CN1453648A - 用以显影液晶显示器的装置与方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用以显影大尺寸液晶显示器装置与方法。上述装置包括一条形显影剂喷嘴以及一条形显影剂吸嘴。上述条形显影剂喷嘴被安装在离一基底一预定距离之处并且喷涂显影剂在上述基底之上。上述条形显影剂吸嘴与上述条形显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离,并以真空状态来收集由上述显影剂喷嘴所喷涂的显影剂,且清除所喷涂的显影剂。因此,可将上述装置与方法应用至清洗工艺、剥离工艺、显影工艺以及蚀刻工艺。

Description

用以显影液晶显示器的装置与方法
技术领域
本发明关于一种液晶显示器,且特别是有关于一种使用于显影、清洗、剥离以及蚀刻工艺以制造液晶显示器的显影装置与方法。
背景技术
半导体基底及液晶显示器(LCD)基底的光影蚀刻工艺(photolithographic process)通常以下列顺序进行:以一光阻层涂布(coating)一基底的涂布工艺、以放射光线在上述基底上形成一图像的曝光(exposure)工艺、以及显影上述已曝光基底的显影工艺。
图1至图5为如先前技艺所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。
图1及图2为用以说明涂布显影剂工艺的平面图,而图3则是图2的断面图。详细来说,以光阻层30涂布作为液晶显示器(LCD)的基底1(例如玻璃)并且将其曝光以完成图样20。上述合成结构将安装在一显影装置的旋转卡盘50上,然后将显影剂喷嘴10移向已经曝光的基底1。此后,当显影剂喷嘴10沿着图2及图3的箭头所指方向移动时将喷涂显影剂,由此形成显影剂搅拌层(developer puddle)40。上述用以形成显影剂搅拌层40的合成结构通过自然对流电流来显影并悬吊一预定期间。
图4为用以说明清除显影装置的显影剂的工艺的断面图,而图5则为一个完全显影的基底的断面图。详细来说,完全地显影已经涂布光阻层30的基底1。通过旋转卡盘50的旋转能够从基底1清除上述显影剂。此后,由清洗溶液供应喷嘴(未显示)排放清洗溶液,由此清洗所喷涂的显影剂。其次,在残留的显影剂及清洗溶液经由旋转卡盘50的旋转而完全清除之后,上述系列的工艺将结束。参考数字52与54分别表示一轴与一旋转马达。
然而,上述方法适用于较小的液晶显示器(LCD)。当液晶显示器(LCD)的尺寸增加至大约1000毫米(mm)×1000毫米(mm)时,安装一液晶显示器(LCD)在一旋转卡盘上以及通过旋转上述旋转卡盘而从上述液晶显示器(LCD)清除显影剂是相当困难的。虽然可能使用大型显影装置,但是将伴随安装大型显影装置的限制以及组装大型显影装置的机械限制。
发明内容
因此,本发明提供一种利用一新方法取代一现存方法以显影大尺寸液晶显示器(LCD)的显影装置。
本发明也提供一种利用上述显影装置来显影液晶显示器(LCD)的方法。
根据本发明的一观点,在此提供一种用以显影液晶显示器的装置。上述装置包括一条形显影剂喷嘴以及一条形显影剂吸嘴。上述条形显影剂喷嘴被安装在离一基底一预定距离之处并且喷涂一显影剂在上述基底之上。上述条形显影剂吸嘴与上述显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离,并以真空状态来收集由上述显影剂喷嘴所喷涂的显影剂,且清除所喷涂的显影剂。
较佳状况为上述条形显影剂喷嘴的上述预定距离是在0.5-5毫米(mm)的范围内并且上述条形显影剂吸嘴的上述预定距离是在5-50毫米(mm)的范围内。
上述装置除了上述条形显影剂吸嘴之外,可能又包括一显影剂喷嘴以及一显影剂吸嘴。
根据本发明的另一观点,在此也提供一种用以显影液晶显示器的方法。将完全曝光的一基底安装在一液晶显示器显影装置的卡盘上。利用一个安装于离上述基底一预定距离的显影剂喷嘴来喷涂一显影剂在上述基底之上。利用一个与上述显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离的显影剂吸嘴以真空状态来收集所喷涂的显影剂,并且清除所收集的显影剂。
当上述液晶显示器显影装置的卡盘以一预定方向移动时或当上述显影剂喷嘴及上述显影剂吸嘴以一预定方向移动时执行喷涂及收集上述显影剂。
利用一个或多个显影剂喷嘴以及一个或多个显影剂吸嘴能够有效地执行喷涂及收集上述显影剂。
如本发明所述,能够平稳且有效地执行显影大尺寸液晶显示器(LCD)的工艺。并且,利用一个或多个显影剂喷嘴以及一个或多个显影剂吸嘴,可更加增进上述显影工艺的效率并且可减少上述显影工艺所需的时间。
附图说明
图1至图5为如先前技艺所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。
图6及图7为如本发明的一实施例所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。
图8及图9为如本发明的另一实施例所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。
1:基底
10:显影剂喷嘴
20:图样
30:光阻层
40:显影剂搅拌层
50:旋转卡盘
52:轴
54:旋转马达
100:显影剂喷嘴
102:显影剂吸嘴
200:玻璃层
202:光阻层
204:基底
300:显影剂喷嘴
302:显影剂吸嘴
具体实施方式
以下,本发明的较佳实施例将参照所附图式予以详细地说明。
图6及图7为如本发明的一实施例所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。
图6为用以说明如本发明所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置的断面图。参照图6,上述装置包括一显影剂喷嘴100以及一显影剂吸嘴102。显影剂喷嘴100为条形,并被安装在距离完全曝光的基底204大约0.5-5毫米(mm)之处且喷涂一显影剂在基底204之上。显影剂吸嘴102为条形,与显影剂喷嘴100的一侧保持5-50毫米(mm)的距离,并以真空状态来收集由显影剂喷嘴100所喷涂的显影剂,且清除上述显影剂。于图6中,箭头路径代表喷涂及收集显影剂的行进方向。完全曝光的基底204,经参考上述合成结构,其中以完全曝光的光阻层202涂布玻璃层200。因此,利用如本发明所述的显影方法比起现存方法(亦即旋转基底的方法)能更有效地涂布大尺寸液晶显示器(LCD)。
图7为用以说明一种利用如本发明所述的液晶显示器(LCD)显影装置来显影液晶显示器(LCD)的方法的平面图。详细来说,完全曝光的基底204被安装在一显影装置的一卡盘(未显示)上。其次,安装在距离基底204一预定距离的显影剂喷嘴100由左向右移动(亦即以大箭头方向)来喷涂一显影剂。因此,如图7的箭头A所示上述显影剂由显影剂喷嘴100散布至外面。如图7的箭头B所示,安装在距离显影剂喷嘴100有5-50毫米(mm)的显影剂吸嘴102以真空状态来收集所喷涂的显影剂,并且由基底204清除所喷涂的显影剂。
喷涂及收集显影剂的工艺可能在显影装置的卡盘沿着图7的大箭头所表示的方向移动而且显影剂喷嘴100及显影剂吸嘴102固定时执行。或者,喷涂及收集显影剂的工艺可能在显影剂喷嘴100及显影剂吸嘴102沿着相同的方向移动而且显影装置的卡盘固定时执行。
图8及图9为如本发明的另一实施例所述的一种用以显影液晶显示器(LCD)的装置与方法的示意图。参照图8及图9,于本实施例中更包括显影剂喷嘴300及显影剂吸嘴302。如此,显影剂喷嘴100与300成为一组而显影剂吸嘴102与302成为另一组。因此,显影工艺可以更有效地实施并且可以减少显影工艺所需的时间。
因此,如本发明所述,能够更有效地执行用以显影、清洗、剥离以及蚀刻大尺寸液晶显示器(LCD)基底的工艺。并且,因为可以安装一个或多个显影剂喷嘴以及一个或多个显影剂吸嘴,所以可更加增进显影工艺的效率并且可减少显影工艺所需的时间。
本发明在不脱离其精神和范围的情况下,可以根据其它不同的方法来实施。例如,于上述实施例中,显影装置是一种使用显影剂喷嘴以及显影剂吸嘴的装置。然而,上述装置可能是清洗装置、剥离装置或蚀刻装置。并且,液晶显示器(LCD)的基底可能以使用于制造半导体组件的晶圆来取代。

Claims (8)

1.一种用以显影一液晶显示器的装置,其特征是,该装置包括:
一条形显影剂喷嘴,该喷嘴被安装在离一基底一预定距离之处并且喷涂一显影剂在该基底之上;以及
一条形显影剂吸嘴,该吸嘴与该显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离,并以一真空状态来收集由该显影剂喷嘴所喷涂的该显影剂,且清除所喷涂的该显影剂。
2.如权利要求1所述的装置,其特征是,该条形显影剂喷嘴的该预定距离是在0.5-5毫米的范围内。
3.如权利要求1所述的装置,其特征是,该条形显影剂吸嘴的该预定距离是在5-50毫米的范围内。
4.如权利要求1所述的装置,其特征是,该装置除了该条形显影剂吸嘴之外更包括一显影剂喷嘴以及一显影剂吸嘴。
5.一种用以显影一液晶显示器的方法,其特征是,该方法包括:
(a)将完全曝光的一基底安装在一液晶显示器显影装置的一卡盘上;
(b)利用一个安装于离该基底一预定距离的显影剂喷嘴来喷涂一显影剂在该基底之上;以及
(c)利用一个与该显影剂喷嘴的一侧保持一预定距离的显影剂吸嘴以一真空状态来收集所喷涂的该显影剂,并且清除所收集的该显影剂。
6.如权利要求5项所述的方法,其特征是,当该液晶显示器显影装置的该卡盘以一预定方向移动时执行步骤(b)及(c)。
7.如权利要求5项所述的方法,其特征是,当该显影剂喷嘴及该显影剂吸嘴以一预定方向移动时执行步骤(b)及(c)。
8.如权利要求5项所述的方法,其特征是,利用一个或多个显影剂喷嘴以及一个或多个显影剂吸嘴能够有效地执行步骤(b)及(c)。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101697065B (zh) * 2003-12-26 2012-07-04 东京毅力科创株式会社 显影装置及显影方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4788785B2 (ja) * 2009-02-06 2011-10-05 東京エレクトロン株式会社 現像装置、現像処理方法及び記憶媒体
US9855579B2 (en) * 2014-02-12 2018-01-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Spin dispenser module substrate surface protection system

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06342782A (ja) * 1993-05-31 1994-12-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板表面処理装置
JP3116297B2 (ja) * 1994-08-03 2000-12-11 東京エレクトロン株式会社 処理方法及び処理装置
KR19980067128A (ko) * 1997-01-31 1998-10-15 김광호 반도체 현상공정의 공급노즐
JP3843200B2 (ja) * 2000-03-30 2006-11-08 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP2002075947A (ja) * 2000-08-30 2002-03-15 Alps Electric Co Ltd ウェット処理装置
JP2002110512A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Toshiba Corp 成膜方法及び成膜装置
JP4189141B2 (ja) * 2000-12-21 2008-12-03 株式会社東芝 基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101697065B (zh) * 2003-12-26 2012-07-04 东京毅力科创株式会社 显影装置及显影方法

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