser diodes that can be turned separately
JPH11194287A (ja) * 1998-01-05 1999-07-21 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
DE19906874C1 (de) * 1999-02-18 2001-01-11 Zeiss Carl Jena Gmbh Relaisoptik für ein Ablenksystem sowie ein Ablenksystem
JP4497618B2 (ja) * 2000-02-01 2010-07-07 キヤノン株式会社 光走査光学系と光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
DE10115875A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-10 Heidelberger Druckmasch Ag Bebilderungseinrichtung für eine Druckform mit einer Makrooptik vom Offner-Typ

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101827707B (zh) * 2007-10-17 2012-01-25 伊斯曼柯达公司 创建均匀成像表面
US9513484B2 (en) 2012-09-07 2016-12-06 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Method and device for focusing laser light
CN104718486B (zh) * 2012-09-07 2017-05-17 Limo专利管理有限及两合公司 用于聚焦激光的方法和设备
CN107015430A (zh) * 2017-05-18 2017-08-04 北京爱格信达科技有限公司 3d放映装置及3d放映系统
CN112307030A (zh) * 2020-11-05 2021-02-02 金蝶软件(中国)有限公司 一种维度组合获取方法及相关设备
CN112307030B (zh) * 2020-11-05 2023-12-26 金蝶软件(中国)有限公司 一种维度组合获取方法及相关设备

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