JP3513724B2 - ラスタ走査システム - Google Patents
ラスタ走査システムInfo
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/124—Details of the optical system between the light source and the polygonal mirror
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はマルチビームレーザーダ
イオードを有するラスタ出力スキャナーに関し、より詳
細にはレーザーダイオードビーム分離を制御するために
ズームシステムを用いるラスタ出力スキャナーに関す
る。 【０００２】 【従来の技術】図１を参照すると、従来のマルチビーム
ラスタ出力スキャナー１０のサジタル図が示されてお
り、該スキャナー１０はマルチチャンネルレーザーダイ
オード１２、コリメートレンズ（collimating lens) １
４、スポットサイズ制御開口１６、ポリゴン前光学系１
８、走査ポリゴンミラー２０、ポリゴン後光学系２２及
び受光面２４を用いる。コリメートレンズ１４はレーザ
ーダイオード１２の異なるチャンネルから種々のビーム
２６を受け取る。コリメートレンズ１４から出るコリメ
ートされた（collimated) ビームは互いに向かって収束
し始め、ビームは全て開口１６の中心で互いに交差す
る。 【０００３】スポットサイズ制御開口１６は光をさえぎ
るのに使用される。スポットサイズ制御開口１６を通過
後、開口の中心２８で互いに交差したコリメートされた
ビーム２６は互いに発散し始める。サジタル面又は交差
走査面（cross-scan plane)では、ポリゴン前光学系１
８は各ビーム２６を回転ポリゴンミラー２０のファセッ
ト（面）に近い点のスポットに個々に焦点を合わせ、一
方、高速走査面（fast-scan plane)ではビームが回転ポ
リゴンミラーのファセットに突き当たるときには光ビー
ムはコリメートされたままである。 【０００４】回転ポリゴンミラー２０は、反射された光
ビームを回転ポリゴンミラーの反射点に近い軸の周りで
回転させる。簡潔にするため、回転ポリゴンミラーはラ
イン２０で示され、回転ポリゴンミラー２０から反射さ
れた光ビームの光軸は変わらない(unfolded)。ポリゴン
後光学系は反射された光ビームを受光面２４に結像す
る。反射された光ビームは、ラスタ入力スキャナーとし
て画像形成システムの入力端で文書を走査するのに使用
されることが可能であり、又はラスタ出力スキャナーと
して出力モードで静電写真ドラム（受光体（例えば、感
光体））等の感光媒体に突き当たるように使用されるこ
とが可能である。受光面２４では、隣接するスポットの
中心同士の間に距離３０が存在し、該距離は以下 "スポ
ット分離"という。 【０００５】マルチビーム走査システムにおいて、スポ
ット分離３０は重要な要素である。複数のスポットを同
時に走査するには、受光面における精密なスポット分離
の選択が必要である。しかし、スポット分離はマルチビ
ーム光源の空間的配置、ポリゴン前光学系、ポリゴン後
光学系、オプトメカニカルハウジング等の加工誤差や製
造公差に敏感である。各個別の要素又は要素の組合せの
加工誤差又は製造公差は、スポット分離の誤差を生じ
る。 【０００６】一般に、従来の走査システムにおいて、ス
ポット分離誤差を補償するためになされたいかなる調整
も、該調整によりスポット分離が補正される一方でスポ
ットの焦点のずれも生じるため、満足できるものではな
い。 【０００７】スポット分離誤差を補正するための別のア
プローチは、スポット分離誤差に影響を与える種々の部
品の公差を小さくすることである。しかし、この手段は
コストが高く実用的ではない。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、交差
走査面において、ラスタスキャナーの光学素子の製造公
差により生じるスポット分離誤差を補正する光学手段を
提供することである。 【０００９】 【課題を解決するための手段と作用】本発明に従って、
スポット分離誤差補正システムが、レーザーダイオード
ラスタスキャナー光学システムのコリメーターとポリゴ
ンとの間に配置される。二つの光軸方向に調整可能なレ
ンズ（axially adjustable lenses)を含むスポット分離
誤差補正システムは、画像面を変えることなく全体のシ
ステムの倍率を変える調整システムを提供する。このこ
とにより、スポットがポリゴンミラー上に焦点が合った
まま、回転ポリゴンミラー上のスポット分離が変化され
る。ポリゴンミラー上のスポット分離の変化はまた受光
体上のスポット分離も変化させ、回転ポリゴンミラー上
のスポットが焦点が合っているため、受光面上のスポッ
トも焦点が合ったままである。 【００１０】本発明の請求項１の態様は、スポット分離
誤差補正システムを有するラスタ走査システムであっ
て、複数の光ビームを放出する光源を含み、媒体を含
み、前記光源と前記媒体との間に配置される走査手段を
含み、前記手段が光ビームを受け取り、前記光ビームを
高速走査面で前記媒体を横切って走査し、光ビームを実
質的にコリメートするために前記光源と前記走査手段と
の間に配置されるコリメート手段を含み、交差走査面に
おける前記走査手段上の画像面にビームを結像するため
のスポット分離誤差補正システムを含み、前記スポット
分離誤差補正システムが、前記コリメート手段と前記走
査手段との間の光ビームの経路に配置された第１の光軸
方向に調整可能な光学手段を有し、前記スポット分離誤
差補正システムが、前記第１の光軸方向に調整可能な光
学手段と前記走査手段との間の光ビームの経路に配置さ
れた第２の光軸方向に調整可能な光学手段を有し、前記
第１及び第２の光軸方向に調整可能な光学手段が予め決
定された関係で同時の光軸方向の動作のために相互接続
され、前記走査手段と前記媒体との間に配置される走査
後光学手段を含み、前記手段が高速走査面及び交差走査
面の双方において前記走査手段から光ビームを受け取っ
て光ビームを前記媒体上へ焦点を合わせ、前記スポット
分離誤差補正システムの画像面が前記走査手段に残り、
且つ前記走査手段の倍率が変化して前記媒体上のスポッ
ト分離誤差を実質的に補正するように、前記第１の光軸
方向に調整可能な光学手段及び第２の光軸方向に調整可
能な光学手段が互いに関連して構成され、配置される。 【００１１】 【実施例】ここで図２が参照され、本発明のラスタスキ
ャナー光学システム５０が示される。本発明では、図１
の従来技術のポリゴン前光学系１８がスポット分離誤差
補正システム５２により取り替えられる。 【００１２】マルチチャンネルレーザーダイオード１２
が複数の光ビームをコリメートレンズ１４へ放出し、コ
リメートレンズ１４は光ビームをコリメートし、制御開
口１６及びスポット分離誤差補正システム５２を介して
光ビームを回転ポリゴンミラー２０へそれぞれ送る。図
２では、簡潔にするため、回転ポリゴンミラーはライン
２０で示され、回転ポリゴンミラー２０から反射された
光ビームの光軸は変わらない。 【００１３】スポット分離誤差補正システム５２は各ビ
ーム２６をサジタル面又は交差走査面で回転ポリゴンミ
ラー２０のファセット上のスポットに個々に焦点を合わ
せる。実用的な適用に際しては、光ビームはファセット
から±１ミリメーターの範囲でファセットの近くに焦点
を合わせることができる。本発明の適用に関し、 "ファ
セット上に" という用語はこの範囲を含む。高速走査面
では、ビームが回転ポリゴンミラーのファセットに突き
当たるときに光ビームはコリメートされたままである。 【００１４】回転ポリゴンミラー２０は、反射された光
ビームを回転ポリゴンミラーの反射点に近い軸の周りで
回転させる。ポリゴン後光学系２２は反射された光ビー
ムを受光面２４に結像する。 【００１５】可変パワーシステム即ちズームシステムで
あるスポット分離誤差補正システム５２は、ラスタスキ
ャナー５０のいずれかの光学素子の製造公差により生じ
るスポット分離誤差を補正する。簡潔にするため、以下
スポット分離誤差補正システム５２は "ズームシステム
５２" という。 【００１６】ズームシステム５２は、必要なスポット分
離を達成するために全体のシステムの交差走査倍率を調
整する。ズームシステム５２は二つの光軸方向に調整可
能なレンズ５４及び５６を含む。二つのレンズ５４及び
５６はサジタル面又は交差走査面においては円柱状であ
り、高速走査面では平面である。従って、コリメートさ
れた光ビーム２６は高速走査面ではコリメートされたま
まになり、交差走査面では回転ポリゴンミラー２０のフ
ァセット上に焦点が合わされる。 【００１７】作用としては、上記の理由のため、光ビー
ム２６はラスタ出力スキャナーの必要とされるスポット
分離以外のスポット分離で受光体上に焦点を合わせても
よい。例えば、光ビームは受光面２４上の５８や６０等
の点に焦点を合わせてもよいが、その場合スポット分離
は６２になる。しかし、必要とされるスポット分離は６
４である。 【００１８】スポット分離誤差を補正するための本発明
のアプローチは、受光体上のスポット分離を変化させる
回転ポリゴンミラー上のスポット分離を調整することで
ある。従って、受光体２４上のスポット分離を６２から
６４へ増やすためには、ポリゴン上のスポット分離が６
６から６８へ増やされるべきである。 【００１９】図３及び図４を参照すると、ズームシステ
ム５２の二つのレンズ５４及び５６を調整する二つの例
が示されている。図２、３及び４において、点線はスポ
ット分離誤差を補正するために調整されていないラスタ
走査システム５０を通過する光ビームを示し、実線はス
ポット分離誤差を補正するために調整されているラスタ
走査システム５０を通過する光ビームを表す。また、調
整されていないレンズ５４及び５６の位置は点線で示さ
れ、調整されたレンズ５４及び５６の位置は実線で示さ
れる。 【００２０】図３及び４を参照すると、示されるよう
に、二つのレンズ５４及び５６を調整することによりズ
ームシステムの倍率が変化し、回転ポリゴンミラー２０
上のスポット分離が変化する。しかし、スポット分離誤
差補正システムはズームシステムのため、二つのレンズ
を互いに予め決定された関係で移動させることによりシ
ステムの焦点距離は変化するが、結像面は変わらない。 【００２１】例えば図３では、二つのレンズ５４及び５
６を互いに向かって（点線で示される位置から実線で示
される位置へ）移動させることにより、ズームシステム
の焦点距離は長くなる。従って、回転ポリゴンミラー上
のスポット分離は６６から６８に増加する。しかし、図
４を参照すると、二つのレンズ５４及び５６を互いに離
れるように移動させることにより、ズームシステムの焦
点距離は短くなる。従って、回転ポリゴン上のスポット
分離は６６から７０に減少する。 【００２２】再び図２を参照すると、二つのレンズ５４
及び５６を互いに予め決定された関係で調整することに
より、ポリゴン上の倍率を増大させることが可能であ
る。倍率を増大することにより、回転ポリゴン上のスポ
ット分離は増加し、結果として受光面上の倍率もまた変
化し、受光体上のスポット分離が増加する。図２の例で
は、ズームシステム５２の調整後、光ビームは受光面２
４上の点５８′及び６０′に焦点を合わせ、その場合ス
ポット分離は、必要とされるスポット分離である６４に
なる。 【００２３】図２の例において、スポット分離を増やす
必要があったことに注目すべきである。しかし、ズーム
システムを調整することにより、倍率及び結果としてス
ポット分離は、必要に応じて増加又は減少できる。 【００２４】図５、６及び７を参照すると、ズームシス
テム５２は三つの異なる配置を有することが可能であ
る。それらは、正レンズ５６が後ろに配される負レンズ
５４（図５）、負レンズ５６′が後ろに配される正レン
ズ５４′（図６）及び二つの正レンズ５４″と５６″
（図７）である。 【００２５】正レンズは両凸、平凸、凸平又はメニスカ
ス状のうちのどれかであるように設計されることが可能
であり、負レンズは両凹、平凹、凹平又はメニスカス状
のうちのどれかであるように設計されることが可能であ
ることに注目すべきである。 【００２６】ズームシステムの可変パワー範囲（variab
le power range) にわたり、各配置において、各倍率値
につき二つのレンズの各々に対して予め決定された位置
が存在することにも注目すべきである。レンズの予め決
定された位置は、手作業による調整、機械カムを使用す
る機械調整、又は他の機械手段により達成される。 【００２７】 【発明の効果】本発明によれば、ズームシステムを用い
ることによりスポット分離誤差の補正が可能なラスタ走
査システムが得られる。
イオードを有するラスタ出力スキャナーに関し、より詳
細にはレーザーダイオードビーム分離を制御するために
ズームシステムを用いるラスタ出力スキャナーに関す
る。 【０００２】 【従来の技術】図１を参照すると、従来のマルチビーム
ラスタ出力スキャナー１０のサジタル図が示されてお
り、該スキャナー１０はマルチチャンネルレーザーダイ
オード１２、コリメートレンズ（collimating lens) １
４、スポットサイズ制御開口１６、ポリゴン前光学系１
８、走査ポリゴンミラー２０、ポリゴン後光学系２２及
び受光面２４を用いる。コリメートレンズ１４はレーザ
ーダイオード１２の異なるチャンネルから種々のビーム
２６を受け取る。コリメートレンズ１４から出るコリメ
ートされた（collimated) ビームは互いに向かって収束
し始め、ビームは全て開口１６の中心で互いに交差す
る。 【０００３】スポットサイズ制御開口１６は光をさえぎ
るのに使用される。スポットサイズ制御開口１６を通過
後、開口の中心２８で互いに交差したコリメートされた
ビーム２６は互いに発散し始める。サジタル面又は交差
走査面（cross-scan plane)では、ポリゴン前光学系１
８は各ビーム２６を回転ポリゴンミラー２０のファセッ
ト（面）に近い点のスポットに個々に焦点を合わせ、一
方、高速走査面（fast-scan plane)ではビームが回転ポ
リゴンミラーのファセットに突き当たるときには光ビー
ムはコリメートされたままである。 【０００４】回転ポリゴンミラー２０は、反射された光
ビームを回転ポリゴンミラーの反射点に近い軸の周りで
回転させる。簡潔にするため、回転ポリゴンミラーはラ
イン２０で示され、回転ポリゴンミラー２０から反射さ
れた光ビームの光軸は変わらない(unfolded)。ポリゴン
後光学系は反射された光ビームを受光面２４に結像す
る。反射された光ビームは、ラスタ入力スキャナーとし
て画像形成システムの入力端で文書を走査するのに使用
されることが可能であり、又はラスタ出力スキャナーと
して出力モードで静電写真ドラム（受光体（例えば、感
光体））等の感光媒体に突き当たるように使用されるこ
とが可能である。受光面２４では、隣接するスポットの
中心同士の間に距離３０が存在し、該距離は以下 "スポ
ット分離"という。 【０００５】マルチビーム走査システムにおいて、スポ
ット分離３０は重要な要素である。複数のスポットを同
時に走査するには、受光面における精密なスポット分離
の選択が必要である。しかし、スポット分離はマルチビ
ーム光源の空間的配置、ポリゴン前光学系、ポリゴン後
光学系、オプトメカニカルハウジング等の加工誤差や製
造公差に敏感である。各個別の要素又は要素の組合せの
加工誤差又は製造公差は、スポット分離の誤差を生じ
る。 【０００６】一般に、従来の走査システムにおいて、ス
ポット分離誤差を補償するためになされたいかなる調整
も、該調整によりスポット分離が補正される一方でスポ
ットの焦点のずれも生じるため、満足できるものではな
い。 【０００７】スポット分離誤差を補正するための別のア
プローチは、スポット分離誤差に影響を与える種々の部
品の公差を小さくすることである。しかし、この手段は
コストが高く実用的ではない。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、交差
走査面において、ラスタスキャナーの光学素子の製造公
差により生じるスポット分離誤差を補正する光学手段を
提供することである。 【０００９】 【課題を解決するための手段と作用】本発明に従って、
スポット分離誤差補正システムが、レーザーダイオード
ラスタスキャナー光学システムのコリメーターとポリゴ
ンとの間に配置される。二つの光軸方向に調整可能なレ
ンズ（axially adjustable lenses)を含むスポット分離
誤差補正システムは、画像面を変えることなく全体のシ
ステムの倍率を変える調整システムを提供する。このこ
とにより、スポットがポリゴンミラー上に焦点が合った
まま、回転ポリゴンミラー上のスポット分離が変化され
る。ポリゴンミラー上のスポット分離の変化はまた受光
体上のスポット分離も変化させ、回転ポリゴンミラー上
のスポットが焦点が合っているため、受光面上のスポッ
トも焦点が合ったままである。 【００１０】本発明の請求項１の態様は、スポット分離
誤差補正システムを有するラスタ走査システムであっ
て、複数の光ビームを放出する光源を含み、媒体を含
み、前記光源と前記媒体との間に配置される走査手段を
含み、前記手段が光ビームを受け取り、前記光ビームを
高速走査面で前記媒体を横切って走査し、光ビームを実
質的にコリメートするために前記光源と前記走査手段と
の間に配置されるコリメート手段を含み、交差走査面に
おける前記走査手段上の画像面にビームを結像するため
のスポット分離誤差補正システムを含み、前記スポット
分離誤差補正システムが、前記コリメート手段と前記走
査手段との間の光ビームの経路に配置された第１の光軸
方向に調整可能な光学手段を有し、前記スポット分離誤
差補正システムが、前記第１の光軸方向に調整可能な光
学手段と前記走査手段との間の光ビームの経路に配置さ
れた第２の光軸方向に調整可能な光学手段を有し、前記
第１及び第２の光軸方向に調整可能な光学手段が予め決
定された関係で同時の光軸方向の動作のために相互接続
され、前記走査手段と前記媒体との間に配置される走査
後光学手段を含み、前記手段が高速走査面及び交差走査
面の双方において前記走査手段から光ビームを受け取っ
て光ビームを前記媒体上へ焦点を合わせ、前記スポット
分離誤差補正システムの画像面が前記走査手段に残り、
且つ前記走査手段の倍率が変化して前記媒体上のスポッ
ト分離誤差を実質的に補正するように、前記第１の光軸
方向に調整可能な光学手段及び第２の光軸方向に調整可
能な光学手段が互いに関連して構成され、配置される。 【００１１】 【実施例】ここで図２が参照され、本発明のラスタスキ
ャナー光学システム５０が示される。本発明では、図１
の従来技術のポリゴン前光学系１８がスポット分離誤差
補正システム５２により取り替えられる。 【００１２】マルチチャンネルレーザーダイオード１２
が複数の光ビームをコリメートレンズ１４へ放出し、コ
リメートレンズ１４は光ビームをコリメートし、制御開
口１６及びスポット分離誤差補正システム５２を介して
光ビームを回転ポリゴンミラー２０へそれぞれ送る。図
２では、簡潔にするため、回転ポリゴンミラーはライン
２０で示され、回転ポリゴンミラー２０から反射された
光ビームの光軸は変わらない。 【００１３】スポット分離誤差補正システム５２は各ビ
ーム２６をサジタル面又は交差走査面で回転ポリゴンミ
ラー２０のファセット上のスポットに個々に焦点を合わ
せる。実用的な適用に際しては、光ビームはファセット
から±１ミリメーターの範囲でファセットの近くに焦点
を合わせることができる。本発明の適用に関し、 "ファ
セット上に" という用語はこの範囲を含む。高速走査面
では、ビームが回転ポリゴンミラーのファセットに突き
当たるときに光ビームはコリメートされたままである。 【００１４】回転ポリゴンミラー２０は、反射された光
ビームを回転ポリゴンミラーの反射点に近い軸の周りで
回転させる。ポリゴン後光学系２２は反射された光ビー
ムを受光面２４に結像する。 【００１５】可変パワーシステム即ちズームシステムで
あるスポット分離誤差補正システム５２は、ラスタスキ
ャナー５０のいずれかの光学素子の製造公差により生じ
るスポット分離誤差を補正する。簡潔にするため、以下
スポット分離誤差補正システム５２は "ズームシステム
５２" という。 【００１６】ズームシステム５２は、必要なスポット分
離を達成するために全体のシステムの交差走査倍率を調
整する。ズームシステム５２は二つの光軸方向に調整可
能なレンズ５４及び５６を含む。二つのレンズ５４及び
５６はサジタル面又は交差走査面においては円柱状であ
り、高速走査面では平面である。従って、コリメートさ
れた光ビーム２６は高速走査面ではコリメートされたま
まになり、交差走査面では回転ポリゴンミラー２０のフ
ァセット上に焦点が合わされる。 【００１７】作用としては、上記の理由のため、光ビー
ム２６はラスタ出力スキャナーの必要とされるスポット
分離以外のスポット分離で受光体上に焦点を合わせても
よい。例えば、光ビームは受光面２４上の５８や６０等
の点に焦点を合わせてもよいが、その場合スポット分離
は６２になる。しかし、必要とされるスポット分離は６
４である。 【００１８】スポット分離誤差を補正するための本発明
のアプローチは、受光体上のスポット分離を変化させる
回転ポリゴンミラー上のスポット分離を調整することで
ある。従って、受光体２４上のスポット分離を６２から
６４へ増やすためには、ポリゴン上のスポット分離が６
６から６８へ増やされるべきである。 【００１９】図３及び図４を参照すると、ズームシステ
ム５２の二つのレンズ５４及び５６を調整する二つの例
が示されている。図２、３及び４において、点線はスポ
ット分離誤差を補正するために調整されていないラスタ
走査システム５０を通過する光ビームを示し、実線はス
ポット分離誤差を補正するために調整されているラスタ
走査システム５０を通過する光ビームを表す。また、調
整されていないレンズ５４及び５６の位置は点線で示さ
れ、調整されたレンズ５４及び５６の位置は実線で示さ
れる。 【００２０】図３及び４を参照すると、示されるよう
に、二つのレンズ５４及び５６を調整することによりズ
ームシステムの倍率が変化し、回転ポリゴンミラー２０
上のスポット分離が変化する。しかし、スポット分離誤
差補正システムはズームシステムのため、二つのレンズ
を互いに予め決定された関係で移動させることによりシ
ステムの焦点距離は変化するが、結像面は変わらない。 【００２１】例えば図３では、二つのレンズ５４及び５
６を互いに向かって（点線で示される位置から実線で示
される位置へ）移動させることにより、ズームシステム
の焦点距離は長くなる。従って、回転ポリゴンミラー上
のスポット分離は６６から６８に増加する。しかし、図
４を参照すると、二つのレンズ５４及び５６を互いに離
れるように移動させることにより、ズームシステムの焦
点距離は短くなる。従って、回転ポリゴン上のスポット
分離は６６から７０に減少する。 【００２２】再び図２を参照すると、二つのレンズ５４
及び５６を互いに予め決定された関係で調整することに
より、ポリゴン上の倍率を増大させることが可能であ
る。倍率を増大することにより、回転ポリゴン上のスポ
ット分離は増加し、結果として受光面上の倍率もまた変
化し、受光体上のスポット分離が増加する。図２の例で
は、ズームシステム５２の調整後、光ビームは受光面２
４上の点５８′及び６０′に焦点を合わせ、その場合ス
ポット分離は、必要とされるスポット分離である６４に
なる。 【００２３】図２の例において、スポット分離を増やす
必要があったことに注目すべきである。しかし、ズーム
システムを調整することにより、倍率及び結果としてス
ポット分離は、必要に応じて増加又は減少できる。 【００２４】図５、６及び７を参照すると、ズームシス
テム５２は三つの異なる配置を有することが可能であ
る。それらは、正レンズ５６が後ろに配される負レンズ
５４（図５）、負レンズ５６′が後ろに配される正レン
ズ５４′（図６）及び二つの正レンズ５４″と５６″
（図７）である。 【００２５】正レンズは両凸、平凸、凸平又はメニスカ
ス状のうちのどれかであるように設計されることが可能
であり、負レンズは両凹、平凹、凹平又はメニスカス状
のうちのどれかであるように設計されることが可能であ
ることに注目すべきである。 【００２６】ズームシステムの可変パワー範囲（variab
le power range) にわたり、各配置において、各倍率値
につき二つのレンズの各々に対して予め決定された位置
が存在することにも注目すべきである。レンズの予め決
定された位置は、手作業による調整、機械カムを使用す
る機械調整、又は他の機械手段により達成される。 【００２７】 【発明の効果】本発明によれば、ズームシステムを用い
ることによりスポット分離誤差の補正が可能なラスタ走
査システムが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術のラスタ出力スキャナーである。
【図２】スポット分離誤差補正システムを有する本発明
のラスタ出力スキャナーである。 【図３】倍率を増大するために調整された図２のスポッ
ト分離誤差補正ブロックである。 【図４】倍率を縮小するために調整された図２のスポッ
ト分離誤差補正ブロックである。 【図５】正レンズが負レンズの後ろに配される図２のス
ポット分離誤差補正ブロックである。 【図６】負レンズが正レンズの後ろに配される図２のス
ポット分離誤差補正ブロックである。 【図７】二つの正レンズを有する図２のスポット分離誤
差補正ブロックである。 【符号の説明】 １２ レーザーダイオード １４ コリメーターレンズ １６ スポットサイズ制御開口 ２０ ポリゴンミラー ２２ ポリゴン後光学系 ２４ 受光面 ２６ 光ビーム ５０ ラスタ走査システム ５２ スポット分離誤差補正システム ５４、５６ 光軸方向に調整可能なレンズ ５８、５８′、６０、６０′ 受光面２４上の点 ６２、６４ 受光体２４上のスポット分離 ６６、６８ 回転ポリゴンミラー２０上のスポット分
離
のラスタ出力スキャナーである。 【図３】倍率を増大するために調整された図２のスポッ
ト分離誤差補正ブロックである。 【図４】倍率を縮小するために調整された図２のスポッ
ト分離誤差補正ブロックである。 【図５】正レンズが負レンズの後ろに配される図２のス
ポット分離誤差補正ブロックである。 【図６】負レンズが正レンズの後ろに配される図２のス
ポット分離誤差補正ブロックである。 【図７】二つの正レンズを有する図２のスポット分離誤
差補正ブロックである。 【符号の説明】 １２ レーザーダイオード １４ コリメーターレンズ １６ スポットサイズ制御開口 ２０ ポリゴンミラー ２２ ポリゴン後光学系 ２４ 受光面 ２６ 光ビーム ５０ ラスタ走査システム ５２ スポット分離誤差補正システム ５４、５６ 光軸方向に調整可能なレンズ ５８、５８′、６０、６０′ 受光面２４上の点 ６２、６４ 受光体２４上のスポット分離 ６６、６８ 回転ポリゴンミラー２０上のスポット分
離
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 スポット分離誤差補正システムを有する
ラスタ走査システムであって、 複数の光ビームを放出する光源を含み、 媒体を含み、 前記光源と前記媒体との間に配置される走査手段を含
み、前記手段が光ビームを受け取り、前記光ビームを高
速走査面で前記媒体を横切って走査し、 光ビームを実質的にコリメートするために前記光源と前
記走査手段との間に配置されるコリメート手段を含み、 交差走査面における前記走査手段上の画像面にビームを
結像するためのスポット分離誤差補正システムを含み、 前記スポット分離誤差補正システムが、前記コリメート
手段と前記走査手段との間の光ビームの経路に配置され
た第１の光軸方向に調整可能な光学手段を有し、 前記スポット分離誤差補正システムが、前記第１の光軸
方向に調整可能な光学手段と前記走査手段との間の光ビ
ームの経路に配置された第２の光軸方向に調整可能な光
学手段を有し、 前記第１及び第２の光軸方向に調整可能な光学手段が予
め決定された関係で同時の光軸方向の動作のために相互
接続され、 前記走査手段と前記媒体との間に配置される走査後光学
手段を含み、前記手段が高速走査面及び交差走査面の双
方において前記走査手段から光ビームを受け取って光ビ
ームを前記媒体上へ焦点を合わせ、 前記スポット分離誤差補正システムの画像面が前記走査
手段に残り、且つ前記走査手段の倍率が変化して前記媒
体上のスポット分離誤差を実質的に補正するように、前
記第１の光軸方向に調整可能な光学手段及び第２の光軸
方向に調整可能な光学手段が互いに関連して構成され、
配置される、 ラスタ走査システム。
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